本发明专利技术属于中子散射试验技术领域，公开原位光场加载试验装置，原位光场加载试验装置包括样品架组件和光线投射机构，样品架组件安装有比色皿夹具和光门组件，比色皿夹具用于夹持比色皿，比色皿装有样品，光线投射机构包括升降调节组件、XY调节平台、安装架组件、试验光源及反射镜组件，反射镜组件转动安装于安装架组件，光门组件位于反射镜组件与比色皿夹具之间。进行试验时，光门组件暂时暴露比色皿的样品。反射镜组件能够相对比色皿转动调节，以保证试验光线能够对样品进行均匀的照射，使中子和试验光线在同一光路，以获取真实准确的试验结果，试验结束后，光门组件遮挡试验光线。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及中子散射试验，尤其涉及原位光场加载试验装置。
技术介绍
1、在中子散射试验中，将样品装入比色皿中，利用比色皿承载样品，光源发出的光线照射到样品，光线诱导样品的光响应材料发生结构上的变化，同时中子发生器发出的中子也照射到样品，中子被样品散射后通过对散射信号的捕捉解读来获取样品的纳米尺度的结构信息，通过光线和中子散射对样品的同步照射能够采集样品在光照下的结构演变过程。
2、由于光线对液体和固体的透过率有限，例如光线照射到液体样品时，光线的强度衰减很大，在1到2毫米的厚度内就能够衰减到0，从侧方或者上方对样品照射都只能在局部区域诱导光响应材料发生结构变化，然后这部分发生结构变化的样品颗粒再通过扩散逐渐分散到整个比色皿，在这种情况下，中子照射区域所观察到的材料结构变化是由样品颗粒扩散的速度决定，而并非样品材料本身对光线的响应情况。
3、因此，亟需一种原位光场加载试验装置，保证光线和中子共用一个光路，使光线对样品进行均匀的照射，从而保证在中子照射区域所观察到的材料结构变化是由样品材料本身对光线的响应。
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【技术保护点】
1.原位光场加载试验装置，其特征在于，所述原位光场加载试验装置包括样品架组件(2)和光线投射机构(5)，所述样品架组件(2)安装有比色皿夹具(3)和光门组件(4)，所述比色皿夹具(3)用于夹持比色皿，所述比色皿装有样品，所述光线投射机构(5)包括：
2.根据权利要求1所述的原位光场加载试验装置，其特征在于，所述样品架组件(2)与所述光线投射机构(5)二者沿Y轴方向相对滑动设置，所述样品架组件(2)上沿Y轴方向间隔设有多个所述比色皿夹具(3)以及多组所述光门组件(4)，多个所述比色皿夹具(3)与多个所述光门组件(4)一一对应。
3.根据权利要求2所述的原位光场加载试...
【技术特征摘要】
1.原位光场加载试验装置，其特征在于，所述原位光场加载试验装置包括样品架组件(2)和光线投射机构(5)，所述样品架组件(2)安装有比色皿夹具(3)和光门组件(4)，所述比色皿夹具(3)用于夹持比色皿，所述比色皿装有样品，所述光线投射机构(5)包括：
2.根据权利要求1所述的原位光场加载试验装置，其特征在于，所述样品架组件(2)与所述光线投射机构(5)二者沿y轴方向相对滑动设置，所述样品架组件(2)上沿y轴方向间隔设有多个所述比色皿夹具(3)以及多组所述光门组件(4)，多个所述比色皿夹具(3)与多个所述光门组件(4)一一对应。
3.根据权利要求2所述的原位光场加载试验装置，其特征在于，所述样品架组件(2)的顶部沿y轴方向间隔设有多个样品槽(211)，所述样品架组件(2)的侧部沿y轴方向间隔设有多个光线通道(24)，沿x轴方向延伸的所述光线通道(24)与沿z轴方向延伸的所述样品槽(211)在所述样品架组件(2)的内部连通，所述比色皿夹具(3)插设于所述样品槽(211)且所述比色皿夹具(3)夹持所述比色皿的一端延伸至所述光线通道(24)。
4.根据权利要求3所述的原位光场加载试验装置，其特征在于，所述样品架组件(2)包括：
5.根据权利要求...
【专利技术属性】
技术研发人员：蒋寒秋，郑海彪，柯于斌，吴煊，孙远，陶荆亮，吴国平，曾灿东，欧阳崯峰，
申请(专利权)人：散裂中子源科学中心，
类型：发明
国别省市：
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