【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
涉及曝光装置以及器件制造方法。
技术介绍
1、以往，在制造基于液晶或有机el的显示面板、半导体元件(集成电路等)等的电子器件(微型器件)的光刻工序中，使用步进重复方式的投影曝光装置(所谓的步进光刻机)、或者步进扫描方式的投影曝光装置(所谓的扫描/步进光刻机(也被称为扫描仪))等。这种曝光装置在对玻璃基板、半导体晶片、印刷布线基板、树脂薄膜等的被曝光基板(以下也简称为基板)的表面涂敷的感光层投影曝光了电子器件用的掩膜图案。
2、已知由于制作固定形成该掩膜图案的掩膜基板需要花费时间和费用，所以取代掩膜基板，而使用了规则性地排列了微小位移的微镜的多个数字反射镜器件(dmd)等的空间光调制元件(可变掩膜图案生成器)的曝光装置(例如，参照专利文献1)。在专利文献1中公开的曝光装置中，例如，将利用多模式的纤维束混合了来自波长375nm的激光二极管(ld)的光和来自波长405nm的ld的光而得到的照明光照射至数字反射镜器件(dmd)，将来自被进行了倾斜控制的多个微镜的每一个的反射光经由成像光学系统、微型透镜阵列而投影曝光至基板。
3、期望提高曝光装置的生产量。
4、现有技术文献
5、专利文献
6、专利文献1：jp特开2019-23748号公报
技术实现思路
1、根据公开的方式，曝光装置相对于物体曝光与描绘数据对应的、由空间光调制器生成的图案光，所述曝光装置具备：向所述空间光调制器照射照明光的照明光学系统；向所述物体投影所述图案光的投影光
2、需要说明的是，也可以适当改善后述的实施方式的构成，另外，还可以是至少一部分由其他构成物代替。而且，针对配置没有特别限定的构成要件不限于在实施方式中公开的配置，能够配置在能够实现其功能的位置。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种曝光装置，其相对于物体曝光与描绘数据对应的、由空间光调制器生成的图案光，所述曝光装置的特征在于，具备：
2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
3.根据权利要求1或者2所述的曝光装置，其特征在于，
4.根据权利要求1或者2所述的曝光装置，其特征在于，
5.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，
6.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，
7.根据权利要求1至6中任一项所述的曝光装置，其特征在于，
8.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
9.根据权利要求8所述的曝光装置，其特征在于，
10.根据权利要求8或者9所述的曝光装置，其特征在于，
11.一种器件制造方法，为使用了曝光装置的器件制造方法，所述曝光装置具备向空间光调制器照射照明光的照明光学系统、以及具有将由所述空间光调制器生成的图案光投影至在第1移动体载置的物体上的光学元件的投影光学系统，所述器件制造方法的特征在于，包括：
12.一种曝光装置，其在具有被曝光了第1图
13.一种曝光装置，其在具有被曝光了第1图案的第1区域和第2区域的物体曝光由空间光调制器生成的第2图案光，所述曝光装置的特征在于，具备：
14.根据权利要求13所述的曝光装置，其特征在于，
15.一种曝光装置，其具备：
16.一种曝光装置，其一边使基板在扫描方向上移动一边利用经由了空间光调制器的光对所述基板进行扫描曝光，所述曝光装置的特征在于，具备：
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种曝光装置，其相对于物体曝光与描绘数据对应的、由空间光调制器生成的图案光，所述曝光装置的特征在于，具备：
2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
3.根据权利要求1或者2所述的曝光装置，其特征在于，
4.根据权利要求1或者2所述的曝光装置，其特征在于，
5.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，
6.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，
7.根据权利要求1至6中任一项所述的曝光装置，其特征在于，
8.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
9.根据权利要求8所述的曝光装置，其特征在于，
10.根据权利要求8或者9所述的曝光装置，其特征在于，
11.一种器件制造方法，为使用了曝光装置的器...
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