【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及高端装备制造的微结构在位测量，具体涉及一种在位精密检测微光学元件结构面型的方法及装置。
技术介绍
1、近年来，光学仪器的微型化及微系统工程的开发迫切要求系统结构及光学元件进行微型化处理，与之提出了相应的微光学概念，主要是指微米尺度的光学表面微结构；微光学元件被广泛应用于各种高端装备制造的场景中；因加工难度大，是国际上最前沿研究方向之一。
2、现有技术中，微光学元件的加工一般采用光刻及单点金刚石车削的加工方式，加工后需要取下工件进行检测，检测后如不满足要求就会再安装到机床上重新加工。比如公开号为cn113340232a的专利，提供了一种微小光学零件表面轮廓的白光干涉拼接测量装置及方法，该装置的隔振平台分别设有z向平移调整机构和四轴调整台，z向平移调整机构上设有带干涉显微物镜的白光干涉仪，四轴调整台上安装有绕y向旋转的俯仰转台，俯仰转台上安装有绕z向旋转的回转转台，回转转台上安装有对心机构，对心机构上设有用于安装被测光学零件的弹性夹具，俯仰转台与回转转台的轴线交汇于被测光学零件的曲率半径中心；该装置在使用时，需要将...
【技术保护点】
1.一种在位精密检测微光学元件结构面型方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的在位精密检测微光学元件结构面型方法，其特征在于，所述结构面型包括平缓结构和陡峭结构。
3.根据权利要求2所述的在位精密检测微光学元件结构面型方法，其特征在于，在检测平缓结构时，白光干涉仪的移动路径和拍摄方式如下：
4.根据权利要求3所述的在位精密检测微光学元件结构面型方法，其特征在于，对于平缓结构，规划的白光干涉仪移动路径，其坐标点满足以下关系：
5.根据权利要求2所述的在位精密检测微光学元件结构面型方法，其特征在于，在检测陡峭结构时...
【技术特征摘要】
1.一种在位精密检测微光学元件结构面型方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的在位精密检测微光学元件结构面型方法，其特征在于，所述结构面型包括平缓结构和陡峭结构。
3.根据权利要求2所述的在位精密检测微光学元件结构面型方法，其特征在于，在检测平缓结构时，白光干涉仪的移动路径和拍摄方式如下：
4.根据权利要求3所述的在位精密检测微光学元件结构面型方法，其特征在于，对于平缓结构，规划的白光干涉仪移动路径，其坐标点满足以下关系：
5.根据权利要求2所述的在位精密检测微光学元件结构面型方法，其特征在于，在检测陡峭结构时，白光干涉仪的移动路径和拍摄方式如下：
6.根据权利要求5所述的在位精密检测微光学元件结构面型方法，其特征在于，规划白光干涉仪的移动路径时，始终沿着白光干...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱国栋，张为国，刘坤，熊欣，
申请(专利权)人：中国科学院重庆绿色智能技术研究院，
类型：发明
国别省市：
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