一种低杂散光单色仪制造技术

本发明专利技术公开了一种低杂散光单色仪，其特征在于入射狭缝所在平面与入射光轴倾斜相交，出射狭缝所在平面与出射光轴倾斜相交。通过这种方式，原本会引起杂散光的非期望光路的光线被入射狭缝或出射狭缝反射到期望光路以外，从而大幅减少杂散光。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光谱辐射测量和光谱分析装置，具体涉及一种低杂散光单色仪。
技术介绍
单色仪是从具有复杂光谱或从连续光谱的光源中分离出不同波长单色光的仪器，经常用作其他光谱仪器或光谱装置中产生单色光的一个部件。单色仪的杂散光是指出射光束中所需光谱宽度范围以外其他波长的光辐射量，杂散光强度是衡量单色仪的一个重要参数。单色仪的杂散光包括不同衍射级次间的重叠和非预期的反射等，不同衍射级次间重叠所引起的杂散光可通过滤色镜滤除，而非期望的反射光线所带来的杂散光却难以消除。众所周知，光束从入射狭缝进入单色仪，经过色散元件被分光，在以色散元件为起点的空间内的各个方向上分布了不同波长的光线，其中仅有小部分的光线从出射狭缝射出，其余的大部分光线仍然分布在单色仪内部。这部分光线在光学器件间发生非期望反射，特别是发生在入射狭缝和出射狭缝上的一次非期望反射，会形成极为可观的杂散光。一方面，一部分经色散元件分光后的非期望光路的光线入射到入射狭缝或出射狭缝上，又被狭缝反射到期望光路中，形成杂散光；另一方面，当狭缝前后设有滤色镜时，狭缝和滤色镜之间还会相互反射，引入杂散光。【专利技术内容】针对上述现有技本文档来自技高网...

【技术保护点】
４一种低杂散光单色仪，包括入射狭缝（１）、出射狭缝（４）和色散系统（３），其特征在于，入射狭缝（１）所在平面与入射光轴（６）倾斜相交，出射狭缝（４）所在平面与出射光轴（７）倾斜相交。

【技术特征摘要】
1.一种低杂散光单色仪，包括入射狭缝(1)、出射狭缝(4)和色散系统(3)，其特征在于，入射狭缝(1)所在平面与入射光轴(6)倾斜相交，出射狭缝(4)所在平面与出射光轴(7)倾斜相交。2.根据权利要求1所述的一种低杂散光单色仪，其特征在于，所述色散系统(3)是凹面光栅。3.根据权利要求1所述的一种低杂散光单色仪，其特征在于，所述色散系统(3)包括准直元件(3-1)、色散元件(3-2)和会聚元件(3-3)。4.根据权利要求1所述的一种低杂散光单色仪，其特征在于，在光路中，所述入射狭缝(1)的前面或后面设有与入射光轴(6)倾斜相交的第一滤色镜(...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘建根，
申请(专利权)人：杭州远方光电信息有限公司，
类型：发明
国别省市：86[中国|杭州]