【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及靶材加工领域,具体涉及一种低熔点靶材的键合方法。
技术介绍
1、常见的金属靶材,以平面绑定靶材为例,一般需要将制备成靶坯,随后通过焊料(常见为in)绑定到背板上,最后加工成成品;或者先进行背板的焊料涂布,然后将金属熔体直接浇注在背板上冷却成型,最后加工成成品。
2、然而对于低熔点靶材(一般指熔点低于450℃的金属靶材,如含in、sn、pb、ga等元素的单质或合金靶材),在接触熔融焊料的瞬间可能便会和焊料发生直接反应,并且反应深度难以控制,因此若仍采用常规的键合绑定加工工艺,不仅可能会导致绑定失败,甚至可能会造成成品含有过量的焊料杂质,纯度大幅度降低。
技术实现思路
1、基于现有技术存在的缺陷,本专利技术的目的在于提供了一种低熔点靶材的键合方法,该方法专门针对于熔点低于450℃的低熔点靶材,在依旧采用常规焊料in的前提下将靶坯绑定至背板上,随后通过共晶合金温度加热及加压工艺实现键合,靶材与背板的键合绑定率>95%,并且单点不良面积<1%。
2、为了达到上
...【技术保护点】
1.一种低熔点靶材的键合方法,其特征在于,包括以下步骤:
2.如权利要求1所述低熔点靶材的键合方法,其特征在于,所述金属靶坯为锡靶坯、铟锡靶坯、镉靶坯、铅靶坯中的至少一种。
3.如权利要求1所述低熔点靶材的键合方法,其特征在于,所述In焊料的温度为180~220℃。
4.如权利要求1所述低熔点靶材的键合方法,其特征在于,所述背板预先加热的温度为160~200℃。
5.如权利要求1所述低熔点靶材的键合方法,其特征在于,所述超声涂布法采用超声涂铟机进行,所述超声涂铟机的功率为18~22kHz,涂布次数为1~3次。
【技术特征摘要】
1.一种低熔点靶材的键合方法,其特征在于,包括以下步骤:
2.如权利要求1所述低熔点靶材的键合方法,其特征在于,所述金属靶坯为锡靶坯、铟锡靶坯、镉靶坯、铅靶坯中的至少一种。
3.如权利要求1所述低熔点靶材的键合方法,其特征在于,所述in焊料的温度为180~220℃。
4.如权利要求1所述低熔点靶材的键合方法,其特征在于,所述背板预先加热的温度为16...
【专利技术属性】
技术研发人员:余飞,周俊驹,黄宇彬,文崇斌,童培云,
申请(专利权)人:先导薄膜材料广东有限公司,
类型:发明
国别省市:
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