温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本公开实施例公开了一种刻蚀工艺对准方法、装置、电子设备及介质，该刻蚀工艺对准方法包括：在样片上曝光正式片的布局结构图并刻蚀所述样片；将所述样片上刻蚀的布局结构转印在透明对象上；其中，所述透明对象、所述样片和所述正式片具有相同的大小和形状；基...
该专利属于潍坊歌尔电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过潍坊歌尔电子有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。