【技术实现步骤摘要】
本专利技术提供了一种v-t曝光曲线的数学建模方法，属于v-t曝光曲线数学建模。
技术介绍
1、光具有波粒二象性，现代物理学研究表明，x射线穿透物质与其发生相互作用：光电效应、康普顿效应、电子对效应和瑞利散射，致使射线能量发生衰减；工业上使用定向x射线机，通过调节管电压和管电流，改变射线强度，实现不同材质、厚度的材料检验。
2、对于不同的x射线机来说，其线质和照射率不同，曝光曲线也不一样。即使同一台x射线机，随着时间的推移，管子的灯丝和靶可能老化，从而引起射线照射率的变化，曝光曲线会发生变化。因此，需要定期重新制作曝光曲线，一般每一年制作一次。
3、而目前对于曝光曲线的制作还是采用手工绘制特性曲线，通过查询表格、人工计算的方式确定参数，速度慢、精度低，因此，本专利技术提出了一种v-t曝光曲线的数学建模方法，通过构建v-t曝光曲线的数学模型，能够快速精确的得到x射线机的曝光曲线。
技术实现思路
1、本专利技术为了克服现有技术中存在的不足，所要解决的技术问题为：提供一种v-t曝光曲线的数学建模方法的改进。
2、为了解决上述技术问题，本专利技术采用的技术方案为：一种v-t曝光曲线的数学建模方法，包括如下步骤：
3、s1：采用曲线拟合结合最优化的方法构建非增感型工业胶片的d-h特性曲线数学模型，得到不同型号工业胶片特性曲线对应的特性参数；
4、s2：根据工业胶片的d-h特性曲线数学模型构建d-t曝光曲线数学模型；
5、s
6、s4：结合d-h特性曲线数学模型、d-t曝光曲线数学模型和最优化的μ-ε数学模型，构建得到以曝光量e0为参数的v-t数学模型。
7、非增感型工业胶片的d-h特性曲线数学模型的表达式如下：
8、
9、非增感型工业胶片的d-h特性曲线最优化数学模型的表达式如下：
10、
11、上式中：d为距离函数，n为测量样本个数；dk为底片黑度的拟合值，为第i组测量值，为底片黑度测量值，为曝光量测量值；k为多项式阶数；为k阶多项式系数；lgih表示曝光量h对数值的i次方，d为底片黑度，h为曝光量，n为自然数，n+为非负自然数，r为实数，r+为非负实数。
12、步骤s2中构建得到的给定电压、曝光量下的d-t曝光曲线数学模型的表达式如下：
13、
14、上式中：为透照电压vi下的材料线吸收系数，表示透照电压vi、曝光量e0下的常数项，t为透照厚度。
15、最优化的μ-ε数学模型的表达式如下：
16、
17、上式中：d为距离函数，μp为p阶拟合衰减系数，为第i组测量值，为电子能量测量值，为衰减系数测量值；p为阶数；c为系数；n为与测量样本个数；ε为电子能量；n为自然数，n+为非负自然数，r为实数，r+为非负实数。
18、以曝光量e0为参数的v-t数学模型的表达式如下：
19、
20、本专利技术相对于现有技术具备的有益效果为：本专利技术采用逆向思维，从试验结论出发，回避影响因素的多样性和复杂性，以h-t、d-t、μ-t曲线本质特征及表现为依据，通过参数调节计算结果的精度，逐步构建相应的数学模型，建立其相互关系，进而对v-t模型进行数学描述，并通过试验和实例验证模型的有效性和实用性，为射线系统数字化、智能化提供数据决策依据。
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1.一种V-T曝光曲线的数学建模方法，其特征在于：包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种V-T曝光曲线的数学建模方法，其特征在于：非增感型工业胶片的D-H特性曲线数学模型的表达式如下：
3.根据权利要求2所述的一种V-T曝光曲线的数学建模方法，其特征在于：步骤S2中构建得到的给定电压、曝光量下的D-T曝光曲线数学模型的表达式如下：
4.根据权利要求3所述的一种V-T曝光曲线的数学建模方法，其特征在于：最优化的μ-ε数学模型的表达式如下：
5.根据权利要求4所述的一种V-T曝光曲线的数学建模方法，其特征在于：以曝光量E0为参数的V-T数学模型的表达式如下：
【技术特征摘要】
1.一种v-t曝光曲线的数学建模方法，其特征在于：包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种v-t曝光曲线的数学建模方法，其特征在于：非增感型工业胶片的d-h特性曲线数学模型的表达式如下：
3.根据权利要求2所述的一种v-t曝光曲线的数学建模方法，其特征在于：步骤s2中构建得到的给...
【专利技术属性】
技术研发人员：董辉，乔迎军，马凌，刘小明，韩咸武，方希，胡鹏举，贾艳萍，秦书勤，李婵，
申请(专利权)人：山西航天清华装备有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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