【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光电测量，尤其涉及一种基于平面镜的快速非均匀校正装置及其校正方法。
技术介绍
1、大口径红外光电成像系统是靶场光测系统的重要组成部分，随着光电测控技术的不断发展以及未来精细化作战的需求，大口径红外光电成像系统对脱靶量测量、空间目标跟踪以及目标定姿定位具有重要的战略意义。大口径红外成像常常用于弱目标跟踪，非均匀性校正具有非常具有重要的意义。
2、非均匀性是红外制冷型探测器的固有属性，非均匀性在图像上表现为不规则条纹，非均匀性产生的原因十分复杂，在红外制冷型探测器生产制造过程很难完全消除，一般只能通过非均匀校正来改善探测器的性能。在外场使用时，通常采用两点校正系数进行非均匀性校正，利用辐射黑体向红外焦平面阵列提供两个不同的辐照度，测量红外焦平面阵列对两个不同辐照度的响应计算得出两个校正系数 k和 b，实现大口径红外成像的非均匀校正。
3、但大尺寸的辐射黑体制作工艺困难且价格昂贵，并且需要对辐射黑体进行升温，待温度稳定后才能实现...
【技术保护点】
1.一种基于平面镜的快速非均匀校正装置，其特征在于，包括平面镜、光学支架、红外制冷型探测器和冷阑；其中，所述平面镜与所述红外制冷型探测器同轴布置在大口径红外光电成像系统的两侧，所述平面镜可转动固定在所述光学支架上，使所述平面镜相对于所述大口径红外光电成像系统进行转动，将所述平面镜的非反射面涂黑作为高发射率面，将所述平面镜的反射面作为高反射率面；所述冷阑安装在所述红外制冷型探测器的表面；
2.根据权利要求1所述的基于平面镜的快速非均匀校正装置，其特征在于，在所述平面镜沿径向的两侧分别固定有旋转轴，在所述光学支架的筒臂内分别安装有与两个旋转轴相配合的轴承，在所...
【技术特征摘要】
1.一种基于平面镜的快速非均匀校正装置，其特征在于，包括平面镜、光学支架、红外制冷型探测器和冷阑；其中，所述平面镜与所述红外制冷型探测器同轴布置在大口径红外光电成像系统的两侧，所述平面镜可转动固定在所述光学支架上，使所述平面镜相对于所述大口径红外光电成像系统进行转动，将所述平面镜的非反射面涂黑作为高发射率面，将所述平面镜的反射面作为高反射率面；所述冷阑安装在所述红外制冷型探测器的表面；
...【专利技术属性】
技术研发人员：李霁，赵巨波，王昊，段金升，李周，吕瑶，韩璐，
申请(专利权)人：中国人民解放军九二九四一部队，
类型：发明
国别省市：
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