测量装置及晶圆测量系统制造方法及图纸

技术编号:40571392 阅读:26 留言:0更新日期:2024-03-05 20:57
本技术涉及一种测量装置及晶圆测量系统,测量装置包括固定组件、活动组件及测量组件,固定组件用于连接至移载装置,活动组件设置于固定组件,并能够相对于固定组件运动;测量组件相对于活动组件固定,测量组件能够运动至测量基准面平行于陶瓷盘的方位。该测量装置能够适用于处于不同状态的陶瓷盘,即使陶瓷盘倾斜设置,也能够通过活动组件相对于固定组件运动,使得活动组件能够稳定地支撑于陶瓷盘上,从而使得测量组件也能够稳定地与陶瓷盘或晶圆接触,保证对晶圆的测量精度,同时降低对陶瓷盘的位置精度要求。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及晶圆生产,特别是一种测量装置及晶圆测量系统


技术介绍

1、在晶圆的生产加工过程中,为了保证晶圆的加工精度,通常需要多次测量晶圆的厚度、斜度等参数。现有的自动测量晶圆参数的装置中,通常需要将陶瓷盘放置于水平的检测位上,然后将多个在同一水平高度上的探针下压,以测量晶圆的参数。

2、但是,这种测量方式对陶瓷盘的位置精度要求较高,陶瓷盘必须要处于水平状态才能够保证晶圆的测量精度。


技术实现思路

1、基于此,有必要针对上述问题,提供一种测量装置及晶圆测量系统,该测量装置能够在保证测量精度的同时,降低对陶瓷盘的位置精度要求。

2、本技术首先提供一种测量装置,用于测量固定于陶瓷盘的晶圆的参数,包括:固定组件,用于连接至移载装置;活动组件,设置于所述固定组件,并能够相对于所述固定组件运动;以及,测量组件,相对于所述活动组件固定,所述测量组件能够运动至测量基准面平行于所述陶瓷盘的方位。

3、上述测量装置中,测量装置能够沿第一方向运动靠近陶瓷盘,当活动组件支撑于陶瓷盘时,活动组件会本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种测量装置,用于测量固定于陶瓷盘(4)的晶圆(5)的参数,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的测量装置,其特征在于,所述固定组件(31)包括固定板(311)及自所述固定板(311)沿第一方向延伸的限位件(312);

3.根据权利要求2所述的测量装置,其特征在于,所述活动组件(32)还包括设置于所述活动板(321)的导向件(323),所述固定板(311)设有与所述导向件(323)对应的导向孔(3111),所述导向孔(3111)用于对所述导向件(323)滑动导向,并能够限制所述导向件(323)脱出所述导向孔(3111)。

4.根据权利要求3所...

【技术特征摘要】

1.一种测量装置,用于测量固定于陶瓷盘(4)的晶圆(5)的参数,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的测量装置,其特征在于,所述固定组件(31)包括固定板(311)及自所述固定板(311)沿第一方向延伸的限位件(312);

3.根据权利要求2所述的测量装置,其特征在于,所述活动组件(32)还包括设置于所述活动板(321)的导向件(323),所述固定板(311)设有与所述导向件(323)对应的导向孔(3111),所述导向孔(3111)用于对所述导向件(323)滑动导向,并能够限制所述导向件(323)脱出所述导向孔(3111)。

4.根据权利要求3所述的测量装置,其特征在于,所述导向件(323)包括滑动穿设于所述导向孔(3111)的导向部(3231)及设置于所述导向部(3231)远离所述活动板(321)的一端的抵挡部(3232),所述导向孔(3111)的直径大于所述导向部(3231)的外径,且小于所述抵挡部(3232)的外径。

5.根据权利要求2所述的测量装置,其特征在于,所述限位件(312)的数量为多个,多个所述限位件(312)沿所述固定板(311)的周向间隔布置,所述限位件(312)的...

【专利技术属性】
技术研发人员:朱亮李阳健骆万钞贺军杰张涛
申请(专利权)人:浙江晶盛机电股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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