【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于功能性材料，具体涉及一种透明超疏水涂层及其制备方法与应用。
技术介绍
1、超疏水表面是表面接触角大于150°、滚动角小于10°的表面。超疏水表面的构筑一般要满足两个条件：(1)基底需要合适的粗糙度；(2)低表面能修饰。表面粗糙结构的存在会影响超疏水涂层的可见光透光率，因此透明超疏水涂层的构筑存在较大挑战。
2、目前公开的透明超疏水涂层构筑的专利例如cn103753908a、cn110922862a、cn110607100a、cn106517821a通过加入氧化硅、氧化锌、氧化钛等无机纳米粒子作为填料得到了超疏水涂层。但是纳米颗粒的加入会引起光线的折射，并且纳米颗粒在固化过程中容易团聚，造成涂层表面分布不均匀，因此目前的透明超疏水涂层存在着可见光透光率不高的问题。而目前光学镜头领域的应用普遍要求涂层不降低镜片的可见光透光率，甚至还要有增透的效果。因此，开发一种工艺简单、可见光透光率高的超疏水涂层，是本领域亟待解决的问题。
技术实现思路
1、本专利技术要解决的技术问题是提供一种透明超疏水涂层及其制备方法与应用，所述透明超疏水涂层具有较好的可见光透光率和均匀性。
2、为解决上述技术问题，本专利技术的技术方案是：
3、一种透明超疏水涂层的制备方法，包括以下步骤：
4、s1.通过喷涂、旋涂、浸涂或化学气相沉积法在基底表面制备出聚合物底层；
5、s2.将步骤s1得到的带有聚合物底层的基底置于pecvd设备的腔体内进行等离
6、s3.将低表面能单体通入pecvd设备的腔体内，对步骤s2得到的具有微纳结构的聚合物底层表面进行低表面能修饰15-25分钟得到低表面能表层，最终得到由聚合物底层、低表面能表层组成的透明超疏水涂层。
7、进一步地，本专利技术所述步骤s1中，聚合物底层的厚度为0.1～10μm，聚合物底层由派瑞林、聚二甲基硅氧烷或聚丙烯制成。
8、进一步地，本专利技术所述步骤s2中，等离子刻蚀时使用的气体为ar、o2、cf4或c4f8，等离子刻蚀时pecvd设备的功率为50～800w，具有微纳结构的聚合物底层表面的粗糙度为10～500nm。
9、进一步地，本专利技术所述步骤s3中，低表面能单体是全氟癸基丙烯酸酯，低表面能修饰时pecvd设备的功率为50～800w。
10、本专利技术还提供了由前述制备方法得到的透明超疏水涂层。
11、进一步地，所述透明超疏水涂层的可见光透光率≥85％，接触角＞150°，滚动角＜10°，厚度为500nm～10μm。
12、进一步地，本专利技术还提供了所述透明超疏水涂层在光学镜头、电子产品三防防护或减阻等领域中的应用。
13、与现有技术相比，本专利技术具有以下有益效果：
14、本专利技术采用等离子刻蚀在聚合物底层原位构筑微纳米结构，无需纳米粒子添加，减少了光的折射和散射，增加了涂层的可见光透光率，提高了涂层的均匀性和疏水性能，并且方法简单，可大规模制备，成本低廉，具有很好的工业应用前景。
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1.一种透明超疏水涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种透明超疏水涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤S1中，所述聚合物底层的厚度为0.1～10μm。
3.根据权利要求2所述的一种透明超疏水涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤S1中，所述聚合物底层由派瑞林、聚二甲基硅氧烷或聚丙烯制成。
4.根据权利要求2所述的一种透明超疏水涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤S2中，等离子刻蚀时使用的气体为Ar、O2、CF4或C4F8，等离子刻蚀时PECVD设备的功率为50～800W。
5.根据权利要求4所述的一种透明超疏水涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤S2中，具有微纳结构的聚合物底层表面的粗糙度为10～500nm。
6.根据权利要求1所述的一种透明超疏水涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤S3中，低表面能单体是全氟癸基丙烯酸酯。
7.根据权利要求6所述的一种透明超疏水涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤S3中，低表面能修饰时PECVD设备的功率为50～800W。
8.由权
9.根据权利要求8所述的透明超疏水涂层，其特征在于，所述透明超疏水涂层的可见光透光率≥85％，接触角＞150°，滚动角＜10°，厚度为500nm～10μm。
10.权利要求8或9所述透明超疏水涂层在光学镜头、电子产品三防防护或减阻领域中的应用。
...【技术特征摘要】
1.一种透明超疏水涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种透明超疏水涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤s1中，所述聚合物底层的厚度为0.1～10μm。
3.根据权利要求2所述的一种透明超疏水涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤s1中，所述聚合物底层由派瑞林、聚二甲基硅氧烷或聚丙烯制成。
4.根据权利要求2所述的一种透明超疏水涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤s2中，等离子刻蚀时使用的气体为ar、o2、cf4或c4f8，等离子刻蚀时pecvd设备的功率为50～800w。
5.根据权利要求4所述的一种透明超疏水涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤s2中，具有微纳结构的聚合物...
【专利技术属性】
技术研发人员：马付良，曾志翔，吴丽婷，沈路力，
申请(专利权)人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所，
类型：发明
国别省市：
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