【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体制造领域，特别是涉及一种光罩吹扫装置。
技术介绍
1、在半导体生产中，光罩会频繁的使用，在使用过程中会有particle(颗粒物)掉落、甚至粘贴在光罩的玻璃基体或者保护膜层上，这些particle会导致光罩曝光区引入微尘粒子(particle)等异物导致缺陷(defect)。
2、因此，需要采用吹扫以去除这些particle，大多数都是直接用氮气枪吹除，由于吹扫角度、吹扫气压的影响，譬如吹扫气流接近垂直于光罩表面，就会使particle划伤保护膜，导致破损)，进而导致晶圆良率降低(yield loss)，并且光罩需要返厂维护，增加制程成本。
技术实现思路
1、鉴于以上所述现有技术的缺点，本技术的目的在于提供一种光罩吹扫装置，用于解决在采用吹扫手段清洁光罩表面颗粒物时，易造成光罩表面划伤的问题。
2、为实现上述目的及其他相关目的，本技术提供一种光罩吹扫装置，所述光罩吹扫装置用于清洁光罩表面，所述光罩吹扫装置包括：支架、吹扫枪及转动机构；其中，
<...【技术保护点】
1.一种光罩吹扫装置，用于清洁光罩表面，其特征在于，所述光罩吹扫装置包括：支架、吹扫枪及转动机构；其中，
2.根据权利要求1所述的光罩吹扫装置，其特征在于，所述支架高度可调节。
3.根据权利要求1所述的光罩吹扫装置，其特征在于，所述吹扫枪与所述光罩的距离大于等于1cm。
4.根据权利要求1-3任一项所述的光罩吹扫装置，其特征在于，所述转动机构与所述吹扫枪直接连接时，所述吹扫枪固定设置在所述转动机构的转动轴上，所述转动机构的转动轴直接带动所述吹扫枪转动。
5.根据权利要求1-3任一项所述的光罩吹扫装置，其特征在于，所述转动...
【技术特征摘要】
1.一种光罩吹扫装置，用于清洁光罩表面，其特征在于，所述光罩吹扫装置包括：支架、吹扫枪及转动机构；其中，
2.根据权利要求1所述的光罩吹扫装置，其特征在于，所述支架高度可调节。
3.根据权利要求1所述的光罩吹扫装置，其特征在于，所述吹扫枪与所述光罩的距离大于等于1cm。
4.根据权利要求1-3任一项所述的光罩吹扫装置，其特征在于，所述转动机构与所述吹扫枪直接连接时，所述吹扫枪固定设置在所述转动机构的转动轴上，所述转动机构的转动轴直接带动所述吹扫枪转动。
5.根据权利要求1-3任一项所述的光罩吹扫装置，其特征在于，所述转动机构与所述吹扫枪间接连接时，所述支架包括纵向支架及横向滑臂，所述转动机构固定设置在所述纵向支架上，所述吹扫枪设置在所述横向滑臂上，所述转动机构的转动轴带动所述横向滑臂转动，并间接带动所述吹扫枪转动。
6.根据权利要求5所述的光罩吹扫装置，其特征在于，所述横向滑臂包括滑杆及套设在所述滑杆上的滑动座，其中，所述滑杆与所述转动机构连接，所述滑动座与...
【专利技术属性】
技术研发人员：马如贵，
申请(专利权)人：芯恩青岛集成电路有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。