【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光刻工艺，尤其涉及一种晶圆多层叠层的对准方法及装置。
技术介绍
1、光刻工艺中，光刻机的作用是，透过特定波段的ultraviolet照射事先定义图样的的光刻板遮挡且覆盖光刻胶的晶圆。
2、参照图2，现行光刻机进行光刻板上与晶圆对准图样结构图层对准时，因顾及后续各层与多层工艺后的重叠对准结构的确认，第一层的alignmentmark(校准标记)会大于大二层，且依此类推。后续曝光对准时，光学系统的视场受光刻板图样的遮蔽，影响晶圆的alignmentmark与光刻板markpattern(标记图案)对位的重合度。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是为了至少解决现有技术的不足之一，提供一种晶圆多层叠层的对准方法及装置。
2、为了实现上述目的，本专利技术采用以下的技术方案：
3、具体的，提出一种晶圆多层叠层的对准方法，包括以下：
4、步骤110、使晶圆、光刻板以及光学元件的几何中心处于相同的x轴及y轴坐标，但z轴坐标不同，其中光刻板位置不可移动，光学元件能够进行x轴与y轴移动，所述光学元件用于进行视场获取，且具有至少一个个别视场；
5、步骤120、在完成光刻板的标记图案与晶圆的校准标记的粗对准且确保标记图案与校准标记坐落在光学元件的个别视场内后，通过所述光学元件于其所有个别视场内获取对应的个别视场图像；
6、步骤130、通过边缘检测算法对所述个别视场图像进行轮廓提取得到轮廓图像；
7、步骤14
8、重复所述步骤130至步骤140直到获取所有个别视场图像所对应的绝对像素坐标，转至步骤150；
9、步骤150、移动所述光学元件，获取实时的各个别视场图像所对应的绝对像素坐标并定义为运动像素坐标；
10、步骤160、计算各个同一个别视场所获取运动像素坐标与绝对像素坐标之间的x轴坐标以及y轴坐标位移量，得到各个个别视场的x轴坐标以及y轴坐标位移量；
11、步骤170、判断所有个别视场相互之间的x轴坐标以及y轴坐标位移量是否相同，若是则表示晶圆与光刻板完成对准，若否则调整所述晶圆位置并重复所述步骤120至步骤170直到完成对准。
12、进一步，具体的，所述光学元件所具有的个别视场数量为2个，且呈两点斜对角的方式设置，且两个个别视场的几何中心的连线经过所述晶圆的圆心。
13、进一步，具体的，所述边缘检测算法采用laplaciancanny算法。
14、进一步，具体的，通过具有二维运动功能的晶圆承载机构控制晶圆于x、y轴移动。
15、进一步，具体的，所述轮廓边界特征点指的是处于所述轮廓图像最外侧的所有点，所述绝对像素坐标为所述轮廓边界特征点坐标的平均值。
16、本专利技术还提出一种晶圆多层叠层的对准装置，包括以下：
17、光学元件，所述光学元件用于进行视场获取，且具有至少一个个别视场，且晶圆、光刻板以及光学元件的几何中心处于相同的x轴及y轴坐标，但z轴坐标不同，其中光刻板位置不可移动，光学元件能够进行x轴与y轴移动；
18、晶圆承载机构，能够进行x、y轴的二维运动，用于带动晶圆进行x、y轴的二维运动；
19、控制部分，包括，
20、数据获取模块，用于通过所述光学元件于其所有个别视场内获取对应的个别视场图像；
21、图像处理模块，用于通过边缘检测算法对所述个别视场图像进行轮廓提取得到轮廓图像；
22、特征提取模块，用于获取所述轮廓图像的轮廓边界特征点，基于所述轮廓边界特征点定义出所述轮廓图像在系统坐标系下的绝对像素坐标，系统坐标系的原点定义为晶圆圆心位置；
23、绝对像素坐标计算模块，用于重复运行所述图像处理模块与特征提取模块直到获取所有个别视场图像所对应的绝对像素坐标；
24、动态数据获取模块，用于移动所述光学元件，获取实时的各个别视场图像所对应的绝对像素坐标并定义为运动像素坐标；
25、位移量计算模块，用于计算各个同一个别视场所获取运动像素坐标与绝对像素坐标之间的x轴坐标以及y轴坐标位移量，得到各个个别视场的x轴坐标以及y轴坐标位移量；
26、结果判别模块，用于判断所有个别视场相互之间的x轴坐标以及y轴坐标位移量是否相同，若是则表示晶圆与光刻板完成对准，若否则调整所述晶圆位置并重复运行数据获取模块、图像处理模块、特征提取模块、绝对像素坐标计算模块，动态数据获取模块、位移量计算模块以及结果判别模块，直到完成对准。
27、进一步，具体的，所述光学元件所具有的个别视场数量为2个，且呈两点斜对角的方式设置，且两个个别视场的几何中心的连线经过所述晶圆的圆心。
28、进一步，具体的，所述边缘检测算法采用laplaciancanny算法。
29、本专利技术的有益效果为：
30、本专利技术提供的一种晶圆多层叠层的对准方法，首先将精元与光刻板进行粗对准，在粗对准后，沿用既有的设备，合理运用有限的视场，且可在不牺牲overlap特征的条件下，使用laplaciancanny…等相关算法计算出边界，如此使光刻在进行对准、叠层等工艺时，更加的精准且有效率。
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1.一种晶圆多层叠层的对准方法，其特征在于，包括以下：
2.根据权利要求1所述的一种晶圆多层叠层的对准方法，其特征在于，具体的，所述光学元件所具有的个别视场数量为2个，且呈两点斜对角的方式设置，且两个个别视场的几何中心的连线经过所述晶圆的圆心。
3.根据权利要求1所述的一种晶圆多层叠层的对准方法，其特征在于，具体的，所述边缘检测算法采用Laplacian Canny算法。
4.根据权利要求1所述的一种晶圆多层叠层的对准方法，其特征在于，具体的，通过具有二维运动功能的晶圆承载机构控制晶圆于x、y轴移动。
5.根据权利要求1所述的一种晶圆多层叠层的对准方法，其特征在于，具体的，所述轮廓边界特征点指的是处于所述轮廓图像最外侧的所有点，所述绝对像素坐标为所述轮廓边界特征点坐标的平均值。
6.一种晶圆多层叠层的对准装置，其特征在于，包括以下：
7.根据权利要求6所述的一种晶圆多层叠层的对准装置，其特征在于，具体的，所述光学元件所具有的个别视场数量为2个，且呈两点斜对角的方式设置，且两个个别视场的几何中心的连线经过所述晶
8.根据权利要求6所述的一种晶圆多层叠层的对准装置，其特征在于，具体的，所述边缘检测算法采用Laplacian Canny算法。
...【技术特征摘要】
1.一种晶圆多层叠层的对准方法，其特征在于，包括以下：
2.根据权利要求1所述的一种晶圆多层叠层的对准方法，其特征在于，具体的，所述光学元件所具有的个别视场数量为2个，且呈两点斜对角的方式设置，且两个个别视场的几何中心的连线经过所述晶圆的圆心。
3.根据权利要求1所述的一种晶圆多层叠层的对准方法，其特征在于，具体的，所述边缘检测算法采用laplacian canny算法。
4.根据权利要求1所述的一种晶圆多层叠层的对准方法，其特征在于，具体的，通过具有二维运动功能的晶圆承载机构控制晶圆于x、y轴移动。
5.根据权利要求1...
【专利技术属性】
技术研发人员：何政航，黄宏达，钟广智，罗易腾，
申请(专利权)人：赣州沃泰芯半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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