【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及成像,特别是涉及一种测量光学元件或成像系统像差的方法及装置。
技术介绍
1、光学成像技术在现代社会中扮演着重要角色,按照成像尺度可以粗略分为显微成像、摄影成像和天文成像,每种类别都有其独特的结构和功能。其中,显微成像是一种利用显微镜或其他仪器,将微米乃至亚微米的物体放大后观察其形态、结构和功能的技术,在生物学、医学、材料科学等领域发挥着重要作用,能够帮助人们揭示生命奥秘、诊断疾病、以及开发新材料等。摄影成像是一种利用相机或其他设备将光线反射或透射的图像记录下来的技术,在艺术、文化、教育、新闻等领域具有重要价值,能够帮助传播信息、记录历史与展示美感等。天文成像是一种利用望远镜或其他探测器将天空中的恒星、行星、星系等天体图像捕捉下来的技术。它在天文学、物理学、宇宙学等领域具有深远意义,能够帮助人们探索宇宙,理解自然规律,寻找外星生命信号等。
2、然而,在实际应用中,成像系统经常会受到像差的影响,导致图像模糊和失真,降低了图像对比度和清晰度。
3、现在有一些可以测量和传感光波前的技术,波前是理论上物平面上
...【技术保护点】
1.一种测量光学元件或成像系统像差的方法,其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的测量光学元件或成像系统像差的方法,其特征在于,步骤4中,通过式(7)计算双降维像差系数矩阵D;
3.如权利要求1或2所述的测量光学元件或成像系统像差的方法,其特征在于,步骤4中,根据双降维像差系数矩阵D的一维化向量DV,通过式(12)计算赛德尔像差S:
4.如权利要求3所述的测量光学元件或成像系统像差的方法,其特征在于,将散射光照明器、掩模板、待测光学元件或成像系统、准直透镜依次按照以下两种方式之一进行布置:
5.一种测量光学元件或成像系
...【技术特征摘要】
1.一种测量光学元件或成像系统像差的方法,其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的测量光学元件或成像系统像差的方法,其特征在于,步骤4中,通过式(7)计算双降维像差系数矩阵d;
3.如权利要求1或2所述的测量光学元件或成像系统像差的方法,其特征在于,步骤4中,根据双降维像差系数矩阵d的一维化向量dv,通过式(12)计算赛德尔像差s:
4.如权利要求3所述的测量光学元件或成像系统像差的方法,其特征在于,将散射光照明器、掩模板、待测光学元件或成像系统、准直透镜依次按照以下两种方式之一进行布置:
5.一种测量光学元件或成像系统像差的装置,其特征在于,包括:
【专利技术属性】
技术研发人员:丰帆,梁晨,
申请(专利权)人:广东粤港澳大湾区协同创新研究院,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。