【技术实现步骤摘要】
本公开实施例涉及刻蚀，更具体地，本公开实施例涉及一种刻蚀工艺对准方法、装置、电子设备及介质。
技术介绍
1、表面浮雕光栅(slanted surface relief grating，srg)结构，作为波导耦入、转折、耦出元件，被广泛的应用于增强现实(augmented reality，ar)设备中，通过调整光栅结构的周期、线宽、角度，可以使光产生衍射并按照设计的方向传播，光栅结构的精度决定了设备的光学性能。
2、相关技术中，光栅结构主要通过电子束曝光或纳米压印的方式实现图形化转移，再经过刻蚀使得结构层出现特定的结构。在刻蚀工艺过程中，为了提高刻蚀的均匀性，通常会采用比样片更大尺寸的腔体设备，将样片贴在与腔体匹配的衬片中心。工艺参数确定后，需要将正式片的刻蚀结构区域放置在与样片相同的位置。然而，现有的刻蚀方式无法保证刻蚀位置的一致性，使得在刻蚀不同正式片时不能将该正式片放置在正确的刻蚀位置，导致刻蚀重复性差，严重影响了刻蚀的精度，进而影响光栅结构的精度以及设备的光学性能。
技术实现思路p>
1、本公开本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种刻蚀工艺对准方法，其特征在于，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括确定所述衬片的中心，
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述衬片为圆形衬片。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述样片为硅片。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述透明对象为石英片或者玻璃片。
6.一种刻蚀工艺对准装置，其特征在于，所述装置包括：
7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述装置还包括确定模块，用于：
8.根据权利要求6所述的装置，...
【技术特征摘要】
1.一种刻蚀工艺对准方法，其特征在于，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括确定所述衬片的中心，
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述衬片为圆形衬片。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述样片为硅片。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述透明对象为石英片或者玻璃片。
6.一种刻蚀工艺对准装...
【专利技术属性】
技术研发人员：连高歌，代杰，金成滨，
申请(专利权)人：潍坊歌尔电子有限公司，
类型：发明
国别省市：
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