一种半导体晶体的镀色方法技术

本发明专利技术属于半导体表面着色领域，涉及一种半导体晶体的镀色方法。选用纯度为99.8%的圆形钛靶，高纯Ar作为溅射放电气体、高纯N<subgt;2</subgt;或O<subgt;2</subgt;作为活性反应气体，用磁控溅射的方法，可以在半导体晶体上沉积出颜色丰富的TiN薄膜和TiO<subgt;2</subgt;/SiO<subgt;2</subgt;/TiO<subgt;2</subgt;复合介质膜，包括银白色、紫色、蓝色、绿色、黄色、橙色、紫红色及其中间色等；换色生产灵活性较强，镀层也坚硬致密，耐磨、耐腐蚀，与其他方法呈现的色彩相比，这类方法产生的颜色更加稳定持久鲜艳明亮，难以破坏。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于半导体表面着色领域，涉及一种半导体晶体的镀色方法。

技术介绍

1、白光是一种混合光，包含赤橙黄绿青蓝紫多种波长的光。不同物质的折射率不一样，光在穿过两种物质之间的界面时，会发生部分反射。当两层薄膜的厚度满足特定关系的时候，就可以让某一频率范围的光完全反射回去，从而产生特定的视觉颜色。从光学的角度来看，光每穿过两层之间的界面时都会发生部分反射，在周期性的多层薄膜里，这许许多多的反射光束一起发生了相互干涉。介质多层薄膜对光的吸收通常很小，前向传播的某些颜色的光被反射，也就产生了色彩。利用色彩产生的原理，人们设计出彩色镜片、彩色玻璃和彩色水晶首饰等。针对不同电磁波波长，设计出反射x射线、红外光、甚至微波的器件。

2、目前，表面着色主要是在玻璃表面涂敷金属、金属氧化物等，形成透明、半透明或不透明的颜色涂层，制备方法主要有真空镀膜法和溶胶-凝胶法等。通过在溶胶-凝胶法制得的sio2-tio2溶胶中加入亚金胺黄、孔雀石绿、甲基蓝等染色剂，即可形成彩色纳米透明薄膜。但其制备方法膜色单一，原料制备复杂，对环境要求比较高。随着人类的生活水平的不断提本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种半导体晶体的镀色方法，其特征在于，通过磁控溅射，在溅射放电气体和活性反应气体的作用下，使靶材于半导体晶体上反应形成彩色镀膜；薄膜溅射沉积时所述溅射放电气体与活性反应气体的流量比为(1-20):1，工作电压设置为0.5-2.0Pa，溅射功率为20-200W。

2.根据权利要求1所述的半导体晶体的镀色方法，其特征在于，所述半导体晶体为经过抛光后的硅、碳化硅、氮化镓、金刚石或氮化铝半导体晶体。

3.根据权利要求1所述的半导体晶体的镀色方法，其特征在于，所述磁控溅射采用钛靶或石英作为靶材，以氩气作为溅射放电气体，以氮气或氧气作为活性反应气体。</p>

4.根据...

【技术特征摘要】

1.一种半导体晶体的镀色方法，其特征在于，通过磁控溅射，在溅射放电气体和活性反应气体的作用下，使靶材于半导体晶体上反应形成彩色镀膜；薄膜溅射沉积时所述溅射放电气体与活性反应气体的流量比为(1-20):1，工作电压设置为0.5-2.0pa，溅射功率为20-200w。

2.根据权利要求1所述的半导体晶体的镀色方法，其特征在于，所述半导体晶体为经过抛光后的硅、碳化硅、氮化镓、金刚石或氮化铝半导体晶体。

3.根据权利要求1所述的半导体晶体的镀色方法，其特征在于，所述磁控溅射采用钛靶或石英作为靶材，以氩气作为溅射放电气体，以氮气或氧气作为活性反应气体。

4.根据权利要求3所述的半导体晶体的镀色方法，其特征在于，所述磁控溅射采用钛靶，以氩气作为溅射放电气体，氮气作为活性反应气体，溅射tin膜。

5.根据权利要求3所述的半导体晶体的镀色方法，其特征在于，所述磁控溅射依次采用高纯钛、高纯石英、高纯钛作为靶材，以氩气作为溅射放电气体，...

【专利技术属性】
技术研发人员：张雷，李秋波，王守志，俞娇仙，王国栋，徐现刚，
申请(专利权)人：山东大学，
类型：发明
国别省市：