带有自清洗及校正功能的水处理装置制造方法及图纸

本技术公开了一种带有自清洗及校正功能的水处理装置，包括并排设置的第一壳体和第二壳体；第一壳体上方设有药箱，药箱通过加药管与第一壳体相连接，加药管的上安装有通断阀和计量泵，加药管的侧部设有校正管，校正管安装有通断阀和流量校正柱；第二壳体内穿设有纵向进水管，第二壳体内腔中部安装有填料，填料下方设有絮凝沉淀腔，填料上方设有净水汇集腔；纵向进水管主体上套设有可升降的分流盘，分流盘底部有均匀分布的若干喷头，分流盘位于填料的上方，分流盘与纵向进水管的连接处设有多个滚轮。本技术可以实现对填料的彻底冲洗，且不影响填料性能的发挥，还可以解决加药量不准确的问题。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种带有自清洗及校正功能的水处理装置，属于水处理。

技术介绍

1、污水处理为使污水达到排水某一水体或再次使用的水质要求对其进行净化的过程。一般污水的处理都需要经过絮凝过程以及固液分离过程，絮凝是指用絮凝剂对污水进行预处理，絮凝剂与污水中的固相粒子发生粘接产生凝聚现象，而后将固相与液相分开。

2、专利号cn201710020255.8公开了一种污水处理池，通过增压泵将清洗液输送至喷头处，对填料层进行冲洗，将粘附于填料层上的杂质冲下，避免堵塞填料层上的间隙，提高污水处理池的污水处理效率。

3、上述专利中的清洗组件采用固定安装方式，清洗组件与填料之间需要保持一定的高度，清洗组件如果离填料上表面过近，会影响填料性能的发挥，因此清洗组件会与填料之间保持一定高度，由于高度差的存在会降低对填料冲洗的力度，出现冲洗不彻底的问题。

4、现有技术污水在加药絮凝过程中，容易出现加药不精确的问题，加药量过多过少都不利于脱水效果，加药过量会使得污泥量增加、污水浓度增大，降低处理效率，而加药量过少会导致脱水效果不佳。

5、综上可知，现有技术在实际使用上显然存在不便与缺陷，所以有必要加以改进。

技术实现思路

1、本技术针对
技术介绍
中的不足，提供一种带有自清洗及校正功能的水处理装置，可以实现对填料的彻底冲洗，且不影响填料性能的发挥；还可以解决加药量不准确的问题。

2、为解决以上技术问题，本技术采用以下技术方案：

3、带有自清洗及校正功能的水处理装置，包括并排设置的第一壳体和第二壳体；第一壳体上方设有药箱，药箱通过加药管与第一壳体相连接，加药管的上安装有通断阀和计量泵；加药管的侧部设有校正管，校正管安装有通断阀和流量校正柱；第二壳体内穿设有纵向进水管，第二壳体内腔中部安装有填料，填料下方设有絮凝沉淀腔，填料上方设有净水汇集腔；纵向进水管主体上套设有可升降的分流盘，分流盘底部有均匀分布的若干喷头，分流盘位于填料的上方，分流盘与纵向进水管的连接处设有多个滚轮。

4、进一步地，校正管顶端与加药管相连接，校正管底端与第一壳体相连接。

5、进一步地，第一壳体内部安装有搅拌部件。

6、进一步地，纵向进水管的顶端通过管路与第一壳体的内腔底部相连接。

7、进一步地，纵向进水管贯穿填料设置，纵向进水管的底端上安装有导流盘。

8、进一步地，导流盘内部设有导流锥，导流锥的周围设有呈圆周分布的多个流道，流道沿水平方向设置。

9、进一步地，分流盘的上表面与伸缩缸相连接，伸缩缸的尾部固接于纵向进水管的外壁上，伸缩缸的头部与分流盘相连接。

10、进一步地，分流盘顶部与清洗水进管相连接。

11、进一步地，絮凝沉淀腔底部安装有排污管，净水汇集腔的上方设有出水口。

12、本技术采用以上技术方案后，与现有技术相比，具有以下优点：

13、本技术中的喷头安装在可升降分流盘的底部，分流盘可以在伸缩缸的作用下实现升降，喷头可以尽可能的接近填料，实现对填料的冲洗，确保冲洗彻底，完成冲洗后的喷头回到初始位置，不影响填料性能的发挥；

14、本技术通过在加药管的侧部设有校正管，校正管的安装有通断阀和流量校正柱，流量校正柱可对计量泵输出的流量进行校准标定，确保加药过程的精确性。

15、下面结合附图和实施例对本技术进行详细说明。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.带有自清洗及校正功能的水处理装置，其特征在于：包括并排设置的第一壳体（1）和第二壳体（2），第一壳体（1）上方设有药箱（4），药箱（4）通过加药管（5）与第一壳体（1）相连接，加药管（5）的上安装有通断阀和计量泵（6）；加药管（5）的侧部设有校正管（7），校正管（7）安装有通断阀和流量校正柱（8）；

2.如权利要求1所述的带有自清洗及校正功能的水处理装置，其特征在于：校正管（7）顶端与加药管（5）相连接，校正管（7）底端与第一壳体（1）相连接。

3.如权利要求1所述的带有自清洗及校正功能的水处理装置，其特征在于：第一壳体（1）内部安装有搅拌部件（3）。

4.如权利要求1所述的带有自清洗及校正功能的水处理装置，其特征在于：纵向进水管（9）的顶端通过管路与第一壳体（1）的内腔底部相连接。

5.如权利要求1所述的带有自清洗及校正功能的水处理装置，其特征在于：纵向进水管（9）贯穿填料（11）设置，纵向进水管（9）的底端上安装有导流盘（10）。

6.如权利要求5所述的带有自清洗及校正功能的水处理装置，其特征在于：导流盘（10）内部设有导流锥（101），导流锥（101）的周围设有呈圆周分布的多个流道（102），流道（102）沿水平方向设置。

7.如权利要求1所述的带有自清洗及校正功能的水处理装置，其特征在于：分流盘（14）的上表面与伸缩缸（16）相连接，伸缩缸（16）的尾部固接于纵向进水管（9）的外壁上，伸缩缸（16）的头部与分流盘（14）相连接。

8.如权利要求1所述的带有自清洗及校正功能的水处理装置，其特征在于：分流盘（14）顶部与清洗水进管（18）相连接。

9.如权利要求1所述的带有自清洗及校正功能的水处理装置，其特征在于：絮凝沉淀腔底部安装有排污管（12），净水汇集腔的上方设有出水口（13）。

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【技术特征摘要】

1.带有自清洗及校正功能的水处理装置，其特征在于：包括并排设置的第一壳体（1）和第二壳体（2），第一壳体（1）上方设有药箱（4），药箱（4）通过加药管（5）与第一壳体（1）相连接，加药管（5）的上安装有通断阀和计量泵（6）；加药管（5）的侧部设有校正管（7），校正管（7）安装有通断阀和流量校正柱（8）；

2.如权利要求1所述的带有自清洗及校正功能的水处理装置，其特征在于：校正管（7）顶端与加药管（5）相连接，校正管（7）底端与第一壳体（1）相连接。

3.如权利要求1所述的带有自清洗及校正功能的水处理装置，其特征在于：第一壳体（1）内部安装有搅拌部件（3）。

4.如权利要求1所述的带有自清洗及校正功能的水处理装置，其特征在于：纵向进水管（9）的顶端通过管路与第一壳体（1）的内腔底部相连接。

5.如权利要求1所述的带有自清洗及校正功能的水处理装置，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：王建亮，王磊，许芷耀，
申请(专利权)人：山东中科瑞沃环境技术有限公司，
类型：新型
国别省市：