【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于玻璃熔制，特别涉及一种高铝盖板玻璃的熔化澄清池窑及融化澄清方法。
技术介绍
1、高铝盖板玻璃通常应用于触摸屏的盖板，如智能手机、平板电脑等。近年来，随着智能显示行业的不断扩大，特别是智能手机的不断进步，高铝盖板玻璃得到突飞猛进的发展，该类玻璃的高透光性、抗刮擦和硬度等性能突出，目前已经成为电子显示行业不能缺少的基础材料，具有重要的作用。
2、高铝盖板玻璃中三氧化二铝含量高达13wt％以上，三氧化二铝能够增加玻璃的强度，提高玻璃的韧性，在玻璃熔体中倾向于形成铝氧四面体，和硅氧四面体一起共同构成玻璃网络的主体，而高铝盖板玻璃在1600℃的电阻率不超过4ω·cm，与同温度下的无碱tft显示玻璃比，电阻率低2倍以上，显然，若复制tft玻璃熔化澄清工艺在高铝盖板玻璃熔化品质上难以取得突破，造成已有池窑结构及工艺生产良品率不高，熔化澄清效果欠佳，玻璃中的气泡数较高的问题。
技术实现思路
1、为此，需要提供一种高铝盖板玻璃的熔化澄清池窑及融化澄清方法，以解决现有技术中已有池窑结...
【技术保护点】
1.一种高铝盖板玻璃的融化澄清池窑，其特征在于，包括池窑本体、鼓泡器和窑坎；
2.根据权利要求1所述的高铝盖板玻璃的融化澄清池窑，其特征在于，所述电极垂直于物料输送通道的输送方向设置。
3.根据权利要求2所述的高铝盖板玻璃的融化澄清池窑，其特征在于，位于池底的电极和位于池壁的电极的垂直方向交点之间的间距为1.5米～2.5米。
4.根据权利要求1所述的高铝盖板玻璃的融化澄清池窑，其特征在于，所述电极为板状钼电极。
5.根据权利要求1所述的高铝盖板玻璃的融化澄清池窑，其特征在于，所述窑坎的高度为所在位置朝向前墙方向池窑本体高...
【技术特征摘要】
1.一种高铝盖板玻璃的融化澄清池窑，其特征在于，包括池窑本体、鼓泡器和窑坎；
2.根据权利要求1所述的高铝盖板玻璃的融化澄清池窑，其特征在于，所述电极垂直于物料输送通道的输送方向设置。
3.根据权利要求2所述的高铝盖板玻璃的融化澄清池窑，其特征在于，位于池底的电极和位于池壁的电极的垂直方向交点之间的间距为1.5米～2.5米。
4.根据权利要求1所述的高铝盖板玻璃的融化澄清池窑，其特征在于，所述电极为板状钼电极。
5.根据权利要求1所述的高铝盖板玻璃的融化澄清池窑，其特征在于，所述窑坎的高度为所在位置朝向前墙方向池窑本体高度的1/2～2/3，且所述窑坎朝向后墙的池深比窑坎朝向前墙方向的池深浅100毫米～200毫米。
6.根据权利要求1所述的高铝盖板玻璃的融化澄清池窑，其特征在于，所...
【专利技术属性】
技术研发人员：韩广军，王建，张伟，张辉，吴杰，张军，
申请(专利权)人：福州彦丰新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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