【技术实现步骤摘要】
本申请涉及背投光学成像膜的，尤其涉及一种线性抗光背投光学成像膜。
技术介绍
1、背投光学成像膜是一种用于投影系统的薄膜光学成像膜，通常放置在投影机的光源和投影屏幕之间，也可以贴在玻璃及透明亚克力板上使用。这种薄膜具有广泛的应用范围，不仅可以用于商业展示、教育培训等领域，也可以用于家庭娱乐、会议演讲等场合。
2、目前，现有的背投光学成像膜存在一些问题。首先，它们通常无法有效抵抗环境光的影响，这可能导致成像不清晰，并且观看效果较差。这意味着用户无法充分展示、演示或广告内容。其次，它们通常只能实现单面成像，无法实现双面成像，这在某些场景下限制了其应用范围。
技术实现思路
1、本申请旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。
2、为此，本申请的一个目的在于提供一种线性抗光背投光学成像膜，不仅能够双面成像，而且能够对投影机的光源进行定向折射，起到抗光的效果，使得成像效果更加清晰且色彩鲜艳。
3、为达到上述目的，本申请第一方面实施例提出了一种线性抗光背投光学成像膜，包括基材层、第一附着力促进底涂层、第二附着力促进底涂层、线性光栅层和成像层，其中，所述基材层一侧面设有第一附着力促进底涂层，另一侧面设有第二附着力促进底涂层，所述线性光栅层设置在所述第一附着力促进底涂层上，所述成像层设置在所述第二附着力促进底涂层上；其中，所述基材层，用于通过所述第一附着力促进底涂层和所述第二附着力促进底涂层以对所述线性光栅层和所述成像层进行一体化承载，且可透光；所述成像层
4、本申请实施例的线性抗光背投光学成像膜，不仅能够双面成像，而且能够对投影机的光源进行定向折射，起到抗光的效果，使得成像效果更加清晰且色彩鲜艳。
5、另外，根据本申请上述提出的线性抗光背投光学成像膜还可以具有如下附加的技术特征：
6、在本申请的一个实施例中,所述成像层包括主成像层和防眩光层，其中，所述主成像层设置在所述第二附着力促进底涂层上，用于清晰且色彩鲜艳的成像；所述防眩光层设置在所述主成像层上，用于对投影机的光源进行均匀散射，并对环境光导致的眩光进行消除。
7、在本申请的一个实施例中,所述基材层为光学级bopet(biaxially orientedpolyethylene terephthalate，双向拉伸聚酯薄膜)基材层，其厚度为100μm。
8、在本申请的一个实施例中,所述第一附着力促进底涂层和所述第二附着力促进底涂层均为水性环保底涂。
9、在本申请的一个实施例中,所述线性光栅层为高透光学级透明材质，颜色呈透明偏灰，且光栅剖面角度为45°，呈等腰三角形。
10、在本申请的一个实施例中,所述高透光学级透明材质中添加有nm(nanometre，纳米)级黑色浆，添加量为0.2％-0.5％。
11、在本申请的一个实施例中,所述主成像层中添加有nm级二氧化钛，nm级二氧化硅，nm级黑色浆，且调整透光率为15％-25％，调整雾度为55％-70％。
12、在本申请的一个实施例中,所述防眩光层为光学级透明材质，其表面为nm级微结构，且调整透光率为75％-85％，调整雾度为25％-30％。
13、本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。
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1.一种线性抗光背投光学成像膜，其特征在于，包括基材层、第一附着力促进底涂层、第二附着力促进底涂层、线性光栅层和成像层，其中，
2.根据权利要求1所述的线性抗光背投光学成像膜，其特征在于，所述成像层包括主成像层和防眩光层，其中，
3.根据权利要求1所述的线性抗光背投光学成像膜，其特征在于，所述基材层为光学级BOPET基材层，其厚度为100μm。
4.根据权利要求1所述的线性抗光背投光学成像膜，其特征在于，所述第一附着力促进底涂层和所述第二附着力促进底涂层均为水性环保底涂。
5.根据权利要求1所述的线性抗光背投光学成像膜，其特征在于，所述线性光栅层为高透光学级透明材质，颜色呈透明偏灰，且光栅剖面角度为45°，呈等腰三角形。
6.根据权利要求5所述的线性抗光背投光学成像膜，其特征在于，所述高透光学级透明材质中添加有nm级黑色浆，添加量为0.2％-0.5％。
7.根据权利要求2所述的线性抗光背投光学成像膜，其特征在于，所述主成像层中添加有nm级二氧化钛，nm级二氧化硅，nm级黑色浆，且调整透光率为15％-25％，调
8.根据权利要求2所述的线性抗光背投光学成像膜，其特征在于，所述防眩光层为光学级透明材质，其表面为nm级微结构，且调整透光率为75％-85％，调整雾度为25％-30％。
...【技术特征摘要】
1.一种线性抗光背投光学成像膜，其特征在于，包括基材层、第一附着力促进底涂层、第二附着力促进底涂层、线性光栅层和成像层，其中，
2.根据权利要求1所述的线性抗光背投光学成像膜，其特征在于，所述成像层包括主成像层和防眩光层，其中，
3.根据权利要求1所述的线性抗光背投光学成像膜，其特征在于，所述基材层为光学级bopet基材层，其厚度为100μm。
4.根据权利要求1所述的线性抗光背投光学成像膜，其特征在于，所述第一附着力促进底涂层和所述第二附着力促进底涂层均为水性环保底涂。
5.根据权利要求1所述的线性抗光背投光学成像膜，其特征在于，所述线性光栅层...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘太龙，张保平，纪诺，
申请(专利权)人：中科宝溢视觉科技江苏有限公司，
类型：发明
国别省市：
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