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【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
技术介绍
技术实现思路
【技术保护点】
1.用于处理物体的设备,所述设备包括:外壳,所述外壳不可透过紫外线辐射且包括所述物体可移除地位于其内的容积;机件,所述机件将经调节空气流引导到所述容积中;以及紫外线源,所述紫外线源被定位成将紫外线辐射引导到所述容积中。
2.根据权利要求1所述的设备,其中所述机件包括空气加热器、风扇以及用于调节所述空气加热器和风扇的操作从而产生预定空气温度下的所述经调节空气流的控制器。
3.根据权利要求2所述的设备,其中所述控制器可操作为产生预定空气流量下的所述经调节空气流。
4.根据权利要求2所述的设备,其包括其中设有通道的底座、至通道的进气口和出通道的出口,所述空气加热器和风扇定位在所述通道中,所述底座包括平台,出通道的所述出口定位于所述平台处,所述外壳包括入口并且被配置为与所述平台接合,由此出通道的所述出口被置于与所述外壳的所述入口空气连通。
5.根据权利要求4所述的设备,其包括出所述通道的出水口,所述出水口在使用中位于所述通道的最低点处。
6.根据权利要求4所述的设备,其中在使用中,至通道的所述进气口高于所述空气风扇和所述空气加热
7.根据权利要求4所述的设备,其中可由所述控制器操作的所述紫外线源位于出通道的所述出口处。
8.根据权利要求4所述的设备,其包括在所述平台处的安全开关,所述安全开关至少防止所述紫外线源的操作,除非所述外壳与所述平台接合。
9.根据权利要求4所述的设备,其包括支撑件,所述支撑件位于所述外壳中的所述容积内部并且被配置为将至少所述物体支撑在所述容积内部。
10.根据权利要求4所述的设备,其中所述平台被配置为支撑容器,所述容器位于所述容积内部并且具有定位在出通道的所述出口上方的嘴部。
11.根据权利要求1所述的设备,其包括出所述外壳的排气口。
12.根据权利要求2所述的设备,其包括熔断器,所述熔断器响应于所述经调节空气流的温度高于阈值而禁止所述机件的进一步操作。
13.根据权利要求2所述的设备,用于处理容器,所述容器包括围绕容器容积的壁和进入所述容器容积的嘴部,所述设备包括底座,所述容器以其嘴部面向下来定位在所述底座上,安装到所述底座的构件并且其被配置为通过所述嘴部延伸到所述容器容积中,以及UV源,所述UV源将合适波长下的UV辐射发射到所述容器容积中,以便至少对所述容器的内壁表面进行灭菌和消毒。
14.根据权利要求2所述的设备,其包括底座、所述底座上的平台、包括位于所述平台上的入口的所述外壳、以及从所述平台通过所述入口延伸到所述容积中的细长管状构件,并且其中所述经调节空气流通过出所述管状构件的出口发射到所述容积中。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.用于处理物体的设备,所述设备包括:外壳,所述外壳不可透过紫外线辐射且包括所述物体可移除地位于其内的容积;机件,所述机件将经调节空气流引导到所述容积中;以及紫外线源,所述紫外线源被定位成将紫外线辐射引导到所述容积中。
2.根据权利要求1所述的设备,其中所述机件包括空气加热器、风扇以及用于调节所述空气加热器和风扇的操作从而产生预定空气温度下的所述经调节空气流的控制器。
3.根据权利要求2所述的设备,其中所述控制器可操作为产生预定空气流量下的所述经调节空气流。
4.根据权利要求2所述的设备,其包括其中设有通道的底座、至通道的进气口和出通道的出口,所述空气加热器和风扇定位在所述通道中,所述底座包括平台,出通道的所述出口定位于所述平台处,所述外壳包括入口并且被配置为与所述平台接合,由此出通道的所述出口被置于与所述外壳的所述入口空气连通。
5.根据权利要求4所述的设备,其包括出所述通道的出水口,所述出水口在使用中位于所述通道的最低点处。
6.根据权利要求4所述的设备,其中在使用中,至通道的所述进气口高于所述空气风扇和所述空气加热器。
7.根据权利要求4所述的设备,其中可由所述控制器操作的所述紫外线源位于出通道的所述出口处。
8.根据权利要求4所述的设备,其包括在所述平台...
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