电子级气体纯化方法及其纯化装置制造方法及图纸

技术编号:40420120 阅读:21 留言:0更新日期:2024-02-20 22:38
一种电子级气体纯化方法及其纯化装置,其中该纯化装置内部具有多个中空纤维管体,用以将一尚未纯化电子级气体进行气体纯化并向外排出,而于未运作气体纯化的纯化装置,能够将已纯化电子级气体通过该未运作气体纯化的纯化装置,以使该纯化装置内部的微尘被排出,并于完成再生处理后,再将已纯化电子级气体输入该未运作气体纯化的纯化装置内,以对该纯化装置内部的压力进行填补回压。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是有关一种电子级气体纯化方法及其纯化装置,是一种通过纯化装置对电子级气体进行纯化处理并对纯化装置进行再生处理的方法及其装置。


技术介绍

1、电子级气体(electronicgases)是超大规模集成电路、平面显示器件,化合物半导体器件,太阳能电池,光纤等电子工业生产不可缺少的原材料,它们广泛应用于薄膜、刻蚀、掺杂、气相沉积、扩散等工艺。例如在目前工艺技术较为先进的超大规模集成电路工厂的晶圆片制造过程中,全部工艺步骤超过450道,其中大约要使用50种不同种类的电子级气体。

2、而电子级气体纯度往往直接决定晶片制造的良率及可靠性,因此电子级气体纯化非常重要,举例几种电子级气体纯化方式如下:

3、(1)氩气/氦气纯化,如图1a所示,通常通过单管纯化瓶进行纯化处理,其中纯化瓶1a中具有吸气剂(getter),由于针对氩气/氦气纯化所使用的单管纯化瓶1a内的吸气剂并无法再生重复使用,因此是属于耗材,另外由于大多是使用单管,故也无法多管切换使用。

4、(2)氢气纯化,如图1b所示,其中纯化瓶1b中具有吸附材(adsorbe本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种电子级气体纯化方法,其特征在于,其方法为:

2.如权利要求1所述的电子级气体纯化方法,其特征在于,该纯化装置能够通过该多个中空纤维管体去除杂质,该杂质为水(H2O)、空气(Air)、氧气(O2)、氮气(N2)、氢气(H2)、甲烷(CH4)、一氧化碳(CO)、二氧化碳(CO2)、非甲烷碳氢化合物(NMHC)、氩气(Ar)、氮氧化物(NOX)、总有机碳(TOC)、酸(Acid)、碱(Bases)、耐熔化合物(Refactory compound)、丙二醇甲醚(PGMEA)、单乙醇胺(MEA)的一种或多种。

3.如权利要求1所述的电子级气体纯化方法,其特征在于,...

【技术特征摘要】

1.一种电子级气体纯化方法,其特征在于,其方法为:

2.如权利要求1所述的电子级气体纯化方法,其特征在于,该纯化装置能够通过该多个中空纤维管体去除杂质,该杂质为水(h2o)、空气(air)、氧气(o2)、氮气(n2)、氢气(h2)、甲烷(ch4)、一氧化碳(co)、二氧化碳(co2)、非甲烷碳氢化合物(nmhc)、氩气(ar)、氮氧化物(nox)、总有机碳(toc)、酸(acid)、碱(bases)、耐熔化合物(refactory compound)、丙二醇甲醚(pgmea)、单乙醇胺(mea)的一种或多种。

3.如权利要求1所述的电子级气体纯化方法,其特征在于,该纯化装置去除的杂质包括有一氧气(o2)时,于进行再生处理,需将一氢气(h2)注入该未运作气体纯化的纯化装置内,用以清除残留于该多个中空纤维管体内的氧气(o2)杂质。

4.如权利要求1所述的电子级气体纯化方法,其特征在于,该尚未纯化电子级气体或是去除的杂质为一氢气(h2)时,若发生氢...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄柏玮
申请(专利权)人:芯动能设备股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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