一种浮雕图像生成方法、系统、设备及存储介质技术方案

技术编号:40425610 阅读:35 留言:0更新日期:2024-02-20 22:45
本发明专利技术提供一种浮雕图像生成方法、系统、设备及存储介质,方法包括:获取浮雕的灰度图,设置浮雕的第一参数,根据第一参数确定灰度图中每个像素点的第二参数,第一参数和第二参数包括高度和宽度;构建三维矩阵,根据每个像素点的第二参数,确定每个像素点在三维矩阵中的坐标,得到多个三维坐标点;根据多个三维坐标点进行多项式拟合,得到多项式图像,对多项式图像进行等高切割,得到初始浮雕图像,所述初始浮雕图像包括多个斜面切割线条;确定每个斜面切割线条对应的灰度值,根据灰度值对每个斜面切割线条进行调整,得到目标浮雕图像。本发明专利技术通过对斜面的算法拟合来减少剧烈变化的线条,提高了浮雕的质量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及全息光刻,尤其涉及一种浮雕图像生成方法、系统、设备及存储介质


技术介绍

1、全息浮雕是在全息光刻或全息光栅的基础上加入特殊技术,使文字或图案看起来在同一平面上呈现出凹凸浮雕的立体效果,多应用在镭射定位包装、标签上,如浮雕图案、浮雕文字等,一般是根据图像生成灰度图,然后根据灰度图进行切割以生产出浮雕图案。

2、然而,现有全息光刻技术经常会因为灰度图的斜面线条不够圆润,很多地方过于粗糙,将会导致整体反射光的角度过于接近漫反射,从而导致生产出来的浮雕效果泛白发雾,不够晶亮,质量较差。


技术实现思路

1、有鉴于此,本专利技术的目的是为了克服现有技术中的不足,提供一种浮雕图像生成方法、系统、设备及存储介质。

2、本专利技术提供如下技术方案:

3、第一方面,本申请提供了一种浮雕图像生成方法,包括:

4、获取浮雕的灰度图,设置所述浮雕的第一参数,根据所述第一参数确定所述灰度图中每个像素点的第二参数,所述第一参数和所述第二参数包括高度和宽度;

5、构本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种浮雕图像生成方法,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的浮雕图像生成方法,其特征在于,所述根据所述第一参数确定所述灰度图中每个像素点的第二参数,包括:

3.根据权利要求2所述的浮雕图像生成方法,其特征在于,所述根据每个所述像素点的第二参数,确定每个所述像素点在所述三维矩阵中的坐标,包括:

4.根据权利要求1所述的浮雕图像生成方法,其特征在于,所述根据多个所述三维坐标点进行多项式拟合,包括:

5.根据权利要求1所述的浮雕图像生成方法,其特征在于,所述确定每个所述斜面切割线条对应的灰度值,包括:

6.根据权利要求5所述...

【技术特征摘要】

1.一种浮雕图像生成方法,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的浮雕图像生成方法,其特征在于,所述根据所述第一参数确定所述灰度图中每个像素点的第二参数,包括:

3.根据权利要求2所述的浮雕图像生成方法,其特征在于,所述根据每个所述像素点的第二参数,确定每个所述像素点在所述三维矩阵中的坐标,包括:

4.根据权利要求1所述的浮雕图像生成方法,其特征在于,所述根据多个所述三维坐标点进行多项式拟合,包括:

5.根据权利要求1所述的浮雕图像生成方法,其特征在于,所述确定每个所述斜面切割线条对应的灰度值,包括:

6.根据权利要求5所述的浮雕图像生成方法,其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员:汪昱坤鲁琴张静刘畅
申请(专利权)人:武汉华工图像技术开发有限公司
类型:发明
国别省市:

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