清洁设备的自清洁方法、设备及存储介质技术

本申请涉及清洁设备的自清洁方法、设备及存储介质，属于计算机技术领域。该方法包括：在清洁设备与基站对接的情况下，响应于对清洁设备的自清洁指令，控制清洁设备执行第一自清洁动作，第一自清洁动作包括清洁件运行、负压发生器工作、以及喷水机构关闭；在第一自清洁动作完成后，控制清洁设备执行第二自清洁动作。可以解决在自清洁的初始阶段喷水机构向清洁附件喷水时，由于清洁附件的含水量较大，导致清洁附件产生的液体或泡沫过多溢出基站的问题。由于负压发送器的启动可以抽吸污水，因此，可以在初始阶段先降低清洁附件的含水量，以降低液体或泡沫溢出基站的概率，提高清洁设备的自清洁效果。

【技术实现步骤摘要】

本申请属于计算机，具体涉及清洁设备的自清洁方法、设备及存储介质。

技术介绍

1、清洁设备是指对待清洁表面进行清洁的电子设备。清洁设备上通常设置有清洁件，在使用清洁设备对待清洁表面进行清洁时，清洁件运行并与待清洁表面接触，以对待清洁表面进行清洁。此时，清洁设备对待清洁表面清洁结束后，清洁件脏污程度较高，因此，需要对清洁件进行清洁。

2、目前，对清洁设备上清洁件的清洁方式包括：在清洁设备和基站对接后，通过基站自动对该清洁件进行自清洁。在一种典型的自清洁方式中，清洁设备在获取到对清洁件的自清洁指令后，清洁件旋转、同时清洁设备上的水泵启动，以向清洁件喷水。

3、然而，在自清洁的初始阶段，清洁件可能会存在较多的液体或泡沫，导致该液体或泡沫溢出基站，导致自清洁效果较差的问题。

技术实现思路

1、本申请所要解决的技术问题包括现有的清洁设备在自清洁的初始阶段，喷水机构向清洁件喷水时，有液体或泡沫产生甚至溢出基站导致清洁效果较差的问题。

2、为解决上述技术问题，一方面，本申请提供清洁设备的自本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种清洁设备的自清洁方法，其特征在于，所述清洁设备包括清洁件、用于向所述清洁件的清洁附件喷水的喷水机构以及负压发生器，所述方法包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述控制所述清洁设备执行第一自清洁动作，包括：

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述控制所述清洁设备执行第一自清洁动作，包括：

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述控制所述清洁设备执行第一自清洁动作，包括：

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述清洁设备和/或所述基站还包括干燥组件...

【技术特征摘要】

1.一种清洁设备的自清洁方法，其特征在于，所述清洁设备包括清洁件、用于向所述清洁件的清洁附件喷水的喷水机构以及负压发生器，所述方法包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述控制所述清洁设备执行第一自清洁动作，包括：

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述控制所述清洁设备执行第一自清洁动作，包括：

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述控制所述清洁设备执行第一自清洁动作，包括：

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述清洁设备和/或所述基站还包括干燥组件，所述第一自清洁动作还包括：所述干燥组件工作；...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘凯，杨彦平，鲍齐斌，
申请(专利权)人：追觅创新科技苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：