用于炉加热器的闸门制造技术

本发明专利技术涉及对在半导体制造时使用的炉的加热器入口进行开闭的闸门，更详细而言，其披露一种关于用于炉加热器的闸门的技术，其中，通过利用滚珠花键和止推轴承，可以在气缸升降的同时旋转，从而开闭加热器的入口，并且通过使冷却水可以循环到闸门的下部的同时使热量传递到止推轴承的情形最小化，从而防止止推轴承的变形和损坏，由此对热量稳定且精确地运转，从而能够安全且牢固地开闭加热器的入口。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及对在半导体制造时使用的炉的加热器入口进行开闭的闸门，更详细而言，其涉及一种关于用于炉加热器的闸门的，其中，通过利用滚珠花键和止推轴承，可以在由气缸进行升降的同时旋转，从而开闭加热器的入口，并且通过使冷却水可以循环到闸门的下部的同时使热量传递到止推轴承的情形最小化，来防止止推轴承的变形和损坏，由此对热量稳定且精确地运转，从而能够安全且牢固地开闭加热器的入口。

技术介绍

1、炉装置是承担形成构成半导体工艺的核心结构元件的透明传导层、绝缘层、金属层或硅层的步骤的装置，其有诸如低压化学气相沉积(low pressure chemical vapordeposition，lpcvd)或等离子体增强化学气相沉积(plasma enhanced chemical vapordeposition，pecvd)的化学沉积装置和诸如氧化作用(oxidation)的在半导体晶片(wafer)上方生长氧化物(oxide)的装置。并且，退火装置是在沉积工艺后承担为了结晶化、相变化等而伴随的热处理步骤的装置。

2、例如，在半导体工艺的情况下，在沉积工艺和退火本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于炉加热器的闸门，所述闸门用于打开和关闭炉加热器入口，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的用于炉加热器的闸门，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的用于炉加热器的闸门，其特征在于，

4.根据权利要求2所述的用于炉加热器的闸门，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的用于炉加热器的闸门，其特征在于，

6.根据权利要求1所述的用于炉加热器的闸门，其特征在于，

7.根据权利要求1所述的用于炉加热器的闸门，其特征在于，

8.根据权利要求4所述的用于炉加热器的闸门，其特征在于，</p>

9.根据...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种用于炉加热器的闸门，所述闸门用于打开和关闭炉加热器入口，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的用于炉加热器的闸门，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的用于炉加热器的闸门，其特征在于，

4.根据权利要求2所述的用于炉加热器的闸门，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的用于炉加热器的闸门，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：金贞淑，
申请(专利权)人：JS方案有限公司，
类型：发明
国别省市：