【技术实现步骤摘要】
本申请涉及光学测量领域，尤其涉及一种膜层透过率的测量方法、装置、设备及存储介质。
技术介绍
1、随着光学技术的发展，光学系统设计日益精密，对光学元件的性能要求越来越高，为此通常需要在光学元件表面镀制光学薄膜，以获得高反射率、高透过率、高偏振比等特殊光学性能要求。对于一般光学薄膜，分光光度计是测量膜层透过率的最常用设备。对于具有一定厚度的镜片，当探测光束穿过镜片时，由于光束并非理想的平行光束，会产生折射导致光束形状发生变化，因此，放入样品时的信号光束打到探测器上的位置，与不放置样品时会存在一定差异，并且镜片厚度越大，位置差异越大。由于光电探测器不同位置的转换效率不可能做到完全均匀一致，因此将导致测量产生系统误差，使得膜层透过率的测量精度较低。
2、因此，专利技术人提供了一种膜层透过率的测量方法、装置、设备及存储介质。
技术实现思路
1、(1)要解决的技术问题
2、本申请实施例提供了一种膜层透过率的测量方法、装置、设备及存储介质，要解决的技术问题是：膜层透过率的测量精度较低。
3、(2)技术方案
4、第一方面，本申请实施例提供了一种膜层透过率的测量方法，包括：
5、根据未镀膜的透明基片的折射率，确定未镀膜的透明基片的透过率计算值；
6、通过分光光度计测量镀膜后的透明基片的透过率，得到镀膜后的透明基片的透过率测量值；
7、根据镀膜后的透明基片的透过率测量值以及修正系数，确定镀膜后的透明基片的透过率修正值，
8、根据未镀膜的透明基片的透过率计算值以及镀膜后的透明基片的透过率修正值，确定透明基片所镀膜层的透过率。
9、在其中一个实施例中，膜层透过率的测量方法，还包括：
10、通过分光光度计测量未镀膜的透明基片的透过率，得到未镀膜的透明基片的透过率测量值。
11、在其中一个实施例中，膜层透过率的测量方法，还包括：
12、根据未镀膜的透明基片的透过率测量值，将未镀膜的透明基片的透过率曲线上无下降趋势的波长区间作为预设波长范围。
13、在其中一个实施例中，膜层透过率的测量方法，还包括：
14、通过椭圆偏振仪测量未镀膜的透明基片在预设波长范围的椭偏参数，得到未镀膜的透明基片的椭偏参数测量值；
15、对椭偏参数测量值进行拟合，得到未镀膜的透明基片的椭偏参数拟合曲线；
16、根据未镀膜的透明基片的椭偏参数拟合曲线，确定未镀膜的透明基片的折射率。
17、在其中一个实施例中，根据未镀膜的透明基片的椭偏参数拟合曲线，确定未镀膜的透明基片的折射率，包括：
18、根据未镀膜的透明基片的椭偏参数拟合曲线以及折射率对应的柯西色散公式，确定椭偏参数对应的以柯西色散系数为待定参量、以波长为自变量的函数；
19、根据函数构造评价函数，通过求解评价函数的最小值确定柯西色散系数的值；
20、将柯西色散系数的值代入折射率对应的柯西色散公式，得到未镀膜的透明基片的折射率。
21、在其中一个实施例中，膜层透过率的测量方法，还包括：
22、根据未镀膜的透明基片的透过率计算值以及未镀膜的透明基片的透过率测量值，确定修正系数。
23、在其中一个实施例中，测量未镀膜的透明基片的透过率以及测量镀膜后的透明基片的透过率的过程中，未镀膜的透明基片与镀膜后的透明基片的夹持位置一致。
24、第二方面，本申请实施例提供了一种膜层透过率的测量装置，包括：
25、计算模块，用于根据未镀膜的透明基片的折射率，确定未镀膜的透明基片的透过率计算值；
26、测量模块，用于通过分光光度计测量镀膜后的透明基片的透过率，得到镀膜后的透明基片的透过率测量值；
27、修正模块，用于根据镀膜后的透明基片的透过率测量值以及修正系数，确定镀膜后的透明基片的透过率修正值，其中，修正系数表征由于放置厚基片导致探测光束打在探测器不同位置而产生的系统误差；
28、确定模块，用于根据未镀膜的透明基片的透过率计算值以及镀膜后的透明基片的透过率修正值，确定透明基片所镀膜层的透过率。
29、第三方面，本申请实施例提供了一种电子设备，包括存储器、处理器以及存储在存储器中并可在处理器上运行的计算机程序，处理器执行计算机程序时实现如上所述的膜层透过率的测量方法。
30、第四方面，本申请实施例提供了一种计算机可读存储介质，计算机可读存储介质存储有计算机程序，计算机程序被处理器执行时实现如上所述的膜层透过率的测量方法。
31、(3)有益效果
32、本申请的上述技术方案具有如下优点：
33、本申请实施例第一方面提供的膜层透过率的测量方法，通过根据未镀膜的透明基片的折射率确定未镀膜的透明基片的透过率计算值，通过分光光度计测量镀膜后的透明基片的透过率得到镀膜后的透明基片的透过率测量值，根据镀膜后的透明基片的透过率测量值以及修正系数确定镀膜后的透明基片的透过率修正值，根据未镀膜的透明基片的透过率计算值以及镀膜后的透明基片的透过率修正值确定透明基片所镀膜层的透过率，能够较大程度减小由于基片对探测光的传输方向改变带来的测量误差，从而提高膜层透过率的测量精度。
34、可以理解的是，上述第二方面、第三方面和第四方面的有益效果可以参见上述第一方面中的相关描述，在此不再赘述。
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1.一种膜层透过率的测量方法，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的膜层透过率的测量方法，其特征在于，所述膜层透过率的测量方法，还包括：
3.如权利要求2所述的膜层透过率的测量方法，其特征在于，所述膜层透过率的测量方法，还包括：
4.如权利要求3所述的膜层透过率的测量方法，其特征在于，所述膜层透过率的测量方法，还包括：
5.如权利要求4所述的膜层透过率的测量方法，其特征在于，所述根据未镀膜的透明基片的椭偏参数拟合曲线，确定未镀膜的透明基片的折射率，包括：
6.如权利要求2所述的膜层透过率的测量方法，其特征在于，所述膜层透过率的测量方法，还包括：
7.如权利要求2所述的膜层透过率的测量方法，其特征在于，测量未镀膜的透明基片的透过率以及测量镀膜后的透明基片的透过率的过程中，未镀膜的透明基片与镀膜后的透明基片的夹持位置一致。
8.一种膜层透过率的测量装置，其特征在于，包括：
9.一种电子设备，包括存储器、处理器以及存储在所述存储器中并可在所述处理器上运行的计算机程序，其特征在于，所述处理
10.一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时实现如权利要求1至7任一项所述的膜层透过率的测量方法。
...【技术特征摘要】
1.一种膜层透过率的测量方法，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的膜层透过率的测量方法，其特征在于，所述膜层透过率的测量方法，还包括：
3.如权利要求2所述的膜层透过率的测量方法，其特征在于，所述膜层透过率的测量方法，还包括：
4.如权利要求3所述的膜层透过率的测量方法，其特征在于，所述膜层透过率的测量方法，还包括：
5.如权利要求4所述的膜层透过率的测量方法，其特征在于，所述根据未镀膜的透明基片的椭偏参数拟合曲线，确定未镀膜的透明基片的折射率，包括：
6.如权利要求2所述的膜层透过率的测量方法，其特征在于，所述膜层透过率的测量方法，还包括：
<...【专利技术属性】
技术研发人员：李定，李钱陶，王潺，郝力凯，金天义，
申请(专利权)人：华中光电技术研究所中国船舶集团有限公司第七一七研究所，
类型：发明
国别省市：
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