【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于放射性元素处理，涉及一种用于清理金属表面放射性污染的去污剂及其制备方法。
技术介绍
1、医疗设备金属表面放射性污染一般是介质界面处，液态或气态的工作流体与设备表面接触，核素沉积导致的松散污染，还有核素被吸附并进入金属表面的氧化层导致的固定污染。现有技术中对于去除金属表面的放射性污染方法有金属熔炼、抛丸处理、表面贴膜、表面酸洗、表面碱洗等方法，但是，如果单一采用金属熔炼去污，其熔炼去污过程大部分的消耗用来熔炼附着放射性污染的基体，造成大量的能源浪费，而且工艺流程复杂，成本高，效率低；另外，抛丸和表面贴膜对于几何形状复杂的金属材料，去除效果不好，而表面酸、碱清洗的办法，清洗效果不明显的同时还会产生大量的带有放射性污染的废水，处理不当还会产生严重的环境污染。
技术实现思路
1、为克服上述缺陷，本专利技术的目的在于提供一种用于清理金属表面放射性污染的去污剂及其制备方法，去污效果显著，用于各种医疗设备金属表面的放射性污染的去除。
2、为实现上述目的，本专利技术采用如下技术方案：
3、一种用于清理金属表面放射性污染的去污剂，由如下重量份数的原料制备而成：去污剂0.5-2.5份、表面活性剂6-15份、螯合剂10-20份和去离子水50-100份，所述去污剂由壳聚糖、柠檬酸、大豆异黄酮按照重量比1：1-2.5：0.2-1混合而成。
4、优选地，所述去污剂由壳聚糖、柠檬酸、大豆异黄酮按照重量比1：1-2：0.5-1混合而成。
5、优选地，所
6、优选地，所述表面活性剂为脂肪醇聚烷氧基醚、硬脂酸钠、十二烷基二苯醚二磺酸钠和十二烷基苯磺酸钠中的一种或几种。
7、优选地，所述螯合剂为谷氨酸二乙酸四钠、酒石酸、葡萄糖酸、二乙烯三胺五乙酸钠和甲基甘氨酸二乙酸三钠中的一种或几种。
8、一种用于清理金属表面放射性污染的去污剂的制备方法，包括如下步骤：首先将表面活性剂和去离子水搅拌均匀，在上述混合溶液中依次加入螯合剂和去污剂，搅拌均匀，即得。
9、本专利技术的积极有益效果：
10、1.本专利技术去污剂由壳聚糖、柠檬酸、大豆异黄酮按照重量比1：1-2.5：0.2-1混合而成，壳聚糖具有优异的抑菌性和生物降解性，柠檬酸属于有机酸，充分溶解壳聚糖，大豆异黄酮来源于豆科植物的荚豆类，生物活性高，与螯合剂络合作用，保持去污剂的结构稳定，本专利技术去污剂能够有效去除金属表面的放射性污染，去污率高达92.3％，去污效果显著，无污染，环境友好，可广泛用于各种医疗设备金属表面的放射性污染的去除。
11、2.本专利技术用于清理金属表面放射性污染的去污剂先将表面活性剂和去离子水搅拌均匀，表面活性剂和去离子水分散均匀，再依次加入螯合剂和去污剂，搅拌均匀，便于去污剂充分分散和络合，体系稳定，通过简单的搅拌即可获得，制备方法简单，条件温和，并且制备过程无污染物产生。
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1.一种用于清理金属表面放射性污染的去污剂，其特征在于，由如下重量份数的原料制备而成：去污剂0.5-2.5份、表面活性剂6-15份、螯合剂10-20份和去离子水50-100份，所述去污剂由壳聚糖、柠檬酸、大豆异黄酮按照重量比1：1-2.5：0.2-1混合而成。
2.根据权利要求1所述的用于清理金属表面放射性污染的去污剂，其特征在于，所述去污剂由壳聚糖、柠檬酸、大豆异黄酮按照重量比1：1-2：0.5-1混合而成。
3.根据权利要求2所述的用于清理金属表面放射性污染的去污剂，其特征在于，所述去污剂由壳聚糖、柠檬酸、大豆异黄酮按照重量比1：2：0.6混合而成。
4.根据权利要求1所述的用于清理金属表面放射性污染的去污剂，其特征在于，所述表面活性剂为脂肪醇聚烷氧基醚、硬脂酸钠、十二烷基二苯醚二磺酸钠和十二烷基苯磺酸钠中的一种或几种。
5.根据权利要求1所述的用于清理金属表面放射性污染的去污剂，其特征在于，所述螯合剂为谷氨酸二乙酸四钠、酒石酸、葡萄糖酸、二乙烯三胺五乙酸钠和甲基甘氨酸二乙酸三钠中的一种或几种。
6.一种权利要求1-
...【技术特征摘要】
1.一种用于清理金属表面放射性污染的去污剂，其特征在于，由如下重量份数的原料制备而成：去污剂0.5-2.5份、表面活性剂6-15份、螯合剂10-20份和去离子水50-100份，所述去污剂由壳聚糖、柠檬酸、大豆异黄酮按照重量比1：1-2.5：0.2-1混合而成。
2.根据权利要求1所述的用于清理金属表面放射性污染的去污剂，其特征在于，所述去污剂由壳聚糖、柠檬酸、大豆异黄酮按照重量比1：1-2：0.5-1混合而成。
3.根据权利要求2所述的用于清理金属表面放射性污染的去污剂，其特征在于，所述去污剂由壳聚糖、柠檬酸、大豆异黄酮按照重量比1：2：0.6混合而成。<...
【专利技术属性】
技术研发人员：孟昭军，
申请(专利权)人：郑州原子高科医药有限公司，
类型：发明
国别省市：
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