【技术实现步骤摘要】
本技术是有关于一种外观检测设备，特别是有关于一种电子元件的外观检测设备。
技术介绍
1、一般常见的电子元件外观检测设备大多是通过一供料装置将电子元件运送到一旋转盘上，然后再通过旋转盘将电子元件移动到镜头前取像以进行外观检测，接着则可再通过一集料装置收集检测过后的电子元件。
2、由于电子元件在运送到旋转盘的过程中容易产生落料歪斜或位置偏差等问题，因此在旋转盘的上方通常会设挡块，以避免电子元件偏离旋转盘上的特定位置，然而对于或位置偏移过远或重量较轻的料件而言，往往还是会产生电子元件定位不够精准的问题。
3、有鉴于此，如何设计出一种电子元件外观检测设备，以克服前述落料歪斜或位置偏差等问题始成为此
研发人员的一重要挑战。
技术实现思路
1、有鉴于前述习知问题点，本技术的一实施例提供一种外观检测设备，用以检测至少一电子元件，包括一基座、一旋转盘、一供料装置、一限位机构、多个取像装置、一第一磁性元件以及一第二磁性元件。前述旋转盘设置于前述基座上，并能够相对前述基座绕一中心轴旋转。前述供料装置设置于前述基座上，用以将前述电子元件运送到前述旋转盘上。前述限位机构设置于前述旋转盘的上侧，用以将前述电子元件定位于前述旋转盘上的一预设位置。前述取像装置设置于前述基座上，以撷取前述电子元件的影像。
2、前述第一磁性元件设置于前述旋转盘的下侧，其中前述第一磁性元件与前述电子元件之间产生一磁性吸引力。前述第二磁性元件，设置于前述旋转盘的上侧，其中前述第二磁性元件与前述
3、于一实施例中，前述外观检测设备还包括一支架，设置于前述基座上并且连接前述第二磁性元件。
4、于一实施例中，前述支架跨越前述旋转盘的一边缘。
5、于一实施例中，当沿前述中心轴方向观察时，前述第一磁性元件与前述第二磁性元件彼此不重叠。
6、于一实施例中，前述第二磁性元件的高度大于前述电子元件的高度。
7、于一实施例中，前述第二磁性元件具有一圆柱状结构。
8、于一实施例中，前述外观检测设备还包括固定于前述基座上的多个立柱，且前述取像装置分别设置于前述立柱上，用以撷取前述电子元件的影像。
9、于一实施例中，前述外观检测设备还包括连接前述供料装置的一下料轨道，且前述电子元件自前述供料装置沿着前述下料轨道运送到前述旋转盘上。
10、于一实施例中，中前述外观检测设备还包括一集料装置，设置于前述基座上，用以收集经检测后的前述电子元件。
11、于一实施例中，前述电子元件为可感磁元件。
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1.一种外观检测设备，其特征在于，用以检测至少一电子元件，包括：
2.如权利要求1所述的外观检测设备，其特征在于，该外观检测设备还包括一支架，设置于该基座上并且连接该第二磁性元件。
3.如权利要求2所述的外观检测设备，其特征在于，该支架跨越该旋转盘的一边缘。
4.如权利要求1所述的外观检测设备，其特征在于，当沿该中心轴方向观察时，该第一磁性元件与该第二磁性元件彼此不重叠。
5.如权利要求1所述的外观检测设备，其特征在于，该第二磁性元件的高度大于该电子元件的高度。
6.如权利要求1所述的外观检测设备，其特征在于，该第二磁性元件具有一圆柱状结构。
7.如权利要求1所述的外观检测设备，其特征在于，该外观检测设备还包括固定于该基座上的多个立柱，且所述多个取像装置分别设置于所述多个立柱上，用以撷取该电子元件的影像。
8.如权利要求1所述的外观检测设备，其特征在于，该外观检测设备还包括连接该供料装置的一下料轨道，且该电子元件自该供料装置沿着该下料轨道运送到该旋转盘上。
9.如权利要求1所述的外观检
10.如权利要求1所述的外观检测设备，其特征在于，该电子元件为一可感磁元件。
...【技术特征摘要】
1.一种外观检测设备，其特征在于，用以检测至少一电子元件，包括：
2.如权利要求1所述的外观检测设备，其特征在于，该外观检测设备还包括一支架，设置于该基座上并且连接该第二磁性元件。
3.如权利要求2所述的外观检测设备，其特征在于，该支架跨越该旋转盘的一边缘。
4.如权利要求1所述的外观检测设备，其特征在于，当沿该中心轴方向观察时，该第一磁性元件与该第二磁性元件彼此不重叠。
5.如权利要求1所述的外观检测设备，其特征在于，该第二磁性元件的高度大于该电子元件的高度。
6.如权利要求1所述的外观检测设备，其特征在于，该第二磁性元件具...
【专利技术属性】
技术研发人员：张仁明，陈正锴，卢冠妤，蔡竣宇，
申请(专利权)人：台达电子工业股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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