一种用于直拉单晶热场反射导流装置制造方法及图纸

技术编号:40376684 阅读:4 留言:0更新日期:2024-02-20 22:16
本技术公开了一种用于直拉单晶热场反射导流装置,包括导流板和反射板;所述导流板为一碟形结构,中心具有上下贯穿的通孔,所述导流板通过中心的通孔套接在重锤上;所述的反射板为上下开口的圆筒状结构,其安装在导流筒上环上。该装置通过两部分分别安装与热场上部与籽晶重锤上部,利用材料的反射和隔热特性,对熔硅辐射热量进行隔绝和反射,增加调温、引晶时液面上方热量反射,能够降低调温、引晶时功耗,减小液面温度波动,同时结构能改变气路,减少紊流,提高气流集中性,有效带走挥发物。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于单晶硅制备领域,具体涉及一种用于直拉单晶热场反射导流装置


技术介绍

1、在直拉法生产单晶硅工艺中,拉制12吋及以上大尺寸晶棒时,相比10吋以下晶棒,由于导流筒(也称热屏)下口尺寸增大50mm以上,在调温、引晶时,由此带来两个问题,一是熔硅散热量增加,引晶功率较10吋上升10kw左右,进而导致液面温度波动增大,石英坩埚腐蚀加快,造成挥发物增多,液面抖动,石英坩埚寿命缩短,二是溶硅液面上方气流量分散,进而导致氩气气流无法有效带走挥发物。以上问题导致放肩断棱比例明显上升,从而影响成晶率。现有方法通常是采用增加坩埚转速、增大氩气流量来调节温度和气流,但是由于调节范围的局限性,无法有效解决以上问题,同时带来晶体氧含量升高等问题。


技术实现思路

1、技术目的:本技术所要解决的技术问题是针对现有技术的不足,提供一种热场反射导流装置,对熔硅辐射热量进行隔绝和反射,减小液面温度波动,同时改善气路,提高气流量。

2、为了实现上述目的,本技术采取的技术方案如下:

3、一种用于直拉单晶热场反射导流装置,包括导流板和反射板;所述导流板为一碟形结构,中心具有上下贯穿的通孔,所述导流板通过中心的通孔套接在重锤上;所述的反射板为上下开口的圆筒状结构,其安装在导流筒上环上。

4、进一步地,所述导流板为由上部椎体和下部椎体构成的碟形结构;所述的上部椎体自下而上环向收紧,所述的下部椎体自上而下环向收紧。

5、进一步地,所述的上部椎体底部与下部椎体顶部相互固定或者一体成型。

6、进一步地,所述上部椎体的顶部开口与下部椎体的底部开口尺寸相同,并与重锤外径相适配,从而形成与重锤套接的中心通孔。

7、进一步地,所述的上部椎体和下部椎体的内壁填充或者安装有固化碳纤维软毡。

8、更进一步地,所述的上部椎体的顶部开口处还连接有一锥形套筒,所述的锥形套筒内壁与重锤的上部斜面相适配,通过锥形套筒将整个导流板套装在重锤的上部斜面处。

9、优选地,所述的上部椎体的侧面斜度为90~120°;所述的下部椎体的侧面斜度为120~150°;上部椎体和下部椎体的壁面厚度为0.2-0.5mm。

10、进一步地,所述的上部椎体、下部椎体和锥形套筒之间采用相同材质一体成型,或者通过螺钉铆接加工而成。

11、进一步地,所述反射板的底部开口大于顶部开口;反射板的侧面开设有一方形缺口,所述方形缺口与上部开口连通。

12、进一步地,所述的反射板采用相同材质一体成型或者通过螺钉铆接加工而成,壁面厚度为0.2-0.5mm。

13、有益效果:

14、该热场反射导流装置两部分分别安装与热场上部与籽晶重锤上部,利用材料的反射和隔热特性,对熔硅辐射热量进行隔绝和反射,增加调温、引晶时液面上方热量反射,能够降低调温、引晶时功耗,减小液面温度波动,同时结构能改变气路,减少紊流,提高气流集中性,有效带走挥发物。

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【技术保护点】

1.一种用于直拉单晶热场反射导流装置,其特征在于,包括导流板(1)和反射板(2);所述导流板(1)为一碟形结构,中心具有上下贯穿的通孔(101),所述导流板(1)通过中心的通孔(101)套接在重锤(3)上;所述的反射板(2)为上下开口的圆筒状结构,其安装在导流筒上环(5)上。

2.根据权利要求1所述的用于直拉单晶热场反射导流装置,其特征在于,所述导流板(1)为由上部椎体(102)和下部椎体(103)构成的碟形结构;所述的上部椎体(102)自下而上环向收紧,所述的下部椎体(103)自上而下环向收紧。

3.根据权利要求2所述的用于直拉单晶热场反射导流装置,其特征在于,所述的上部椎体(102)底部与下部椎体(103)顶部相互固定或者一体成型。

4.根据权利要求2所述的用于直拉单晶热场反射导流装置,其特征在于,所述上部椎体(102)的顶部开口与下部椎体(103)的底部开口尺寸相同,并与重锤(3)外径相适配,从而形成与重锤(3)套接的中心通孔(101)。

5.根据权利要求2所述的用于直拉单晶热场反射导流装置,其特征在于,所述的上部椎体(102)和下部椎体(103)的内壁填充或者安装有固化碳纤维软毡(105)。

6.根据权利要求2所述的用于直拉单晶热场反射导流装置,其特征在于,所述的上部椎体(102)的顶部开口处还连接有一锥形套筒(104),所述的锥形套筒(104)内壁与重锤(3)的上部斜面相适配,通过锥形套筒(104)将整个导流板(1)套装在重锤(3)的上部斜面处。

7.根据权利要求2所述的用于直拉单晶热场反射导流装置,其特征在于,所述的上部椎体(102)的侧面斜度为90~120°;所述的下部椎体(103)的侧面斜度为120~150°;上部椎体(102)和下部椎体(103)的壁面厚度为0.2-0.5mm。

8.根据权利要求6所述的用于直拉单晶热场反射导流装置,其特征在于,所述的上部椎体(102)、下部椎体(103)和锥形套筒(104)之间采用相同材质一体成型,或者通过螺钉铆接加工而成。

9.根据权利要求1所述的用于直拉单晶热场反射导流装置,其特征在于,所述反射板(2)的底部开口大于顶部开口;反射板(2)的侧面开设有一方形缺口(201),所述方形缺口(201)与上部开口连通。

10.根据权利要求9所述的用于直拉单晶热场反射导流装置,其特征在于,所述的反射板(2)采用相同材质一体成型或者通过螺钉铆接加工而成,壁面厚度为0.2-0.5mm。

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【技术特征摘要】

1.一种用于直拉单晶热场反射导流装置,其特征在于,包括导流板(1)和反射板(2);所述导流板(1)为一碟形结构,中心具有上下贯穿的通孔(101),所述导流板(1)通过中心的通孔(101)套接在重锤(3)上;所述的反射板(2)为上下开口的圆筒状结构,其安装在导流筒上环(5)上。

2.根据权利要求1所述的用于直拉单晶热场反射导流装置,其特征在于,所述导流板(1)为由上部椎体(102)和下部椎体(103)构成的碟形结构;所述的上部椎体(102)自下而上环向收紧,所述的下部椎体(103)自上而下环向收紧。

3.根据权利要求2所述的用于直拉单晶热场反射导流装置,其特征在于,所述的上部椎体(102)底部与下部椎体(103)顶部相互固定或者一体成型。

4.根据权利要求2所述的用于直拉单晶热场反射导流装置,其特征在于,所述上部椎体(102)的顶部开口与下部椎体(103)的底部开口尺寸相同,并与重锤(3)外径相适配,从而形成与重锤(3)套接的中心通孔(101)。

5.根据权利要求2所述的用于直拉单晶热场反射导流装置,其特征在于,所述的上部椎体(102)和下部椎体(103)的内壁填充或者安装有固化碳纤维软毡(105)。

6.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员:栗宁
申请(专利权)人:宁夏协鑫光伏科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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