【技术实现步骤摘要】
本技术涉及等静压石墨的纯化领域，尤其涉及一种等静压石墨用自动纯化装置。
技术介绍
1、在等静压石墨的生产过程中，不可避免地混有杂质。为了满足较高地使用要求，需要对等静压石墨进行纯化处理。在高温的气氛炉中，可以通过卤素气体对等静压石墨进行提纯处理。
2、申请号为201410638623.1的专利申请中公开了一种核石墨材料制备方法，在焙烧过程中引入卤素或卤代烃纯化气体进行纯化，可以降低纯化工序的成本。在实际生产过程中，气氛炉的开口通常设置在正面，等静压石墨需要从开口放入气氛炉，然后关闭炉门进行纯化，纯化处理完成后再取出等静压石墨，操作比较繁琐，特别是数量多时，等静压石墨取出和置入耗时长，影响了气氛炉有效工作的效率。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种等静压石墨用自动纯化装置，进行等静压石墨的自动纯化，提升生产效率。
2、为达此目的，本技术采用以下技术方案：
3、一种等静压石墨用自动纯化装置，包括：底座、滑动座、气氛炉和升降板，所述升降板可升降地设置在底座的上方，所述气氛炉可横向移动地设置在升降板的下方，且开口位于底部，所述滑动座横向间隔设置在底座上并位于气氛炉的下方，所述滑动座上分别设置有等静压石墨定位载具，所述气氛炉内壁上设置有加热板，所述气氛炉一侧设置有纯化气体导入管，所述气氛炉另一侧设置有纯化气体导出管。
4、其中，所述底座上纵向设置有位于滑动座下方的第一滑轨，所述滑动座底部设置有位于第一滑轨上的第一滑块。
5、
6、其中，所述底座两侧设置有向上延伸并贯穿升降板的立柱，所述立柱的顶部设置有固定座，所述固定座上设置有与升降板相连接的第二气缸。
7、其中，所述升降板中设置有与立柱对应的导向孔。
8、其中，所述升降板的底部横向设置有第二滑轨，所述气氛炉的顶部设置有位于第二滑轨上的滑块。
9、其中，所述升降板的底部设置有支架，所述支架上横向设置有与气氛炉一侧相连接的第三气缸。
10、本技术的有益效果：一种等静压石墨用自动纯化装置，将等静压石墨放置在两个滑动座上的等静压石墨定位载具上，通过滑动座将等静压石墨送入气氛炉的路径下方，通过气氛炉的横移和升降，交替对两个等静压石墨定位载具上等静压石墨进行笼罩和自动纯化处理，减少了气氛炉的等待时长，等静压石墨的上下料不影响气氛炉的有效工作，提升了生产效率。
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1.一种等静压石墨用自动纯化装置，其特征在于，包括：底座、滑动座、气氛炉和升降板，所述升降板可升降地设置在底座的上方，所述气氛炉可横向移动地设置在升降板的下方，且开口位于底部，所述滑动座横向间隔设置在底座上并位于气氛炉的下方，所述滑动座上分别设置有等静压石墨定位载具，所述气氛炉内壁上设置有加热板，所述气氛炉一侧设置有纯化气体导入管，所述气氛炉另一侧设置有纯化气体导出管。
2.根据权利要求1所述的等静压石墨用自动纯化装置，其特征在于，所述底座上纵向设置有位于滑动座下方的第一滑轨，所述滑动座底部设置有位于第一滑轨上的第一滑块。
3.根据权利要求1所述的等静压石墨用自动纯化装置，其特征在于，所述底座上纵向设置有与滑动座相连接的第一气缸。
4.根据权利要求1所述的等静压石墨用自动纯化装置，其特征在于，所述底座两侧设置有向上延伸并贯穿升降板的立柱，所述立柱的顶部设置有固定座，所述固定座上设置有与升降板相连接的第二气缸。
5.根据权利要求4所述的等静压石墨用自动纯化装置，其特征在于，所述升降板中设置有与立柱对应的导向孔。
6.根据权
7.根据权利要求1所述的等静压石墨用自动纯化装置，其特征在于，所述升降板的底部设置有支架，所述支架上横向设置有与气氛炉一侧相连接的第三气缸。
...【技术特征摘要】
1.一种等静压石墨用自动纯化装置，其特征在于，包括：底座、滑动座、气氛炉和升降板，所述升降板可升降地设置在底座的上方，所述气氛炉可横向移动地设置在升降板的下方，且开口位于底部，所述滑动座横向间隔设置在底座上并位于气氛炉的下方，所述滑动座上分别设置有等静压石墨定位载具，所述气氛炉内壁上设置有加热板，所述气氛炉一侧设置有纯化气体导入管，所述气氛炉另一侧设置有纯化气体导出管。
2.根据权利要求1所述的等静压石墨用自动纯化装置，其特征在于，所述底座上纵向设置有位于滑动座下方的第一滑轨，所述滑动座底部设置有位于第一滑轨上的第一滑块。
3.根据权利要求1所述的等静压石墨用自动纯化装置，其特征在于，所述底座上纵向设置有与滑...
【专利技术属性】
技术研发人员：王雪诚，周大伟，沈永辉，杨程，
申请(专利权)人：江苏宏基高新材料股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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