System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() X射线成像的自动曝光控制方法、装置及存储介质制造方法及图纸_技高网

X射线成像的自动曝光控制方法、装置及存储介质制造方法及图纸

技术编号:40595665 阅读:4 留言:0更新日期:2024-03-12 21:58
本发明专利技术实施方式公开了X射线成像的自动曝光控制方法、装置及存储介质。方法包括:确定所述平板探测器的预定像素区域在曝光中采集的像素灰度值;当所述像素灰度值超过预定的灰度门限值时,向高压发生器发送用于停止所述曝光的曝光停止指令;其中所述灰度门限值是基于所述曝光的辐射剂量设定值与曝光参数设定值所确定的。本发明专利技术实施方式无需在平板探测器上安装具有电离室的自动曝光控制器即可实现自动曝光控制,可以节约成本并降低安装和维修难度。而且,平板探测器可以接收到更多的有效辐射,减少了患者剂量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及医学成像,特别是x射线成像的自动曝光控制(automaticexposure control,aec)方法、装置及存储介质。


技术介绍

1、x射线是波长介于紫外线和γ射线之间的电磁辐射。x射线具有穿透性,对不同密度的物质有不同的穿透能力。在医学上一般用x射线投射人体器官及骨骼以形成医学图像。x射线成像系统通常包括x射线发生组件、胸片架(bucky-wall-stand,bws)组件、检查床(table)组件、包含平板探测器的片盒组件和位于远程的控制主机,等等。x射线发生组件利用高压发生器提供的高压发出透过照射成像目标的x射线,并在平板探测器上形成成像目标的医学图像信息。平板探测器将医学图像信息发送到控制主机。成像目标可以站立在胸片架组件附近或躺在检查床组件上,从而分别接受头颅、胸部、腹部以及关节等各部位的x射线摄影。

2、目前,通常在平板探测器上安装具有电离室的aec器。aec器利用电离室探测穿过成像目标的射线量,并当射线量达到预定值后控制高压发生器停止曝光。

3、然而,aec器会提高成本,而且增加了安装和维修难度。另外,aec器吸收了大量的有效辐射,从而增加曝光剂量。


技术实现思路

1、本专利技术实施方式提出x射线成像的aec方法、装置及存储介质。

2、一种x射线成像的aec方法,所述方法适用于平板探测器,所述方法包括:

3、确定所述平板探测器的预定像素区域在曝光中采集的像素灰度值;

4、当所述像素灰度值超过预定的灰度门限值时,向高压发生器发送用于停止所述曝光的曝光停止指令;

5、其中所述灰度门限值是基于所述曝光的辐射剂量设定值与曝光参数设定值所确定的。

6、可见,本专利技术实施方式无需在平板探测器上安装具有电离室的aec器即可实现aec,可以节约成本并降低安装和维修难度。而且,由于不再设置吸收有效辐射的aec器,平板探测器可以接收到更多的有效辐射,减少了患者剂量。

7、在示范性实施方式中,所述灰度门限值是所述平板探测器在所述曝光之前从控制主机获取的;或

8、所述灰度门限值是所述平板探测器在所述曝光之前自行确定的。

9、因此,本专利技术实施方式可以通过多种方式获取灰度门限值,提高了适用性。

10、在示范性实施方式中,所述平板探测器自行确定所述灰度门限值包括:

11、从控制主机接收所述辐射剂量设定值与所述曝光参数设定值;

12、从对应于不同曝光参数设定值的多条换算曲线中,确定出对应于所述曝光参数设定值的换算曲线,所述换算曲线包含辐射剂量参数与像素灰度参数之间的换算关系;

13、基于所述辐射剂量设定值查询所述对应于曝光参数设定值的换算曲线,以得到对应于所述辐射剂量设定值的像素灰度值;

14、将对应于所述辐射剂量设定值的像素灰度值确定为所述灰度门限值。

15、可见,本专利技术实施方式的平板探测器可以自行确定灰度门限值,降低了对控制主机的依赖。

16、在示范性实施方式中,其特征在于,所述预定像素区域包含至少一个子区域;

17、所述像素灰度值为所述至少一个子区域中的全部像素点所采集的全部像素灰度值的平均值。

18、因此,以全部像素灰度值的平均值表征的像素灰度值,可以提高检测准确度。

19、一种x射线成像的aec方法,所述方法适用于控制主机,所述方法包括:

20、确定曝光的辐射剂量设定值与曝光参数设定值;

21、基于所述辐射剂量设定值与所述曝光参数设定值,确定灰度门限值;

22、将所述灰度门限值发送到平板探测器;

23、其中当所述平板探测器判定预定像素区域在所述曝光中采集的像素灰度值超过所述灰度门限值时,所述平板探测器向高压发生器发送用于停止曝光的曝光停止指令。

24、可见,本专利技术实施方式无需在平板探测器上安装具有电离室的aec器即可实现aec,可以节约成本并降低安装和维修难度。而且,由于不再设置吸收有效辐射的aec器,平板探测器可以接收到更多的有效辐射,减少了患者剂量。

25、在示范性实施方式中,所述基于所述辐射剂量设定值与曝光参数设定值,确定灰度门限值包括:

26、从对应于多个曝光参数设定值的多条换算曲线中,确定出对应于所述曝光参数设定值的换算曲线,所述换算曲线包含辐射剂量参数与像素灰度参数之间的换算关系;

27、基于所述辐射剂量设定值查询所述对应于曝光参数设定值的换算曲线,以得到对应于所述辐射剂量设定值的像素灰度值;

28、将对应于所述辐射剂量设定值的像素灰度值确定为所述灰度门限值。

29、因此,本专利技术实施方式的控制主机可以确定灰度门限值,提高了控制主机的控制能力。

30、在示范性实施方式中,还包括:

31、基于多个曝光参数设定值执行多次的换算测试,以确定所述对应于多个曝光参数设定值的多条换算曲线;

32、其中所述换算测试包括:

33、基于所述曝光参数设定值,以多个辐射剂量设定值执行多次曝光;

34、基于布置在平板探测器上的剂量计,读取所述多次曝光的多个辐射剂量实际值;

35、获取所述预定像素区域在所述多次曝光中采集的多个像素灰度值;

36、基于所述多个辐射剂量实际值与所述多个像素灰度值之间的对应关系,确定对应于所述曝光参数设定值的换算曲线。

37、可见,本专利技术实施方式的控制主机可以基于多次换算测试,准确确定出多条换算曲线。

38、在示范性实施方式中,还包括:

39、从所述多个曝光参数设定值中确定基础曝光参数设定值;

40、基于所述基础曝光参数设定值执行单次的换算测试,以确定对应于所述基础曝光参数设定值的换算曲线;

41、查询校正系数换算表以确定对应于所述多个曝光参数设定值的多个校正系数;

42、基于所述多个校正系数对所述对应于所述基础曝光参数设定值的换算曲线进行多次校正,以得到所述对应于多个曝光参数设定值的多条换算曲线;

43、其中所述换算测试包括:

44、基于所述基础曝光参数设定值,以多个辐射剂量设定值执行多次曝光;

45、基于布置在平板探测器上的剂量计,读取所述多次曝光的多个辐射剂量实际值;

46、获取所述预定像素区域在所述多次曝光中采集的多个像素灰度值;

47、基于所述多个辐射剂量实际值与所述多个像素灰度值之间的对应关系,确定对应于所述基础曝光参数设定值的换算曲线。

48、因此,本专利技术实施方式的控制主机可以基于单次换算测试以及系数校正,快速确定出多条换算曲线。

49、一种x射线成像的aec装置,所述装置适用于平板探测器,所述装置包括:

50、确定模块,被配置为确定所述平板探测器的预定像素区域在曝光中采集的像素灰本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种X射线成像的自动曝光控制方法(100),其特征在于,所述方法(100)适用于平板探测器,所述方法(100)包括:

2.根据权利要求1所述的X射线成像的自动曝光控制方法(100),其特征在于,

3.根据权利要求2所述的X射线成像的自动曝光控制方法(100),其特征在于,所述平板探测器自行确定所述灰度门限值包括:

4.根据权利要求1-3中任一项所述的X射线成像的自动曝光控制方法(100),其特征在于,所述预定像素区域包含至少一个子区域;

5.一种X射线成像的自动曝光控制方法(600),其特征在于,所述方法(600)适用于控制主机,所述方法(600)包括:

6.根据权利要求5所述的X射线成像的自动曝光控制方法(600),其特征在于,所述基于所述辐射剂量设定值与曝光参数设定值,确定灰度门限值(602)包括:

7.根据权利要求6所述的X射线成像的自动曝光控制方法(600),其特征在于,还包括:

8.根据权利要求6所述的X射线成像的自动曝光控制方法(600),其特征在于,还包括:

9.一种X射线成像的自动曝光控制装置(700),其特征在于,所述装置(700)适用于平板探测器,所述装置(700)包括:

10.一种X射线成像的自动曝光控制装置(800),其特征在于,所述装置(800)适用于控制主机,所述装置(800)包括:

11.一种X射线成像的自动曝光控制装置(900),其特征在于,包括:

12.一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机指令,其特征在于,所述计算机指令被处理器执行时实施权利要求1-8中任一项所述的X射线成像的自动曝光控制方法。

13.一种计算机程序产品,其特征在于,包括计算机程序,所述计算机程序被处理器执行时实施权利要求1-8中任一项所述的X射线成像的自动曝光控制方法。

...

【技术特征摘要】

1.一种x射线成像的自动曝光控制方法(100),其特征在于,所述方法(100)适用于平板探测器,所述方法(100)包括:

2.根据权利要求1所述的x射线成像的自动曝光控制方法(100),其特征在于,

3.根据权利要求2所述的x射线成像的自动曝光控制方法(100),其特征在于,所述平板探测器自行确定所述灰度门限值包括:

4.根据权利要求1-3中任一项所述的x射线成像的自动曝光控制方法(100),其特征在于,所述预定像素区域包含至少一个子区域;

5.一种x射线成像的自动曝光控制方法(600),其特征在于,所述方法(600)适用于控制主机,所述方法(600)包括:

6.根据权利要求5所述的x射线成像的自动曝光控制方法(600),其特征在于,所述基于所述辐射剂量设定值与曝光参数设定值,确定灰度门限值(602)包括:

7.根据权利要求6所述的x射线成像...

【专利技术属性】
技术研发人员:费小磊
申请(专利权)人:上海西门子医疗器械有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1