【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及红外隐身材料，特别涉及一种低红外发射率涂层及其制备方法。
技术介绍
1、耐高温的红外低发射率材料对目标的生存能力具有重要作用，同时红外低发射率涂层具有制备工艺简单，不受工件形状限制，不改变目标外形和原有金属基底材料等优点，是红外技术研究的重点之一。耐高温低发射率涂层与其他涂层一样，由填料、粘合剂助剂等按照一定的比例混合、分散、涂覆、固化后制备得到。
2、然而，相关技术中，红外低发射率涂层使用的有机粘合剂耐温性能较差，高温下易氧化裂解，再加之低发射率填料的熔点低，无法在高温下正常工作，从而使得制备得到的涂层无法在高温下正常工作。
3、因此，基于上述问题，亟需提供一种红外低发射率涂层及其制备方法。
技术实现思路
1、本专利技术实施例提供了一种红外低发射率涂层及其制备方法，能够解决相关技术中在高温环境下红外发射率较高的问题。
2、第一方面，本专利技术提供了一种红外低发射率涂层，该涂层的制备原料包括无机磷酸盐粘合剂、红外低发射率填料和表面活性剂；其中，所述红外低发射率填料由碳酸钡、碳酸锶、氧化铝和二氧化硅依次经烧结和球磨化处理得到。
3、优选地，所述无机磷酸盐粘合剂的制备方法如下：
4、将磷酸和氢氧化铝混合反应，得到第一反应物；向所述第一反应物中加入氧化锌和氧化镁，混合后得到所述无机磷酸盐粘合剂。
5、更为优选地，磷酸、氢氧化铝、氧化锌和氧化镁的摩尔比为(2.5～3.5)：1：0.2：0.05。
<...【技术保护点】
1.一种红外低发射率涂层，其特征在于，该涂层的制备原料包括无机磷酸盐粘合剂、红外低发射率填料和表面活性剂；其中，所述红外低发射率填料由碳酸钡、碳酸锶、氧化铝和二氧化硅依次经烧结和球磨化处理后制备得到。
2.根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述无机磷酸盐粘合剂的制备方法如下：
3.根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述红外低发射率填料的制备方法如下：
4.根据权利要求3所述的涂层，其特征在于，在步骤S1中，碳酸钡、碳酸锶、氧化铝和二氧化硅的物质的量之比为(0.2～0.3)：(0.7～0.8)：1：2；和/或
5.根据权利要求3所述的涂层，其特征在于，在步骤S1中，所述烧结过程中分阶段进行升温；其中，第一阶段的升温速率为10～15℃/min，第二阶段的升温速率为4～8℃/min。
6.根据权利要求3所述的涂层，其特征在于，在步骤S2中，所述球磨的转速为350～450r/min，时间为5～7h，球料比为(4～5)：1。
7.根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述表面活性剂为硅烷偶联剂或十二烷基苯磺酸钠
8.根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，无机磷酸盐粘合剂、红外低发射率填料和表面活性剂的质量之比为(45～55)：(90～110)：(0.045～0.05)。
9.一种根据权利要求1至8中任一项所述的红外低发射率涂层的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：
10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，在步骤(3)中，所述固化为分阶段固化；其中，第一阶段固化的温度为20～30℃，时间20～24h；第二阶段固化的温度为450～550℃，时间为2～3h。
...【技术特征摘要】
1.一种红外低发射率涂层，其特征在于，该涂层的制备原料包括无机磷酸盐粘合剂、红外低发射率填料和表面活性剂；其中，所述红外低发射率填料由碳酸钡、碳酸锶、氧化铝和二氧化硅依次经烧结和球磨化处理后制备得到。
2.根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述无机磷酸盐粘合剂的制备方法如下：
3.根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述红外低发射率填料的制备方法如下：
4.根据权利要求3所述的涂层，其特征在于，在步骤s1中，碳酸钡、碳酸锶、氧化铝和二氧化硅的物质的量之比为(0.2～0.3)：(0.7～0.8)：1：2；和/或
5.根据权利要求3所述的涂层，其特征在于，在步骤s1中，所述烧结过程中分阶段进行升温；其中，第一阶段的升温速率为10～15℃/min，第二阶段的升温速率为4～8℃/min。
<...【专利技术属性】
技术研发人员：李金金，贺军哲，孙新，翁传欣，吴韦，卢天，
申请(专利权)人：北京环境特性研究所，
类型：发明
国别省市：
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