【技术实现步骤摘要】
本技术涉及硅片传输，尤其是涉及一种硅片传输机构。
技术介绍
1、目前，在硅片生产中，为了提高产能，在传输时，产品与产品之间的间隙越来越少，而归正机构是安装在硅片两端，通过向内缩进，将倾斜的硅片纠正，而间隙变小就会导致产品可偏移的角度变小，归正可向内缩进的范围变小，当产品偏移量大于归正范围就只能将此产品剔除或者会撞上归正机构从而损坏产品，降低了产品的合格率。如公告号为cn210122328u的一种硅片缓存机，其公开了一种传输机构，该传输机构包括多组沿水平方向依次并列排布的传送带，该传输机构中，在硅片传输时，硅片与硅片之间的间隙会影响归正机构对硅片的纠正。
技术实现思路
1、针对上述情况，为克服现有技术的缺陷，本技术的目的是提供一种硅片传输机构，解决了现有硅片传输时，当产品偏移量大于归正范围时，只能将产品剔除或者会撞上归正机构从而损坏产品，降低了产品的合格率的技术问题。
2、为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
3、一种硅片传输机构，其特征在于，包括：一由第一驱动机...
【技术保护点】
1.一种硅片传输机构，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的硅片传输机构，其特征在于，所述爬坡传输带（3）至少一部分在高度上高于所述平直传输带（1）。
3.根据权利要求2所述的硅片传输机构，其特征在于，所述归正机构具体包括：
4.根据权利要求3所述的硅片传输机构，其特征在于：
5.根据权利要求4所述的硅片传输机构，其特征在于：
6.根据权利要求5所述的硅片传输机构，其特征在于：
7.根据权利要求5所述的硅片传输机构，其特征在于：
8.根据权利要求2所述的硅片传输机构，其特征在于：
9.根...
【技术特征摘要】
1.一种硅片传输机构，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的硅片传输机构，其特征在于，所述爬坡传输带（3）至少一部分在高度上高于所述平直传输带（1）。
3.根据权利要求2所述的硅片传输机构，其特征在于，所述归正机构具体包括：
4.根据权利要求3所述的硅片传输机构，其特征在于：
5.根据权利要求4所述的硅片传输机构，其特征在于：
6.根据权利要求5所述的硅片传输机构...
【专利技术属性】
技术研发人员：易政，肖长力，夏子豪，
申请(专利权)人：苏州斯玛图智能设备有限责任公司，
类型：新型
国别省市：
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