【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及微粒陷阱，具体指一种栅格式微粒陷阱及gis母线管道。
技术介绍
1、气体绝缘变电站设备(gis)在制造、运输、安装和运行过程中已经得到了广泛应用，但是现阶段由于加工工艺水平不足，其安装挤压、机械开关动作或是工作时热胀冷缩都会对设备造成损害，进而产生金属微粒，金属微粒通过电极带电荷，在gis内部径向电场的作用下漂浮，并在轴向电场作用下自由移动，在使用过程中，金属微粒存在的地方会产生严重电场畸变，形成不均匀电场，甚至造成绝缘薄弱区击穿的现象，当其沿着轴向附着于绝缘喷子表面时，还极易引起闪络故障，由此，金属微粒成为了危害设备运行安全的主要因素之一，通过整合近十年gis设备故障引发原因的数据来看，金属微粒引发的gis设备故障占比已经达到50％左右。
2、金属微粒在gis设备内部的危害主要来源于其在gis内部的悬浮移动和在绝缘子表面的附着，所以为了抑制金属微粒的危害，目前行业内主要研究处以下几个思路：1、防止金属微粒带电；2、提高带电金属微粒的启举电压；3、抑制悬浮金属微粒向绝缘盆子移动和防止金属微粒附着于盆子表面，依据以上思路，也产生了相应的解决方法：即：在电极表面覆膜以减少金属微粒带点、在绝缘盆子表面覆膜以降低启举电压、通过设置微粒陷阱或驱赶电极以抑制金属微粒移动。这其中，由于设置微粒陷阱结构成本低、效果好、操作简便且无需频繁保养检修，由此成为现阶段行业内抑制金属微粒危害的首选方式。
3、微粒陷阱的解决思路是gis径向产生一个低电场区，微粒经过此区域时，由于径向电场降低，导致电场力无法抵消重力，进
4、微粒落入陷阱时分为三种情况，具体为：直接陷入底部，碰撞边沿后陷入和由陷阱上部陷入。在这三种入陷情况中，底部入陷的微粒对设备安全影响最小，微粒会直接落入等电势区并附着于外壳，不再移动；当微粒碰撞陷阱侧边边沿时，由于微粒不能受到进一步的导向作用，因此会朝向其他方向飞散或停止于陷阱边缘，当电压升高时，这些微粒仍可能继续升高悬浮，向远离陷阱方向移动，由此大大降低了微粒陷阱对金属微粒的捕获率，进而成为限制微粒陷阱工作效果的主要因素。
技术实现思路
1、为此，本专利技术所要解决的技术问题在于克服现有技术中，金属微粒在碰撞边沿后陷入时，微粒捕获率低的问题，提供一种栅格式微粒陷阱及gis母线管道。
2、为解决上述技术问题，本专利技术提供了一种栅格式微粒陷阱，其包括：本体；多个栅格，多个所述栅格均匀间隔设置于所述本体上，任意相邻两个所述栅格之间的直线间隔距离为1-2cm，所述栅格外周均包括第一功能面及第二功能面，所述第一功能面及所述第二功能面相连，且均为向外凸出的弧面，其中，所述第一功能面的弧度为0.64π～0.75πrad，所述第二功能面的弧度为0.19π～0.31πrad。
3、在本专利技术的一个实施例中，所述第一功能面与所述第二功能面之间平滑过渡连接。
4、在本专利技术的一个实施例中，所述栅格还包括第三功能面，所述第三功能面连接于所述第一功能面且位于所述第二功能面相对一侧。
5、在本专利技术的一个实施例中，所述第三功能面为向外凸出的弧面，其弧度为0.19π～0.31πrad。
6、在本专利技术的一个实施例中，所述第三功能面为朝向其安装表面设置的斜面。
7、在本专利技术的一个实施例中，其还包括安装部。
8、为解决上述技术问题，本专利技术提供了一种gis母线管道，其包括上述栅格式微粒陷阱、壳体以及绝缘子。
9、在本专利技术的一个实施例中，所述栅格式微粒陷阱及所述绝缘子均安装于所述壳体内部，且所述栅格式微粒陷阱设置于所述绝缘子下方，所述本体在所述壳体高度方向与壳体内壁及所述绝缘子间隔设置。
10、在本专利技术的一个实施例中，所述栅格式微粒陷阱环绕所述壳体内壁设置，其环绕角度为100°～130°。
11、在本专利技术的一个实施例中，所述本体与所述绝缘子之间的直线间隔距离为15-30cm；所述本体与所述壳体内壁之间的直线间隔距离为2.5-5cm；所述壳体内壁厚度为3cm-10cm。
12、本专利技术的上述技术方案相比现有技术具有以下优点：
13、本专利技术的栅格式微粒陷阱及gis母线管道通过第一功能面及第二功能面对碰撞边沿后的金属微粒的移动方向进行导向，能够使金属微粒经过多次反复撞击后坠入陷阱，降低了微粒逃逸概率，同时其外表面的特殊结构设计还能够缓解电场畸变，在电场分布影响相似的情况下，其能有提高微粒陷阱从底部入陷的概率，提高捕获率，由此，既防止了金属微粒逃逸，又能有利于金属微粒入陷，最大程度提高了其对金属微粒的捕获率，是一种具有广阔使用前景的新型栅格式微粒陷阱及gis母线管道。
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1.一种栅格式微粒陷阱，其特征在于：包括：
2.根据权利要求1所述的栅格式微粒陷阱，其特征在于：所述第一功能面与所述第二功能面之间平滑过渡连接。
3.根据权利要求1所述的栅格式微粒陷阱，其特征在于：所述栅格还包括第三功能面，所述第三功能面连接于所述第一功能面且位于所述第二功能面相对一侧。
4.根据权利要求3所述的栅格式微粒陷阱，其特征在于：所述第三功能面为向外凸出的弧面，其弧度为0.19π～0.31πrad。
5.根据权利要求3所述的栅格式微粒陷阱，其特征在于：所述第三功能面为朝向其安装表面设置的斜面。
6.根据权利要求1所述的栅格式微粒陷阱，其特征在于：其还包括安装部。
7.一种GIS母线管道，其特征在于：包括权利要求1～6中任意一项所述的栅格式微粒陷阱、壳体以及绝缘子。
8.根据权利要求7所述的GIS母线管道，其特征在于：所述栅格式微粒陷阱及所述绝缘子均安装于所述壳体内部，且所述栅格式微粒陷阱设置于所述绝缘子下方，所述本体在所述壳体高度方向与壳体内壁及所述绝缘子间隔设置。
9.根据
10.根据权利要求7所述的GIS母线管道，其特征在于：所述本体与所述绝缘子之间的直线间隔距离为15-30cm；所述本体与所述壳体内壁之间的直线间隔距离为2.5-5cm；所述壳体内壁厚度为3cm-10cm。
...【技术特征摘要】
1.一种栅格式微粒陷阱，其特征在于：包括：
2.根据权利要求1所述的栅格式微粒陷阱，其特征在于：所述第一功能面与所述第二功能面之间平滑过渡连接。
3.根据权利要求1所述的栅格式微粒陷阱，其特征在于：所述栅格还包括第三功能面，所述第三功能面连接于所述第一功能面且位于所述第二功能面相对一侧。
4.根据权利要求3所述的栅格式微粒陷阱，其特征在于：所述第三功能面为向外凸出的弧面，其弧度为0.19π～0.31πrad。
5.根据权利要求3所述的栅格式微粒陷阱，其特征在于：所述第三功能面为朝向其安装表面设置的斜面。
6.根据权利要求1所述的栅格式微粒陷阱，其特征在于：其还包括安装部。
7.一种gi...
【专利技术属性】
技术研发人员：薛志刚，牛曙，李国栋，李帅，刘宏，陈青松，陈捷元，张赛鹏，李杰，师伟，
申请(专利权)人：国网山西省电力公司电力科学研究院，
类型：发明
国别省市：
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