【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体制造领域，特别是涉及一种光罩吹扫装置。
技术介绍
1、在半导体生产中，光罩会频繁的使用，在使用过程中会有particle(颗粒物)掉落、甚至粘贴在光罩的玻璃基体或者保护膜层上，这些particle会导致光罩曝光区引入微尘粒子(particle)等异物导致缺陷(defect)。
2、因此，需要采用吹扫以去除这些particle，大多数都是直接用氮气枪吹除，由于吹扫角度、吹扫气压的影响，譬如吹扫气流接近垂直于光罩表面，就会使particle划伤保护膜，导致破损)，进而导致晶圆良率降低(yield loss)，并且光罩需要返厂维护，增加制程成本。
技术实现思路
1、鉴于以上所述现有技术的缺点，本技术的目的在于提供一种光罩吹扫装置，用于解决在采用吹扫手段清洁光罩表面颗粒物时，易造成光罩表面划伤的问题。
2、为实现上述目的及其他相关目的，本技术提供一种光罩吹扫装置，所述光罩吹扫装置用于清洁光罩表面，所述光罩吹扫装置包括：支架、吹扫枪及转动机构；其中，
3、所述吹扫枪通过所述支架设置在所述光罩上侧，其喷射的气流的流向与所述光罩表面呈一夹角；
4、所述转动机构固定设置在所述支架上，并与所述吹扫枪直接或间接连接，所述转动机构通过控制所述吹扫枪的转动控制所述夹角的大小。
5、可选地，所述夹角介于0°～45°。
6、可选地，所述支架高度可调节。
7、可选地，所述吹扫枪与所述光罩的距离大于等于1cm。p>
8、可选地，所述转动机构与所述吹扫枪直接连接时，所述吹扫枪固定设置在所述转动机构的转动轴上，所述转动机构的转动轴直接带动所述吹扫枪转动。
9、可选地，所述转动机构与所述吹扫枪间接连接时，所述支架包括纵向支架及横向滑臂，所述转动机构固定设置在所述纵向支架上，所述吹扫枪设置在所述横向滑臂上，所述转动机构的转动轴带动所述横向滑臂转动，并间接带动所述吹扫枪转动。
10、可选地，所述横向滑臂包括滑杆及套设在所述滑杆上的滑动座，其中，所述滑杆与所述转动机构连接，所述滑动座与所述吹扫枪连接；所述转动机构带动所述滑杆转动，并间接带动所述滑动座及所述吹扫枪转动。
11、可选地，所述滑动座在外力驱动下可沿所述滑杆进行滑动，并带动所述吹扫枪滑动。
12、可选地，所述光罩吹扫装置还包括：平移底座，所述平移底座包括上底板及下底板，所述支架与所述下底板连接，所述上底板作为所述光罩的搁置平台，且所述上底板相对于所述下底板可平移。
13、可选地，所述光罩吹扫装置还包括：平移底座，所述平移底座设置有滑轨，所述支架设置有滑块，所述滑块与所述滑轨相互嵌合。
14、可选地，所述光罩吹扫装置还包括：流量控制阀；所述流量控制阀与所述吹扫枪连接。
15、可选地，所述光罩吹扫装置包括多个所述吹扫枪，多个所述吹扫枪等间距成列设置在所述支架上。
16、综上所述，本技术提供了一种光罩吹扫装置，设置有转动机构，用于控制吹扫枪的吹扫角度，并且可以控制吹扫枪的吹扫距离，以有效避免光罩上颗粒物受到的吹扫压力过大，导致光罩表面划伤，同时，光罩吹扫装置还设置有平移底座，以有效的控制吹扫枪相对于光罩表面的移动速度，确保能够均匀的吹扫光罩的整个表面。
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1.一种光罩吹扫装置，用于清洁光罩表面，其特征在于，所述光罩吹扫装置包括：支架、吹扫枪及转动机构；其中，
2.根据权利要求1所述的光罩吹扫装置，其特征在于，所述支架高度可调节。
3.根据权利要求1所述的光罩吹扫装置，其特征在于，所述吹扫枪与所述光罩的距离大于等于1cm。
4.根据权利要求1-3任一项所述的光罩吹扫装置，其特征在于，所述转动机构与所述吹扫枪直接连接时，所述吹扫枪固定设置在所述转动机构的转动轴上，所述转动机构的转动轴直接带动所述吹扫枪转动。
5.根据权利要求1-3任一项所述的光罩吹扫装置，其特征在于，所述转动机构与所述吹扫枪间接连接时，所述支架包括纵向支架及横向滑臂，所述转动机构固定设置在所述纵向支架上，所述吹扫枪设置在所述横向滑臂上，所述转动机构的转动轴带动所述横向滑臂转动，并间接带动所述吹扫枪转动。
6.根据权利要求5所述的光罩吹扫装置，其特征在于，所述横向滑臂包括滑杆及套设在所述滑杆上的滑动座，其中，所述滑杆与所述转动机构连接，所述滑动座与所述吹扫枪连接；所述转动机构带动所述滑杆转动，并间接带动所述滑动
7.根据权利要求6所述的光罩吹扫装置，其特征在于，所述滑动座在外力驱动下可以沿所述滑杆进行滑动，并带动所述吹扫枪滑动。
8.根据权利要求1-3任一项所述的光罩吹扫装置，其特征在于，所述光罩吹扫装置还包括：平移底座，所述平移底座包括上底板及下底板，所述支架与所述下底板连接，所述上底板作为所述光罩的搁置平台，且所述上底板相对于所述下底板可平移。
9.根据权利要求1-3任一项所述的光罩吹扫装置，其特征在于，所述光罩吹扫装置还包括：平移底座，所述平移底座设置有滑轨，所述支架设置有滑块，所述滑块与所述滑轨相互嵌合。
10.根据权利要求1-3任一项所述的光罩吹扫装置，其特征在于，所述光罩吹扫装置还包括：流量控制阀；所述流量控制阀与所述吹扫枪连接。
11.根据权利要求1-3任一项所述的光罩吹扫装置，其特征在于，所述光罩吹扫装置包括多个所述吹扫枪，多个所述吹扫枪等间距依次设置在所述支架上。
...【技术特征摘要】
1.一种光罩吹扫装置，用于清洁光罩表面，其特征在于，所述光罩吹扫装置包括：支架、吹扫枪及转动机构；其中，
2.根据权利要求1所述的光罩吹扫装置，其特征在于，所述支架高度可调节。
3.根据权利要求1所述的光罩吹扫装置，其特征在于，所述吹扫枪与所述光罩的距离大于等于1cm。
4.根据权利要求1-3任一项所述的光罩吹扫装置，其特征在于，所述转动机构与所述吹扫枪直接连接时，所述吹扫枪固定设置在所述转动机构的转动轴上，所述转动机构的转动轴直接带动所述吹扫枪转动。
5.根据权利要求1-3任一项所述的光罩吹扫装置，其特征在于，所述转动机构与所述吹扫枪间接连接时，所述支架包括纵向支架及横向滑臂，所述转动机构固定设置在所述纵向支架上，所述吹扫枪设置在所述横向滑臂上，所述转动机构的转动轴带动所述横向滑臂转动，并间接带动所述吹扫枪转动。
6.根据权利要求5所述的光罩吹扫装置，其特征在于，所述横向滑臂包括滑杆及套设在所述滑杆上的滑动座，其中，所述滑杆与所述转动机构连接，所述滑动座与...
【专利技术属性】
技术研发人员：马如贵，
申请(专利权)人：芯恩青岛集成电路有限公司，
类型：新型
国别省市：
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