光学系统的光源设计及生产方法、装置、电子设备制造方法及图纸

本发明专利技术提供的光学系统的光源设计及生产方法、装置、电子设备，方法包括：获取标准图像；根据初始光源及成像模组的设计参数，获得理论图像；根据标准图像与理论图像之间的差异调整初始光源的设计参数，直到差异满足照度均匀性要求，得到目标设计参数；目标设计参数用于制作目标光源。本发明专利技术根据标准图像和理论图像之间的差异，动态调整初始光源的设计参数，每一次参数调整后进行新一轮的标准图像与理论图像的对比,反馈对比结果，循环迭代直到得到最优目标设计参数,可以直接用于实际光源的制作,整个实现过程极大减少了人工参与成本，提高了设计效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及视觉成像，具体而言，涉及一种光学系统的光源设计及生产方法、装置、电子设备。

技术介绍

1、光源、相机和镜头作为机器视觉基础成像的三大组成部分,在视觉成像系统中都发挥着至关重要的作用。随着生产过程日趋复杂多样,对视觉成像系统的光照强度均匀性等要求不断提高。无论是新能源设备还是半导体行业,要求同时检测多个产品或处理成像拼接的大视野应用,或者需要检测细节特征的小视野应用,它们都对视觉成像系统内的光照强度分布在整个视野范围内保持一致性提出了很高的要求。如果光照不均,可能导致难以识别缺陷,图像算法处理时间加长难度增大等问题。

2、目前，影响视觉成像系统照度均匀性主要因素包括:相机素质如信噪比和明暗场均匀性等；镜头视场和光阑以及孔径等属性；视觉系统工作环境；光源属性,如工作角度尺寸、灯珠类型和配光曲线等。其中,光源属性对均匀性影响最大,且设计难度大。对复杂光源无法进行单一光照条件下的平场校正。部分应用还需对视野照度进行区域或梯度设计。除此之外,设计和制作双方难以清楚对方需要的参数,光源又难在定制时模拟照度分布,导致返工频繁、成本增加。

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【技术保护点】

1.一种光学系统的光源设计方法，其特征在于，所述光学系统包括成像模组和目标光源，所述方法包括：

2.根据权利要求1所述的光学系统的光源设计方法，其特征在于，所述标准图像包含照度均匀性影响因素或不包含照度均匀性影响因素。

3.根据权利要求2所述的光学系统的光源设计方法，其特征在于，获取标准图像，包括：

4.根据权利要求3所述的光学系统的光源设计方法，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的光学系统的光源设计方法，其特征在于，所述照度均匀性影响因素包括光学系统和环境光中的一者或多种组合导致的照度不均匀性；所述光学系统包括：成像镜组和相机。

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【技术特征摘要】

1.一种光学系统的光源设计方法，其特征在于，所述光学系统包括成像模组和目标光源，所述方法包括：

2.根据权利要求1所述的光学系统的光源设计方法，其特征在于，所述标准图像包含照度均匀性影响因素或不包含照度均匀性影响因素。

3.根据权利要求2所述的光学系统的光源设计方法，其特征在于，获取标准图像，包括：

4.根据权利要求3所述的光学系统的光源设计方法，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的光学系统的光源设计方法，其特征在于，所述照度均匀性影响因素包括光学系统和环境光中的一者或多种组合导致的照度不均匀性；所述光学系统包括：成像镜组和相机。

6.根据权利要求5所述的光学系统的光源设计方法，其特征在于，所述影响图像包括第一类影响图像和第二类影响图像中的一者或两者组合，获取所述照度均匀性影响因素下的影响图像，包括：

7.根据权利要求6所述的光学系统的光源设计方法，其特征在于，

8.根据权利要求7所述的光学系统的光源设计方法，其特征在于，利用测试光源向所述光学系统发射明场照明光，并通过所述相机采集明场图像，包括：

9.根据权利要求7所述的光学系统的光源设计方法，其特征在于，在所述光学系统未进入所述环境光的条件下，通过所述相机采集暗场图像，包括：

10.根据权利要求7所述的光学系统的光源设计方法，其特征在于，根据所述明场图像获取第一类影响图像，包括：

11.根据权利要求9所述的光学系统的光源设计方法，其特征在于，所述暗场图像的数量与所述明场图像的数量相等。

12.根据权利要求7所述的光学系统的光源设计方法，其特征在于，在采集所述明场图像和所述暗场图像的过程中，所述相机的曝光时间与实际拍摄环境的光线条件匹配；在采集所述明场图像的过...

【专利技术属性】
技术研发人员：陆俊杰，吴昌力，郑军，
申请(专利权)人：聚时科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：