【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及测量设备，具体涉及一种用于测量万向支架启动摩擦力矩的测量装置、工作方法。
技术介绍
1、在惯性导航和惯性制导系统中，陀螺仪是及其重要的敏感元件。在框架式陀螺仪中，万向支架是其主要组成部分之一，其内、外环之间通过轴承连接，可绕轴线作相对回转运动。万向支架的内、外环之间相对旋转时的启动摩擦力矩值对制导精度有重要影响，为了满足惯性导航和惯性制导对陀螺仪精度的要求，需要对摩擦力矩值进行测试。
2、现有的摩擦力矩测试仪，主要应用于单个轴承产品的检测领域，对于微型滚动轴承启动摩擦力矩测量技术的研究还远远不够，且对于涉及到微型轴承支撑的回转轴系装配体的启动摩擦力矩研究，加载困难、测量误差大的问题仍未得到有效解决。
技术实现思路
1、因此，本专利技术要解决的技术问题在于克服现有技术中针对回转轴系装配体的摩擦力矩测试中加载困难、测量误差大的问题，从而提供一种用于测量万向支架启动摩擦力矩的测量装置、工作方法。
2、为了解决上述技术问题，本专利技术提供了一种用于测量万向支架启动摩擦力矩的测量装置，包括：机座，所述机座上设有旋转结构，且在所述旋转结构上设有框架，所述框架上设有待测量件；测量工装，设于所述待测量件上，所述测量工装上设有第一磁性件，且在所述测量工装上设有校正孔；安装框架，设于所述机座上，且在所述安装框架上设有校正机构，所述校正机构包括校正轴，校正轴与校正孔配合，用于复位测量工装；驱动加载机构，具有两个，设于所述安装框架上，所述驱动加载机构的端部设有第二磁性
3、在一些实施例中，所述旋转结构包括：支撑架，设于所述机座上；第一旋转轴和第二旋转轴，均设于所述支撑架上，所述框架设于所述第一旋转轴和第二旋转轴上，且所述第一旋转轴和第二旋转轴同轴设置。
4、在一些实施例中，所述旋转结构还包括轴承座，设于所述支撑架上，所述第一旋转轴和第二旋转轴设于所述支撑架上。
5、在一些实施例中，所述调节结构包括：胀套，与所述第一旋转轴连接，所述胀套上设有定位盘，且在所述定位盘的外壁上设有多个凹槽；固定块，设于所述支撑架上，且所述固定块上设有固定销，所述固定销对应所述凹槽设置。
6、在一些实施例中，相邻两个所述凹槽之间具有10°的角度差。
7、在一些实施例中，所述校正机构包括：校正驱动件，所述校正驱动件与校正滑移平台连接；支撑座，设于所述校正滑移平台上，所述校正轴设于支撑座上。
8、在一些实施例中，驱动加载机构包括：加载滑移平台，加载滑移平台设于安装框架上，且一端设有加载驱动件；安装座，设于加载滑移平台上；加载杆，设于安装座上，第二磁性件设于加载杆上，且检测元件设于加载杆的自由端。
9、在一些实施例中，第二磁性件包括：铜套，设于检测元件的输入端；永磁体，设于铜套内。
10、在一些实施例中，还包括定位结构，所述定位结构包括：定位螺钉，设于所述框架的顶部，用于连接所述待测量件和框架；弹簧销和定位销，设于所述框架的底部，所述弹簧销和定位销固定所述待测量件。
11、本专利技术还提供了一种用于测量万向支架启动摩擦力矩的测量装置的工作方法，包括：在框架上设置待测量件，在待测量件上设置测量工装，利用校正机构上的校正轴与测量工装上的校正孔配合，对测量工装的位置进行校正，再利用驱动加载机构上的第二磁性件相对测量工装上的第一磁性件做往复运动，并利用检测元件检测待测量件在回转方向上的最大静摩擦力，从而计算出该回转方向上的启动摩擦力矩值。
12、本专利技术技术方案，具有如下优点：
13、1.本专利技术提供的用于测量万向支架启动摩擦力矩的测量装置，包括：机座，所述机座上设有旋转结构，且在所述旋转结构上设有框架，所述框架上设有待测量件；测量工装，设于所述待测量件上，所述测量工装上设有第一磁性件，且在所述测量工装上设有校正孔；安装框架，设于所述机座上，且在所述安装框架上设有校正机构，所述校正机构包括校正轴，校正轴与校正孔配合，用于复位测量工装；驱动加载机构，具有两个，设于所述安装框架上，所述驱动加载机构的端部设有第二磁性件和检测元件，所述驱动加载机构带动所述第二磁性件在安装框架上做往复运动，并靠近所述测量工装。
14、通过在机座上设置旋转结构，并且在旋转结构上设置框架，框架内设有待测量件，同时，在待测量件内设置测量工装，即利用框架对待测量件进行装夹定位，保证了该待测量件安装的稳定性，且可以实现待测量件两个回转方向启动摩擦力矩的测量；同时，旋转结构的设置，可增加该待测量件和测量工装在同一回转方向上的初始测量位置，即实现该待测量件在-30°～30°范围内处于不同的起始位置测量。
15、并且，该测量工装的设置，可以通过校正机构对测量工装进行校正，即利用校正机构的校正轴与测量工装的校正孔进行配合，从而实现测量工装的校正复位。然后再利用驱动加载机构带动所述第二磁性件在安装结构上运动，使得第二磁性件并靠近所述测量工装上第一磁性件，第二磁性件与第一磁性件产生斥力，当产生的斥力大于待测量件回转方向上的最大静摩擦力时，利用检测元件测量待测量件的最大静摩擦力，从而计算出的启动摩擦力矩。
16、该应用于万向支架启动摩擦力矩的测量装置具有测量精度高、测量结果重复性好、自动化程度高等优势,可以完成对万向支架回转方向上启动摩擦力矩值的测量。
17、该应用于万向支架启动摩擦力矩的测量装置能实现待测量件回转中心处的支撑轴承处于不同初始位置(-30°～30°)测量；该应用于万向支架启动摩擦力矩的测量装置能实现微小力的缓慢加载，保证检测元件能采集到支架回转方向上的最大静摩擦力，从而计算出该位置上的启动摩擦力矩值；该应用于万向支架启动摩擦力矩的测量装置能实现单方向测量后工装复位的功能，保证多次测量的连续性。
18、2.本专利技术提供的用于测量万向支架启动摩擦力矩的测量装置，所述旋转结构包括：支撑架，设于所述机座上；第一旋转轴和第二旋转轴，均设于所述支撑架上，所述框架设于所述第一旋转轴和第二旋转轴上，且所述第一旋转轴和第二旋转轴同轴设置。通过将支撑架设置在机座上，并且，该支撑架的设置，为框架提供了安装位置；同时，第一旋转轴和第二旋转轴设置在支撑架上，并且框架与第一旋转轴和第二旋转轴连接，因此，可以通过第一旋转轴和第二旋转轴调节框架的角度，进而在不同角度下测量待测量件的启动摩擦力矩值。
19、3.本专利技术提供的用于测量万向支架启动摩擦力矩的测量装置，所述旋转结构还包括轴承座，设于所述支撑架上，所述第一旋转轴和第二旋转轴设于所述支撑架上。该轴承座的内部设有轴承，即第一旋转轴和第二旋转轴的一端贯穿轴承，并插入至轴承座内，该设置方式，可有效的减小了该轴承座和第一旋转轴、以及第二旋转轴的摩擦阻力，使得框架的旋转更加的顺畅。
20、提供
技术实现思路
部分是为了以简化的形式来介绍对概念的选择，它们在下文的具体实施方式中将被进一本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种用于测量万向支架启动摩擦力矩的测量装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的用于测量万向支架启动摩擦力矩的测量装置，其特征在于，旋转结构(2)包括：
3.根据权利要求2所述的用于测量万向支架启动摩擦力矩的测量装置，其特征在于，旋转结构(2)还包括轴承座(17)，设于支撑架(14)上，第一旋转轴(15)和第二旋转轴(16)设于支撑架(14)上。
4.根据权利要求2或3所述的用于测量万向支架启动摩擦力矩的测量装置，其特征在于，调节结构包括：
5.根据权利要求4所述的用于测量万向支架启动摩擦力矩的测量装置，其特征在于，相邻两个凹槽(20)之间具有10°的角度差。
6.根据权利要求5所述的用于测量万向支架启动摩擦力矩的测量装置，其特征在于，校正机构(9)包括：
7.根据权利要求6所述的用于测量万向支架启动摩擦力矩的测量装置，其特征在于，驱动加载机构(11)包括：
8.根据权利要求7所述的用于测量万向支架启动摩擦力矩的测量装置，其特征在于，第二磁性件(12)包括：
9.根据权利要
10.一种采用权利要求1-9中任一项所述的用于测量万向支架启动摩擦力矩的测量装置的工作方法，其特征在于，包括：
...【技术特征摘要】
1.一种用于测量万向支架启动摩擦力矩的测量装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的用于测量万向支架启动摩擦力矩的测量装置，其特征在于，旋转结构(2)包括：
3.根据权利要求2所述的用于测量万向支架启动摩擦力矩的测量装置，其特征在于，旋转结构(2)还包括轴承座(17)，设于支撑架(14)上，第一旋转轴(15)和第二旋转轴(16)设于支撑架(14)上。
4.根据权利要求2或3所述的用于测量万向支架启动摩擦力矩的测量装置，其特征在于，调节结构包括：
5.根据权利要求4所述的用于测量万向支架启动摩擦力矩的测量装置，其特征在于，相邻两个凹槽(20)之间具有1...
【专利技术属性】
技术研发人员：张华伟，梁峰，崔文博，于文花，崔晓燕，张勇，李帅，刘乾，尹天宇，孔凡凯，聂重阳，
申请(专利权)人：北京华航无线电测量研究所，
类型：发明
国别省市：
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