【技术实现步骤摘要】
本申请涉及半导体封装,特别涉及一种mosfet封装结构及其制作方法、电路板组件、电子设备。
技术介绍
1、随着消费电子轻薄化、低功耗以及功能多样化的趋势,要求主板上集成的器件越来越多,预留给器件的空间越来越小,封装后的芯片必须轻薄短小,从而为产品设计在轻薄化和高性能之间提供更大的选择。
2、金属-氧化物半导体场效应晶体管(metal-oxide-semiconductor field-effecttransistor,mosfet)是利用电场效应来控制半导体的场效应晶体管,由于mosfet具有可实现低功耗电压控制的特性,近年来被广泛应用在电子设备(例如手机)中,其中,氮化镓(gan)mos相较于传统的硅mos,具有更低的导通电阻,开关速度快,可以实现更低的开关损耗,具有广泛的应用前景。目前,氮化镓mos大多为分立式器件封装,并受单独的驱动器驱动。
3、然而,独立封装的氮化镓mos和驱动器占据的体积大,且需要通过大量的引线实现电连接,引线引入寄生电感,导致产生开关损耗等问题。
技术实现思
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1.一种MOSFET封装结构,其特征在于,包括载体芯片、MOSFET芯片和三个导电件;
2.根据权利要求1所述的MOSFET封装结构,其特征在于,所述输入垫、所述输出垫和所述接地垫均位于所述第一表面所在的一侧,所述安装区域内的第一焊盘包括输入端焊盘、输出端焊盘和接地端焊盘,所述输入垫与所述输入端焊盘对应连接,所述输出垫与所述输出端焊盘对应连接,所述接地垫与所述接地端焊盘对应连接。
3.根据权利要求2所述的MOSFET封装结构,其特征在于,所述导电件为导电框架,所述导电框架包括主板部和侧板部,所述主板部覆盖在所述第二表面,所述侧板部的一端连接于所
...【技术特征摘要】
1.一种mosfet封装结构,其特征在于,包括载体芯片、mosfet芯片和三个导电件;
2.根据权利要求1所述的mosfet封装结构,其特征在于,所述输入垫、所述输出垫和所述接地垫均位于所述第一表面所在的一侧,所述安装区域内的第一焊盘包括输入端焊盘、输出端焊盘和接地端焊盘,所述输入垫与所述输入端焊盘对应连接,所述输出垫与所述输出端焊盘对应连接,所述接地垫与所述接地端焊盘对应连接。
3.根据权利要求2所述的mosfet封装结构,其特征在于,所述导电件为导电框架,所述导电框架包括主板部和侧板部,所述主板部覆盖在所述第二表面,所述侧板部的一端连接于所述主板部的侧边,所述侧板部的另一端朝向所述载体芯片伸出;
4.根据权利要求3所述的mosfet封装结构,其特征在于,所述导电框架和所述mosfet芯片之间设置有胶层。
5.根据权利要求3或4所述的mosfet封装结构,其特征在于,所述导电框架包括铜框架或铜合金框架。
6.根据权利要求1所述的mosfet封装结构,其特征在于,所述输入垫、所述输出垫和所述接地垫均位于所述第二表面所在的一侧,三个所述导电件分别覆盖所述输入垫、所述输出垫和所述接地垫。
7.根据权利要求6所述的mosfet封装结构,其特征在于,所述导电件为覆盖在所述第二表面的导电层。
8.根据权利要求7所述的mosfet封装结构,其特征在于,所述导电层包括铜层或铝层。
9.根据权利要求1-8任一项所述的mosfet封装结构,其特征在于,所述第一表面还分布有多个导电垫,所述导电垫与所述安装区域内的第一焊盘一一对应连接。
10.根据权利要求1-9任一项所述的mosfet封装结构,其特征...
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