【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种隐形矫正器及其制备方法，属于牙齿正畸。
技术介绍
1、口腔正畸通常是指通过口腔技术手段，修整牙齿排列不齐、牙齿形态异常、牙齿色泽异常的治疗过程。牙齿矫正有多种方法，如树脂贴面、瓷贴面、烤瓷牙、正畸等。其中，正畸方法是一种适用范围广、效果较好的牙齿矫正方法。正畸是利用牙齿矫正器给予牙齿外力使其受力而发生移动或使其按照预定的排列成长，从而实现牙齿正畸的目的。牙齿矫正器包括金属矫正器和热塑性高分子材料制备的隐形矫治器。相比于金属矫正器，隐形矫治器具有美观、不易磨损口腔等优点。
2、现有的隐形矫治器主要是通过热压膜成型工艺制备的。热压膜成型工艺，其基本的操作是通过施加正压或负压将热处理后的高分子材料膜片在牙齿模型上压膜成型，待冷却后将成型的负模型从牙齿模型上取下，再对负模型进行裁剪去除多余的部分，得到成品隐形矫正器。例如，中国专利文献cn112704571a公开了一种无托槽隐形矫治器的生产工艺，该专利文献公开的无托槽隐形矫治器的生产工艺包括以下步骤：s1.加热软化高分子膜片，并在牙齿模型(牙模)上进行压膜成型，得到包裹着所述牙齿模型的成型膜片；s2.将所述成型膜片输送至切割区进行切割并分离所述牙齿模型，得到无托槽隐形矫治器；步骤s1得到的所述成型膜片输送至所述切割区过程中对所述成型膜片进行红外加热；其中，所述牙齿模型通过如下方法制备得到：t1.建立无托槽隐形矫治器佩戴者的牙齿数字模型；t2.通过三维快速成型技术将所述牙齿数字模型打印为牙齿模型；所述牙齿模型包括模型牙齿部分和模型牙龈部分，所述模型牙齿部分包括
3、但是隐形矫正器是在口腔复杂环境下使用的，其长时间浸润在唾液中，表面容易滋生细菌，从而引起口腔疾病。而上述文献制备的隐形矫正器均不具有抗菌性能，因此，患者在使用时易引起口腔疾病。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种隐形矫正器的制备方法，可以解决目前制备的隐形矫正器存在表面容易滋生细菌的问题。
2、本专利技术的另一个目的在于提供一种隐形矫正器，可以解决目前隐形矫正器存在抗菌性差而易导致使用时表面滋生细菌的问题。
3、为了实现以上目的，本专利技术的隐形矫正器的制备方法所采用的技术方案为：
4、一种隐形矫正器的制备方法，包括以下步骤：首先在牙模表面形成具有阵列状排布的微纳米柱，得到表面功能化牙模，然后以所述表面功能化牙模为模具，对高分子材料膜片进行热压膜成型，得到隐形矫正器。
5、本专利技术的隐形矫正器的制备方法，首先制备表面具有微纳米柱阵列的牙模，然后通过压模成型，将牙模上的微纳米柱阵列结构复制到高分子材料膜片上，得到表面具有类似阵列结构的隐形矫正器。由于表面具有微纳米柱阵列结构，本专利技术制备的隐形矫正器具有超疏水特性、自清洁性能和良好的抗菌性能。
6、为了使隐形矫正器具有更好的抗菌疏水性能，优选地，所述微纳米柱呈圆台形，所述微纳米柱的底面直径为8～25μm，顶面直径为4～15μm，高度为2～9μm。优选地，所述微纳米柱的密度为35000～65000个/cm2。
7、为了获得高质量的加工效果，优选地，采用飞秒激光在牙模表面形成具有阵列状排布的微纳米柱。
8、优选地，所述飞秒激光的功率为10～50mw，中心波长为1000～1030nm，脉宽为290～500fs，重复频率为100～400khz，扫描速度为1.2～2.0mm/s，激光扫描间距为5～50μm。例如，所述飞秒激光的功率为15～25mw，中心波长为1030nm，脉宽为300～400fs，重复频率为100～300khz，扫描速度为1.2～1.6mm/s，激光扫描间距为5～15μm。采用上述飞秒激光加工参数进行加工，可以提高加工效率和质量，同时可以提高产品合格率。
9、可以理解的是，所述牙模包括模型牙齿部分和模型牙龈部分，在牙模表面形成具有阵列状排布的微纳米柱是指在牙模中的模型牙齿部分和模型牙龈部分的表面均形成具有阵列状排布的微纳米柱。
10、本专利技术中的牙模可以市售获得，也可以采用现有技术方法制备得到，例如，所述牙模由光固化树脂通过3d打印技术制得。
11、正畸使用的热压膜材料均可作为本专利技术中的高分子材料膜片，例如，所述高分子材料膜片为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯-1,4-环己烷二甲醇酯、热塑性聚氨酯、聚碳酸酯、聚丙烯。优选地，所述高分子材料膜片为聚对苯二甲酸乙二醇酯-1,4-环己烷二甲醇酯。相比于其他材质的高分子膜片，聚对苯二甲酸乙二醇酯-1,4-环己烷二甲醇酯具有优异的透明度、耐化学腐蚀性、抗冲击性、耐疲劳性及尺寸稳定性和易加工性等特点，同时具有良好的流动性及耐溶解性。
12、优选地，所述高分子材料膜片的厚度为0.5～1.5mm。高分子材料膜片的厚度过大，其透明度会降低，应力过大，弹性过小，佩戴舒适度减弱，高分子材料膜片的厚度过小，会造成材料的应力过小，达不到矫正目的。
13、热压膜成型是一种将热塑性片材加工成各种制品的加工方法。在具体成型过程中，片材夹在框架上加热到软化状态，在外力作用下，使其紧贴模具的型面，以取得与型面相仿的形状。冷却定型后，经修整即成制品。热成型方法有多种，包括真空成型和正压热成型。真空成型最大的成型压力为一个大气压，造成真空成型压力较低，使得受热软化后的热塑材料很难在模具的拐角或坑洼处形成紧密贴合，进而造成热压膜成型制品存在一定缺陷。正压成型的压力可以根据需要进行调整，在正压作用下，受热软化后的热塑材料和模具之间贴合度大幅提高，有助于提高产品外观质量和生产效率。优选地，所述热压膜成型是通过施加正压将热处理后的高分子材料膜片与所述模具接触以进行压膜成型。真空成型的膜片与正压热成型的膜片相比，有初始厚度约为0.05mm的额外分隔层，该分隔层在热压成型过程中将被消除。因此，采用正压热成型制备的矫治器对牙列有更好的适应性，可以增加阻止矫治器向上脱位的摩擦力，使得其对牙齿的平均应力比真空成型的矫治器更高。
14、优选地，所述热处理的温度为190～230℃，时间为20～30s。热处理的温度和时间过小，无法有效使高分子材料膜片发生软化，进而无法通过压膜成型在高分子材料膜片上形成微纳结构，热处理的温度和时间过大，本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种隐形矫正器的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：首先在牙模表面形成具有阵列状排布的微纳米柱，得到表面功能化牙模，然后以所述表面功能化牙模为模具，对高分子材料膜片进行热压膜成型，得到隐形矫正器。
2.如权利要求1所述的隐形矫正器的制备方法，其特征在于，所述微纳米柱呈圆台形，所述微纳米柱的底面直径为8～25μm，顶面直径为4～15μm，高度为2～9μm。
3.如权利要求2所述的隐形矫正器的制备方法，其特征在于，所述微纳米柱的密度为35000～65000个/cm2。
4.如权利要求1-3中任一项所述的隐形矫正器的制备方法，其特征在于，采用飞秒激光在牙模表面形成具有阵列状排布的微纳米柱。
5.如权利要求4所述的隐形矫正器的制备方法，其特征在于，所述飞秒激光的功率为10～50mW，中心波长为1000～1030nm，脉宽为290～500fs，重复频率为100～400KHz，扫描速度为1.2～2.0mm/s，激光扫描间距为5～50μm。
6.如权利要求1-3中任一项所述的隐形矫正器的制备方法，其特征在于，所述高分子材料膜片为聚
7.如权利要求1-3中任一项所述的隐形矫正器的制备方法，其特征在于，所述热压膜成型是通过施加正压将热处理后的高分子材料膜片与所述模具接触以进行压膜成型。
8.如权利要求7所述的隐形矫正器的制备方法，其特征在于，所述热处理的温度为190～230℃，时间为20～30s。
9.如权利要求7所述的隐形矫正器的制备方法，其特征在于，所述热压膜成型的压力为0.35～0.42MPa。
10.一种如权利要求1-9中任一项所述的隐形矫正器的制备方法制备的隐形矫正器。
...【技术特征摘要】
1.一种隐形矫正器的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：首先在牙模表面形成具有阵列状排布的微纳米柱，得到表面功能化牙模，然后以所述表面功能化牙模为模具，对高分子材料膜片进行热压膜成型，得到隐形矫正器。
2.如权利要求1所述的隐形矫正器的制备方法，其特征在于，所述微纳米柱呈圆台形，所述微纳米柱的底面直径为8～25μm，顶面直径为4～15μm，高度为2～9μm。
3.如权利要求2所述的隐形矫正器的制备方法，其特征在于，所述微纳米柱的密度为35000～65000个/cm2。
4.如权利要求1-3中任一项所述的隐形矫正器的制备方法，其特征在于，采用飞秒激光在牙模表面形成具有阵列状排布的微纳米柱。
5.如权利要求4所述的隐形矫正器的制备方法，其特征在于，所述飞秒激光的功率为10～50mw，中心波长为1000～1030nm，脉宽为290～500fs，重复频率为100～400...
【专利技术属性】
技术研发人员：万福成，刘春姣，简谱，穆野，杨军，
申请(专利权)人：信阳职业技术学院，
类型：发明
国别省市：
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