一种带有清扫结构的单晶炉副室制造技术

技术编号:40412656 阅读:8 留言:0更新日期:2024-02-20 22:31
一种带有清扫结构的单晶炉副室,涉及单晶炉副室清扫技术领域:包括外壳体;外壳体的内部设置清扫组件;清扫组件包括分隔板;所述的伸缩杆的外侧套设有弹簧;伸缩杆的一端设置有支撑杆;支撑杆一端设置有清扫板;移动杆通过滑块安装在清扫板一侧的滑槽内,移动杆的另一端通过固定架与转台活动安装;在使用时,在清扫组件上设置有伸缩杆,在伸缩杆的一端固定安装有支撑杆,在支撑杆远离伸缩杆的一端设置有清扫板,在清扫板的一侧开设有滑槽,在滑槽内滑动安装有滑块,滑块活动安装有移动杆,移动杆的另一端通过固定架与转台活动连接,在底部驱动电机的带动下实现带动伸缩杆和清扫板的转动,通过钢丝刷实现对内壁的清扫。

【技术实现步骤摘要】

本技术具体涉及单晶炉副室清扫,具体是一种带有清扫结构的单晶炉副室


技术介绍

1、对于光伏产业要实现高产量、高成品率、提高一次到底率,必须在单晶炉内部清扫上下功夫。现在大部分单晶炉都在进行二次加料,副室遭受污染几率更大,然而对于单晶炉炉内卫生说,最重要的通过彻底清扫炉内、炉室环境,改变晶体生长过程当中炉膛上部杂质掉落造成晶体卡棱,提高单晶一次到底率,目前大多数单晶炉副室为圆筒形设计,单晶炉副室的清理都依赖于人工清扫,常用的清扫工具为一根不锈钢杆,顶端呈十字形状,安装一圆盘,固定纤维纸,伸入副室内部反复上下推拉、擦拭,具有以下几点不足之处:一是使用这种工具清理单晶炉副室炉膛时,简单推拉,不易用力,副室内壁会留有附着物,而炉内卫生对能否正常成晶起着决定性作用,所以成晶情况不够稳定;二是简单上下推拉、擦拭浪费了大量时间和员工精力,影响其他单晶炉正常作业;三是单晶炉副室清理不到位,后期极易在正常作业过程中出现液面以上部位掉落杂质,造成等径过程当中卡棱、回熔等成晶不良现象。

2、中国专利公开号cn202020719449.4公开了一种单晶炉副室清理装置;包括与副室内壁相适配的架体,在所述架体外壁设有清洁件,所述架体的外壁沿其高度方向被所述清洁件全覆盖,所述清洁件与所述副室内壁周缘全接触,从所述架体内侧向所述清洁件提供清洗液,所述清洁件沿所述副室轴线上下移动并可连续清洁所述副室。本技术提出的清理装置,结构简单且易于控制,可连续全面地清洁副室内壁,无遗漏,清洁质量好且清洁效果一致,清洗液利用率高。

3、上述专利中的清理装置在对副室进行清理时通过气泵带动上方的架体进行上下移动,这样在单晶炉在工作状态下,无法对副室进行清理,只能在将单晶炉放置在外侧时,才能对副室进行清理,这样就需要在清理时,单独的需要时间进行处理,这样就比较浪费单晶炉的工作时间,因此,我们提供一种带有清扫结构的单晶炉副室,在本新型中,清扫组件安装在副室内,清扫组件上安装有伸缩杆,在伸缩杆上安装有支撑杆,在支撑杆的端部安装有清扫板,在清扫板靠近副室内侧板的一侧设置有钢丝刷,伸缩杆在转台的带动下实现转动,通过钢丝刷对副室的侧壁进行清理,当在单晶炉工作时,将单晶炉放置在副室的内部,这样伸缩杆就带动清扫板向下移动,清扫板穿过承载台上的穿孔,在伸缩杆的带动下实现旋转清扫,清扫的粉尘通过外壳体底部设置有负压管将其吸附出去,本清扫装置可以在单晶炉工作状态下进行有效的清理,可以大大的提高单晶炉的工作效率。


技术实现思路

1、本技术的目的在于提供一种带有清扫结构的单晶炉副室,以解决
技术介绍
中提出的清理装置在对副室进行清理时通过气泵带动上方的架体进行上下移动,这样在单晶炉在工作状态下,无法对副室进行清理,只能在将单晶炉放置在外侧时,才能对副室进行清理,这样就需要在清理时,单独的需要时间进行处理,这样就比较浪费单晶炉的工作时间的问题。

2、为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:

3、一种带有清扫结构的单晶炉副室,包括外壳体;所述的外壳体的内部设置偶清扫组件;所述的清扫组件包括分隔板;所述的分隔板固定安装在伸缩杆上;所述的伸缩杆的外侧套设有弹簧;所述的伸缩杆的一端设置有支撑杆;所述的支撑杆呈对称设置;所述的支撑杆在远离伸缩杆的一端设置有清扫板;所述的清扫板在远离支撑杆的一端设置有移动杆;所述的移动杆通过滑块活动安装在清扫板一侧开设的滑槽内,所述的移动杆的另一端通过固定架与转台活动安装。

4、作为本技术的进一步技术方案,所述的清扫板在远离滑槽的一侧设置有钢丝刷。

5、作为本技术的进一步技术方案,所述的转台安装在承载台上,所述的承载台上开设有便于清扫板贯穿的穿孔;所述的穿孔呈对称设置。

6、作为本技术的进一步技术方案,所述的承载台与外壳体的底部充空腔设置,在空腔内固定安装有驱动电机,所述的驱动电机输出轴贯穿承载台与转台固定连接。

7、作为本技术的进一步技术方案,所述的承载台上还开设有漏孔。

8、作为本技术的进一步技术方案,所述的外壳体的外侧设置有支腿,所述的支腿呈环形阵列。

9、作为本技术的进一步技术方案,所述的外壳体的底部设置有负压管;所述的负压管与外壳体的底部密封连接。

10、与现有技术相比,本技术的有益效果是:

11、1.本技术,在使用时,在外壳体的内部安装有清扫组件,在清扫组件上设置有伸缩杆,在伸缩杆的一端固定安装有支撑杆,在支撑杆远离伸缩杆的一端设置有清扫板,在清扫板的一侧开设有滑槽,在滑槽内滑动安装有滑块,滑块活动安装有移动杆,移动杆的另一端通过固定架与转台活动连接,在底部驱动电机的带动下实现带动伸缩杆和清扫板的转动,通过钢丝刷实现对内壁的清扫;

12、2.本技术,当单晶炉在工作状态下,要对副室进行清理时,将单晶炉放置在清扫组件的上方,这时伸缩杆就会向下收缩,支撑杆带动清扫板向下移动,清扫板穿过承载台上的穿孔延伸至空腔内,清扫板在下移的过程中,滑槽内的滑块带动移动杆沿滑槽滑动,可以有效的保证清扫板的稳定性,和清扫板贯穿穿孔的准确性,在驱动电机的带动下实现旋转清理的工作;

13、3.本技术,清扫完成后,粉尘通过承载台上开设的漏孔落入承载台与外壳体之间的空腔内,再通过外壳体底部设置有负压管进行吸附处理。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种带有清扫结构的单晶炉副室,其特征在于:包括外壳体(1);所述的外壳体(1)的内部设置偶清扫组件(2);所述的清扫组件(2)包括分隔板(20);所述的分隔板(20)固定安装在伸缩杆(22)上;所述的伸缩杆(22)的外侧套设有弹簧(29);所述的伸缩杆(22)的一端设置有支撑杆(21);所述的支撑杆(21)呈对称设置;所述的支撑杆(21)在远离伸缩杆(22)的一端设置有清扫板(23);所述的清扫板(23)在远离支撑杆(21)的一端设置有移动杆(25);所述的移动杆(25)通过滑块(26)活动安装在清扫板(23)一侧开设的滑槽(24)内,所述的移动杆(25)的另一端通过固定架(27)与转台(28)活动安装;

2.根据权利要求1所述的一种带有清扫结构的单晶炉副室,其特征在于:所述的转台(28)安装在承载台(210)上,所述的承载台(210)上开设有便于清扫板(23)贯穿的穿孔(213);所述的穿孔(213)呈对称设置。

3.根据权利要求2所述的一种带有清扫结构的单晶炉副室,其特征在于:所述的承载台(210)与外壳体(1)的底部充空腔设置,在空腔内固定安装有驱动电机(211),所述的驱动电机(211)输出轴贯穿承载台(210)与转台(28)固定连接。

4.根据权利要求3所述的一种带有清扫结构的单晶炉副室,其特征在于:所述的承载台(210)上还开设有漏孔。

5.根据权利要求3所述的一种带有清扫结构的单晶炉副室,其特征在于:所述的外壳体(1)的外侧设置有支腿(11),所述的支腿(11)呈环形阵列。

6.根据权利要求5所述的一种带有清扫结构的单晶炉副室,其特征在于:

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【技术特征摘要】

1.一种带有清扫结构的单晶炉副室,其特征在于:包括外壳体(1);所述的外壳体(1)的内部设置偶清扫组件(2);所述的清扫组件(2)包括分隔板(20);所述的分隔板(20)固定安装在伸缩杆(22)上;所述的伸缩杆(22)的外侧套设有弹簧(29);所述的伸缩杆(22)的一端设置有支撑杆(21);所述的支撑杆(21)呈对称设置;所述的支撑杆(21)在远离伸缩杆(22)的一端设置有清扫板(23);所述的清扫板(23)在远离支撑杆(21)的一端设置有移动杆(25);所述的移动杆(25)通过滑块(26)活动安装在清扫板(23)一侧开设的滑槽(24)内,所述的移动杆(25)的另一端通过固定架(27)与转台(28)活动安装;

2.根据权利要求1所述的一种带有清扫结构的单晶炉副室,其特征在于:所述的转台(28)安装在...

【专利技术属性】
技术研发人员:窦长林窦押华
申请(专利权)人:江苏安惠环境设备科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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