【技术实现步骤摘要】
技术介绍
1、光学设备可以用于捕获与光有关的信息。例如，光学设备可以捕获和与光相关联的波长集合有关的信息。光学设备可以包括捕获信息的传感器元件集合(例如，光学传感器、光谱传感器和/或图像传感器)。例如，传感器元件阵列可以用于捕获与多个波长有关的信息。传感器元件阵列可以与光学滤光器相关联。光学滤光器可以包括通带，该通带与传递到传感器元件阵列的光的第一波长范围相关联。光学滤光器可以与阻挡光的第二波长范围传递到传感器元件阵列相关联。
技术实现思路
1、在一些实现方式中，光学干涉滤光器包括衬底和多个层集合，该多个层集合被设置在衬底上，其中每个层集合包括第一层、第二层和第三层，该第一层至少包括铝和氮，该第二层至少包括硅和氧，该第三层至少包括氢和硅，其中第二层被设置在第一层与第三层之间。
2、在一些实现方式中，光学干涉滤光器包括一个或多个层集合，其中每个层集合包括第一层、第二层和第三层，该第一层至少包括铝和氮，该第二层至少包括硅和氧，该第三层至少包括氢和硅，其中第二层被设置在第一层与第三层之间。
3、在一些实现方式中，晶片包括多个光学干涉滤光器，其中每个光学干涉滤光器包括衬底和多个层集合，该多个层集合被设置在衬底上，其中每个层集合包括第一层、第二层和第三层，该第一层至少包括铝和氮，该第二层至少包括硅和氧，该第三层至少包括氢和硅，其中第二层被设置在第一层与第三层之间。
【技术保护点】
1.一种光学干涉滤光器，包括：
2.根据权利要求1所述的光学干涉滤光器，其中所述第二层的厚度介于2纳米与10纳米之间。
3.根据权利要求1所述的光学干涉滤光器，其中所述第二层的第一表面被设置在所述第一层的表面上，并且
4.根据权利要求1所述的光学干涉滤光器，其中每个层集合还包括第四层，所述第四层包括SiO2材料，并且
5.根据权利要求1所述的光学干涉滤光器，其中所述衬底的厚度大于或等于50微米。
6.根据权利要求1所述的光学干涉滤光器，其中所述多个层集合被配置为使与800纳米与1000纳米之间的光谱范围相关联的阈值百分比的光通过，
7.根据权利要求1所述的光学干涉滤光器，其中所述多个层集合的净应力近似等于特定量的应力。
8.根据权利要求1所述的光学干涉滤光器，其中：
9.根据权利要求1所述的光学干涉滤光器，其中所述多个层集合中的至少一个层集合被设置在所述衬底的第一表面上，并且
10.一种光学干涉滤光器，包括：
11.根据权利要求10所述的光学干涉滤光器，其中所述
12.根据权利要求10所述的光学干涉滤光器，其中所述第二层的第一表面被设置在所述第一层的表面上，并且
13.根据权利要求10所述的光学干涉滤光器，其中每个层集合还包括第四层，所述第四层至少包括硅和氧，并且其中：
14.根据权利要求10所述的光学干涉滤光器，还包括另一层集合，所述另一层集合被设置在所述一个或多个层集合中的特定层集合上，其中所述其他层集合包括：
15.根据权利要求14所述的光学干涉滤光器，其中所述第四层的表面被设置在所述第五层的表面上。
16.一种晶片，包括：
17.根据权利要求16所述的晶片，其中所述第二层的厚度介于2纳米与40纳米之间。
18.根据权利要求16所述的晶片，其中所述第二层的第一表面被设置在所述第一层的表面上，并且
19.根据权利要求16所述的晶片，其中每个层集合还包括第四层，所述第四层至少包括硅和氧，并且其中：
20.根据权利要求16所述的晶片，其中所述多个光学干涉滤光器使用切单过程形成，
...【技术特征摘要】
1.一种光学干涉滤光器，包括：
2.根据权利要求1所述的光学干涉滤光器，其中所述第二层的厚度介于2纳米与10纳米之间。
3.根据权利要求1所述的光学干涉滤光器，其中所述第二层的第一表面被设置在所述第一层的表面上，并且
4.根据权利要求1所述的光学干涉滤光器，其中每个层集合还包括第四层，所述第四层包括sio2材料，并且
5.根据权利要求1所述的光学干涉滤光器，其中所述衬底的厚度大于或等于50微米。
6.根据权利要求1所述的光学干涉滤光器，其中所述多个层集合被配置为使与800纳米与1000纳米之间的光谱范围相关联的阈值百分比的光通过，
7.根据权利要求1所述的光学干涉滤光器，其中所述多个层集合的净应力近似等于特定量的应力。
8.根据权利要求1所述的光学干涉滤光器，其中：
9.根据权利要求1所述的光学干涉滤光器，其中所述多个层集合中的至少一个层集合被设置在所述衬底的第一表面上，并且
10.一种光学干涉滤光器，包括：
11.根据权利要求10所述的光学干涉滤光器，...
【专利技术属性】
技术研发人员：A·科莱克，杨金辉，M·格里戈尼斯，
申请(专利权)人：VIAVI科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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