【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及高分子多孔材料制备领域，具体涉及一种定向多孔结构及其制备方法。
技术介绍
1、在半导体制造加工过程中，所用的湿电子化学品需要具有高纯净度以减少晶圆上的缺陷。湿电子化学品制造商在生产过程中使用批量过滤消除了大部分溶液中的颗粒物或离子。但随着摩尔定律推动关键尺寸不断的降低，湿化学品在使用前需要经过高精度的点过滤，以消除任何可能转化为晶圆上缺陷的颗粒物。例如光刻工艺中，光刻胶、抗反射涂层或显影液在涂覆前都需要经过10nm或20nm孔径的过滤器来减少缺陷和提高良率，在先进制程中，过滤器中滤膜的孔径甚至达到5nm和2nm。
2、为了减少或消除晶圆上的缺陷，开发了小孔径的滤膜过滤技术。
3、当前滤膜的制备方法通常为层层自组装法、界面聚合法、相转化法、冷冻干燥法等。
4、层层自组装法是在具有正电荷的基膜上通过吸附带阴离子的单体，再吸附带阳离子单体，反复层层组装，形成多层自组装膜。该方法可以灵活控制滤膜表面形貌与孔径，但组装效率低，往往需要多次循环组装才能形成小孔径的滤膜。
5、界面聚合法是...
【技术保护点】
1.一种纳米定向多孔结构的制备方法，其特征在于，包括步骤：
2.根据权利要求1所述的纳米定向多孔结构的制备方法，其特征在于，通过调节高分子材料/水/有机溶剂混合液的比例，控制所述纳米级微液滴的尺寸。
3.根据权利要求1所述的纳米定向多孔结构的制备方法，其特征在于，所述高分子材料/水溶液是聚乙烯醇/水溶液。
4.根据权利要求3所述的纳米定向多孔结构的制备方法，其特征在于，所述聚乙烯醇的分子量为10000至20000Mw。
5.根据权利要求3所述的纳米定向多孔结构的制备方法，其特征在于，所述聚乙烯醇/水溶液的质量百分比为2％...
【技术特征摘要】
1.一种纳米定向多孔结构的制备方法，其特征在于，包括步骤：
2.根据权利要求1所述的纳米定向多孔结构的制备方法，其特征在于，通过调节高分子材料/水/有机溶剂混合液的比例，控制所述纳米级微液滴的尺寸。
3.根据权利要求1所述的纳米定向多孔结构的制备方法，其特征在于，所述高分子材料/水溶液是聚乙烯醇/水溶液。
4.根据权利要求3所述的纳米定向多孔结构的制备方法，其特征在于，所述聚乙烯醇的分子量为10000至20000mw。
5.根据权利要求3所述的纳米定向多孔结构的制备方法，其特征在于，所述聚乙烯醇/水溶液的质量百分比为2％至15％，优选为4％至15％，更优选为15％。
6.根据权利要求3所述的纳米定向多孔结构的制备方法，其特征在于，所述有机溶剂包括与水互溶的溶剂或者与水不互溶的溶剂，所述与水互溶的溶剂为乙醇，异丙醇、叔丁醇、乙腈、丙酮、四氢呋喃或二甲基亚砜；所述与水不互溶的溶剂为环己烷、正己烷、甲苯或氯苯。
7.根据权利要求6所述的纳米定向多孔结构的制备方法，其特征在于，所述乙醇的质量百分比为5％至95％，优选为16.67％或15.83％。
8.根据权利要求1所述的纳米定向...
【专利技术属性】
技术研发人员：车鹏达，贾会静，刘芸，张盼，郑宁，
申请(专利权)人：北方集成电路技术创新中心北京有限公司，
类型：发明
国别省市：
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