【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及多功能材料/器件,尤其涉及一种金属可逆电沉积多频谱反射动态可调器件及制备方法。
技术介绍
1、利用活性材料实现对电磁波的灵活调控是电磁隐身领域的常见手段。常用的活性材料包括相变材料如gst和vo2,光敏材料如si和gaas等半导体,以及电可调材料如液晶、集总元件、石墨烯等。但是受限于活性材料普遍存在的波长依赖性,上述材料的工作频段一般限制在可见光、红外或微波的某一频段,无法做到可见光、红外和微波雷达兼容的多频谱调控。
2、目前,能够实现多频谱兼容调控的技术手段主要包含以下两种:
3、1.金属可逆电沉积多频谱可调器件:目前,金属可逆电沉积器件的调控频段主要集中在可见光和红外频段,并且已报道可以实现可见光和红外频段的兼容调控,但是该技术在微波频段的调控未见报道。
4、2.石墨烯多频谱可调器件:石墨烯在可见光、红外和微波频段的调控的应用均有报道,并且可以实现从可见光到微波频段的可逆调谐,但是受限于石墨烯方阻的调控范围,其调控频段范围并未涵盖常见的微波雷达频段,如x和ku频段。
5、
...【技术保护点】
1.一种金属可逆电沉积多频谱反射动态可调器件,其特征在于,所述金属可逆电沉积多频谱反射动态可调器件为复合多层结构,所述复合多层结构由上至下分别为:顶电极基底层、着色层、顶电极层、电解质层、底电极层、底电极基底层;所述顶电极基底的介电常数为ε,对应取值范围为5≤ε≤8;所述顶电极基底层的厚度为d1,对应取值范围为1.90mm≤d1≤2.10mm,所述着色层厚度为100~500nm,所述电解质层厚度为d2,对应取值范围为1.50mm≤d2≤1.80mm。
2.如权利要求1所述的金属可逆电沉积多频谱反射动态可调器件,其特征在于,所述顶电极层的方阻为x,对应取值范
...【技术特征摘要】
1.一种金属可逆电沉积多频谱反射动态可调器件,其特征在于,所述金属可逆电沉积多频谱反射动态可调器件为复合多层结构,所述复合多层结构由上至下分别为:顶电极基底层、着色层、顶电极层、电解质层、底电极层、底电极基底层;所述顶电极基底的介电常数为ε,对应取值范围为5≤ε≤8;所述顶电极基底层的厚度为d1,对应取值范围为1.90mm≤d1≤2.10mm,所述着色层厚度为100~500nm,所述电解质层厚度为d2,对应取值范围为1.50mm≤d2≤1.80mm。
2.如权利要求1所述的金属可逆电沉积多频谱反射动态可调器件,其特征在于,所述顶电极层的方阻为x,对应取值范围为200ωsq-1≤x≤350ωsq-1;所述底电极层为导电物质,底电极层的方阻为y,对应取值范围为y≤10ωsq-1...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘东青,孟真,程海峰,祖梅,
申请(专利权)人:中国人民解放军国防科技大学,
类型:发明
国别省市:
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