【技术实现步骤摘要】
本申请涉及显示领域，具体涉及一种沉积装置、沉积方法以及显示面板。
技术介绍
1、传统显示面板的制程中会采用等离子增强化学气相沉积(pecvd)制程工艺，在此过程中会使用特气，在射频(rf)电源以及高温低压环境下，产生等离子沉积气体，在玻璃基板表面沉积出需要的半导体特性薄膜，由于在反应腔室中使用传统的框架结构使玻璃基板边缘(edge)部位出现15毫米左右的非成膜区域，即此区域被框架覆盖从而没有沉积膜产生，则这部分为无效区域，其下方玻璃基板并没有被利用，既影响产品的边缘设计，又因为构成部件过多容易产生更多的灰尘，进一步影响产品的良率。
技术实现思路
1、本申请的目的在于，提供一种沉积装置、沉积方法以及显示面板，可以解决现有技术中玻璃基板上表面并不能全部沉积膜层进而导致其利用率低下等技术问题。
2、为实现上述目的，本申请提供一种沉积装置，包括：机台，包括机台本体以及凸出于所述机台本体的凸起部；以及框架，设于所述机台上且与所述机台相对设置；其中，所述框架包括框架本体，所述框架本体上设有通孔，所述机台的所述凸起部设于所述通孔内并凸出于所述通孔。
3、进一步地，所述框架本体包括一体成型的第一本体部以及第二本体部；所述第一本体部搭接至所述机台的所述机台本体上；所述第二本体部设于所述机台本体远离所述凸出部的一侧，且所述第二本体部与所述机台本体之间具有间隙。
4、进一步地，在垂直于所述机台本体的方向上，所述第一本体部的高度小于所述机台的所述凸起部的高度。
<...【技术保护点】
1.一种沉积装置，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的沉积装置，其特征在于，
3.如权利要求2所述的沉积装置，其特征在于，
4.如权利要求2所述的沉积装置，其特征在于，
5.如权利要求1所述的沉积装置，其特征在于，
6.如权利要求5所述的沉积装置，其特征在于，
7.如权利要求5所述的沉积装置，其特征在于，
8.如权利要求5所述的沉积装置，其特征在于，
9.一种沉积方法，其特征在于，包括以下步骤：
10.一种显示面板，其特征在于，包括：
【技术特征摘要】
1.一种沉积装置，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的沉积装置，其特征在于，
3.如权利要求2所述的沉积装置，其特征在于，
4.如权利要求2所述的沉积装置，其特征在于，
5.如权利要求1所述的沉积装置，其特征在于，
...【专利技术属性】
技术研发人员：隽杨杨，
申请(专利权)人：苏州华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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