微影成像投影镜头制造技术

一种微影成像投影镜头，适用于光阻特征成像的单位放大透镜系统，具有多个透镜元件及置于其中的一光栏，其沿着一光轴排列，且包含分置于该多个透镜元件前、后两端的一像侧与一物侧；其中：分别靠近该物侧与该像侧的两个透镜，其屈亮度皆须为正；各该透镜元件皆属无胶合的单一透镜；不同像高位置的主光线与该光轴的夹角<1度，且不同物高位置的主光线与该光轴的夹角<1度；以及在350～450nm波长光线的投射下，据以提供精确放大倍率的成像效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术有关一种投影镜头，尤指以单位放大率与高分辨率成像到基板的一种无光罩微影成像投影镜头。

技术介绍

1、微影制程(photolithography)是半导体元件制造制程中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光阻层上刻画几何图形结构，然后通过蚀刻制程将光罩上的图形转移到基板上；换言之，微影制程就是将电路图案，通过光罩及光阻「转印」到晶圆上的过程。因此，微影制程需要非常精确地控制图像的形状与大小。

2、用于制造半导体元件或类似产品的微影制程，通常的做法为使用投影曝光装置来曝光光罩的图案，并成像至涂布光阻的晶圆(或玻璃板或类似物品)上；且随着半导体元件集成程度的增加，对于投影曝光装置中的投影镜头，更加需要具有单位放大率与高分辨率的功能。

技术实现思路

1、本专利技术的主要目的，在于提供可将无光罩装置，如搭配德州仪器(ti)的数字微型反射器(dmd)，以单位放大率与高分辨率成像到基板上的一种微影成像投影镜头。

2、本专利技术的另一目的，在于提供基板之间具有长工作距离，且有助于控制图像像本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种微影成像投影镜头，具有多个透镜元件及一置于其中的一光栏，沿着一光轴排列，且包含一物侧与一像侧，分置于该多个透镜元件的前、后两端；其特征在于：

2.如权利要求1所述的微影成像投影镜头，其特征在于，靠近该物侧的第一个透镜与靠近该像侧的第一个透镜，至少一个为非双凸透镜。

3.如权利要求2所述的微影成像投影镜头，其特征在于，更包括一棱镜，设置于该物侧前方，且该光栏前、后的负透镜满足30<Vd<50的阿贝数数值，而全部透镜元件满足1.45<Nd<1.75的折射率数值，且数值孔径介于0.08～0.21。

4.如权利要求3所述的微影成...

【技术特征摘要】

1.一种微影成像投影镜头，具有多个透镜元件及一置于其中的一光栏，沿着一光轴排列，且包含一物侧与一像侧，分置于该多个透镜元件的前、后两端；其特征在于：

2.如权利要求1所述的微影成像投影镜头，其特征在于，靠近该物侧的第一个透镜与靠近该像侧的第一个透镜，至少一个为非双凸透镜。

3.如权利要求2所述的微影成像投影镜头，其特征在于，更包括一棱镜，设置于该物侧前方，且该光栏前、后的负透镜满足30<vd<50的阿贝数数值，而全部透镜元件满足1.45<nd<1.75的折射率数值，且数值孔径介于0.08～0.21。

4.如权利要求3所述的微影成像投影镜头，其特征在于，该透镜元件有10个，其屈亮度自该像侧至该物侧依序为正、正、正、正、负、负、负、正、正、正，该光栏则置于该第五与该第六透镜之间，且该第一至第五透镜其整体焦距在35～50mm之间，该第六至第十透镜其整体焦距在67～140mm之间，并据以产生焦距>1000mm，且放大倍率达0.25～0.75x的镜头。

5.如权利要求3所述的微影成像投影镜头，其特征在于，该透镜元件有12个，其屈亮度自该像侧至该物侧依序为正、正、负、正、正、负、负、正、正、负、正、正，该光栏则置于该第六与该第七透镜之间，且该光栏前、后的透镜元件相互对称，而第一至第六透镜其整体焦距在140～165mm之间，该第七至第十二透镜其整体焦距在72～82mm之间，并据以产生焦距&...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴昇澈，周昱宏，林宜桦，苏元宏，
申请(专利权)人：上旸光学股份有限公司，
类型：发明
国别省市：