【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术的领域涉及入口组件、减排设备和方法。
技术介绍
1、减排设备(诸如辐射燃烧器或其它类型减排设备)是已知的,并且通常用于处理来自例如半导体或平板显示器制造工业中使用的制造加工工具的排出气流。在这种制造期间,残余全氟化合物(pfc)和其它化合物存在于从加工工具中泵出的排出气流中。pfc难以从排出气体被除去,并且不希望它们被释放到环境中,因为已知pfc具有相对高的温室效应。
2、已知的辐射燃烧器使用燃烧以从排出气流中除去pfc和其它化合物,例如ep0694735中所述的。通常,排出气流是含有pfc和其它化合物的氮气流。将该排出流输送至燃烧室中,所述燃烧室被有孔气体燃烧器的出口表面横向围绕。在一些情况下,诸如燃料气体的处理材料在进入燃烧室之前可以与排出气流混合。燃料气体和空气同时供应到有孔燃烧器以影响在出口表面处的燃烧。来自有孔燃烧器的燃烧产物与排出流混合物发生反应以燃烧排出流中的化合物。
3、尽管存在减排设备的布置结构,但是它们各自具有其自身的缺点。因此,期望提供一种用于减排设备的改进布置结构。
/>技术本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种用于减排设备的入口组件,所述减排设备用于处理来自半导体加工工具的排出流,所述入口组件包括:
2.如权利要求1所述的入口组件,其中,所述气室围绕所述燃烧室,并且所述供给孔定位成位于所述气室上方。
3.如权利要求1或2所述的入口组件,其中,所述供给孔定位成围绕所述安装件的周边延伸。
4.如任一前述权利要求所述的入口组件,包括多个所述燃烧室模块,每个所述燃烧室模块具有安装件,所述安装件被构造成与所述共用头部的多个廊道中的对应一个接合,并且其中,每个安装件包括多个供给孔,所述多个供给孔定位成用于所述燃烧剂在该廊道和相应的气室之间的流
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【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种用于减排设备的入口组件,所述减排设备用于处理来自半导体加工工具的排出流,所述入口组件包括:
2.如权利要求1所述的入口组件,其中,所述气室围绕所述燃烧室,并且所述供给孔定位成位于所述气室上方。
3.如权利要求1或2所述的入口组件,其中,所述供给孔定位成围绕所述安装件的周边延伸。
4.如任一前述权利要求所述的入口组件,包括多个所述燃烧室模块,每个所述燃烧室模块具有安装件,所述安装件被构造成与所述共用头部的多个廊道中的对应一个接合,并且其中,每个安装件包括多个供给孔,所述多个供给孔定位成用于所述燃烧剂在该廊道和相应的气室之间的流体连通。
5.如任一前述权利要求所述的入口组件,其中,至少一个燃烧室模块的所述安装件被构造成与所述共用头部的多个廊道接合,所述安装件包括多个供给孔,所述多个供给孔定位成用于所述燃烧剂在那些廊道和其气室之间的流体连通。
6.如任一前述权利要求所述的入口组件,其中,每个燃烧室模块被构造成接收从所述共用头部延伸的至少一个排出流喷嘴,并且所述供给孔定位成避开每个排出流喷嘴的位置。
7.如任一前述权利要求所述的入口组件,其中,所述安装件限定至少一个排出流喷嘴孔,所述至少一个排出流喷嘴孔定位成接收相应的排出流喷嘴。
8.如任一前述权利要求所述的入口组件,其中,所述安装件包括至少一个排出流喷嘴密封件,所述至少一个排出流喷嘴密封件定位成围绕每个相应的排出流喷嘴。
9.如权利要求8所述的入口组件,其中,所述供给孔定位成避开每个排出流喷嘴密封件。
10.如任一前述权利要求所述的入...
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