一种基于调制度和SIFT的光学元件表面缺陷三维拼接方法技术

本发明专利技术提供一种基于调制度和SIFT的光学元件表面缺陷三维拼接的方法，用于实现快速准确的大口径表面缺陷三维检测，包括：获取子图像的调制度、水平斜率、垂直斜率；调制度图像的特征提取；水平、垂直斜率的配准与融合；水平、垂直斜率积分重建拼接面形；高通滤波得到表面缺陷三维信息。采用显微结构照明获取子图像的调制度、水平斜率、垂直斜率信息，再采用SIFT算法对子图像的调制度进行特征提取，根据特征点位置信息对水平、垂直斜率进行配准和融合得到全口径的水平、垂直斜率分布，积分后得到全口径面形信息，进一步采用高通滤波得到全口径的表面缺陷三维信息。本发明专利技术为全口径光学元件表面缺陷三维拼接提供了一种快速准确的拼接手段。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光学检测邻域，特别涉及一种基于调制度和sift的光学元件表面缺陷三维拼接方法。

技术介绍

1、精密光学元件广泛应用于光学精密测量、激光光学等诸多领域，是光学系统的关键部件。由于操作不当，光学元件表面会产生划痕、麻点等缺陷，缺陷的存在会危害整个光学系统，所以表面缺陷三维检测对于工艺优化改进和系统质量控制至关重要。

2、显微结构照明法是一种有效检测光学元件表面缺陷的三维检测方法，由于系统本身视场受限，难以实现大口径、全口径的表面缺陷检测，因此，三维拼接成为了实现这一目标的关键技术。现有三维拼接方法中，大多数是基于坐标位置进行拼接，这类方法极其依靠硬件设施的精度，因此无法很好地克服实际检测环境中存在的各类噪声的影响。在图像配准中，应用最为广泛的是基于特征匹配的方法，比如harris角点检测、sift、surf、orb等算法，其中sift有效抑制图像几何变化带来的影响，抗干扰性强，能够稳定的得到特征点的尺度信息，是一种高效的图像拼接方法(hejazifar h,khotanlou h.fast and robust seamestimat本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基于调制度和SIFT的光学元件表面缺陷三维拼接方法，其特征在于，包括如下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种基于调制度和SIFT的光学元件表面缺陷三维拼接方法，其特征在于，所述S1中，所述显微结构照明装置包括OLED显示屏、相机、显微物镜、照明端镜头、成像端远心镜头、半反半透镜，检测时，在OLED显示屏上显示正弦性条纹，条纹成实像于待测光学元件的表面上方距离d处，相机采集经待测光学元件的表面反射的变形条纹图，通过对采集到的条纹图进行计算分析得到调制度图Mod、水平斜率sx、垂直斜率sy。

3.根据权利要求1所述的一种基于调制度和SIFT的光学元件表面缺陷三...

【技术特征摘要】

1.一种基于调制度和sift的光学元件表面缺陷三维拼接方法，其特征在于，包括如下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种基于调制度和sift的光学元件表面缺陷三维拼接方法，其特征在于，所述s1中，所述显微结构照明装置包括oled显示屏、相机、显微物镜、照明端镜头、成像端远心镜头、半反半透镜，检测时，在oled显示屏上显示正弦性条纹，条纹成实像于待测光学元件的表面上方距离d处，相机采集经待测光学元件的表面反射的变形条纹图，通过对采集到的条纹图进行计算分析得到调制度图mod、水平斜率sx、垂直斜率sy。

3.根据权利要求1所述的一种基于调制度和sift的光学元件表面缺陷三维拼接方法，其特征在于，所述s2中，采用sift算法进行特征点提取包括：

4.根据权利要求1所述的一种基于调制度和sift的光学...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵文川，李明泽，侯溪，胡小川，周杨，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：