【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及晶圆加工领域，具体地说是一种干式抛光装置。
技术介绍
1、晶圆切割成型后，需通过减薄机去除晶圆背面的多余材料，从而减小晶圆封装体积、降低热阻、提高器件的散热性能。目前，减薄机的磨具主要为金刚石磨轮，金刚石磨轮磨削利用磨粒的微切削作用去除材料，其不可避免地会在晶圆表面和亚表面产生损伤层。此外，由于金刚石磨轮表面的磨粒出刃高度不一致，磨削过程中容易在晶圆表面留下微小裂痕以及分布不均匀的磨痕。因此，采用刚石磨轮完成对晶圆的磨削减薄后，还需要对晶圆实施抛光处理以去除晶圆表面和亚表面上的损伤，以消除应力，最终获得光滑的无损伤表面。
2、目前抛光工艺主要有slurry(化学研磨液)抛光、湿式蚀刻、干式抛光等。slurry抛光是利用化学和机械复合作用去除材料，slurry抛光过程中，化学研磨液在抛光垫上均匀分布，从而与晶圆表面材料接触并进行化学反应，使晶圆表面的损伤层形成腐蚀层，同时抛光头旋转，使晶圆材料与抛光垫之间发生摩擦，及时将晶圆表面的腐蚀层去除。湿法蚀刻是将晶圆浸入酸性化学溶液(如hn03/hf/hp04)中，通过化学反应去除晶圆表层材料。干式抛光则采用抛光磨轮(一般由纤维和金属氧化物制成)对晶圆进行抛光，以去除硅晶圆表面应力。相比于slurry抛光和湿式蚀刻法，干式抛光无需采用化学试剂，其不仅降低了抛光成本，且不会带来环境污染问题。
3、干式抛光装置一般由晶圆承片台及设置在晶圆承片台上方的抛光磨轮构成。现有的干式抛光装置，其晶圆承片台固定不动，抛光磨轮下降抵靠至放置在晶圆承片台上的晶圆，以实施对
技术实现思路
1、为了解决上述技术问题，本专利技术提供了一种干式抛光装置，其详细技术方案如下：
2、一种干式抛光装置，其包括底座、支架、滑动安装板、平移驱动部、旋转支撑部、承载台、抛光轴及干抛轮，其中：
3、平移驱动部设置在底座上；
4、滑动安装板滑动连接在底座上并与平移驱动部的驱动端连接，平移驱动部用于驱动滑动安装板平移；
5、旋转支撑部安装在滑动安装板上，承载台以水平状态设置在旋转支撑部上，承载台用于承载晶圆，旋转支撑部用于驱动承载台旋转；
6、支架设置在底座上，抛光轴的上端安装在支架上，干抛轮连接在抛光轴的下端并位于承载台的上方，抛光轴用于带动干抛轮升降及旋转，使得干抛轮压紧在承载台上的晶圆上，以及对晶圆实施抛光。
7、本专利技术提供的干式抛光装置，干抛轮在实施对承载台上的晶圆实施抛光时，平移驱动部能够驱动承载台给进，从而带动晶圆相对于干抛轮给进，从而提升干抛轮对晶圆的抛光均匀度，最终提升所获得的晶圆抛光面的光滑度。此外，干抛轮在实施对晶圆的旋转抛光时，旋转支撑部可同时驱动承载台反向旋转，从而进一步提升干抛轮的抛光效果。
8、在一些实施例中，底座上设置有滑轨，滑动安装板经滑块滑动连接在滑轨上。
9、通过在底座上设置滑轨，实现了对滑动安装板的滑动导向，防止滑动安装板走偏。
10、在一些实施例中，平移驱动部包括丝杆电机、联轴器、丝杆、丝杆座及丝杆螺母，其中：丝杆电机设置在底座上并位于滑动安装板的第一侧，丝杆座设置在底座上并位于滑动安装板的第二侧；丝杆的第一端经联轴器连接在丝杆电机的动力输出轴上，丝杆的第二端可转动地连接在丝杆座上；丝杆螺母螺接在丝杆上并固定连接在滑动安装板的底部。
11、提供了一种结构简单、驱动稳定的平移驱动部，其可确保承载台在抛光过程中平稳地给进平移。
12、在一些实施例中，旋转支撑部包括轴座及旋转轴，其中，轴座固定安装在滑动安装板上，旋转轴安装在轴座上，承载台以水平状态连接在旋转轴的顶部，旋转轴旋转时带动承载台转动；干式抛光装置还包括设置在轴座与旋转轴之间的压力传感器，压力传感器与抛光轴信号连接，压力传感器用于检测轴座与旋转轴之间的压力值，以及将压力值发送给抛光轴，抛光轴基于压力值调整干抛轮的下降高度。
13、通过在轴座与旋转轴之间设置压力传感器，实现了对抛光压力的实时监控，从而使得抛光轴能够根据抛光压力实施对干抛轮的下降高度的灵活调节，确保干抛轮以合适的压力压紧在晶圆的抛光面上。
14、在一些实施例中，承载台上设置有用于吸附固定晶圆的吸附孔。
15、通过在承载台上设置吸附孔，使得晶圆在抛光过程中被吸附固定在承载台上，确保干抛轮顺利实施抛光操作。
16、在一些实施例中，抛光轴包括轴承座、转动轴组件及驱动部，其中，轴承座连接在支架上，转动轴组件可转动地安装在轴承座上并与驱动部传动连接，干抛轮连接在转动轴组件的下端，驱动部用于驱动转动轴组件相对于轴承座升降及旋转，轴承座内还设置有冷却水道。
17、通过在抛光轴的轴承座内设置冷却水道，实现了对抛光轴和干抛轮的降温冷却，防止抛光轴和干抛轮温度过高产生热变形。
18、在一些实施例中，干式抛光装置还包括连接在承载台侧壁上的修整部，修整部用于修整干抛轮。
19、通过在承载台侧壁上设置修整部，无需将干抛轮从抛光轴上卸下实施离线修整。当需要实施对干抛轮的修整时，首先通过平移驱动部驱动修整部平移至修整部的下方，然后通过抛光轴驱动干抛轮下降至与修整部抵触，随后通过抛光轴驱动干抛轮旋转，即可实施对干抛轮的在线修整。
20、在一些实施例中，修整部包括连接板、升降驱动部、支撑板及修整器，其中：连接板的第一端连接在承载台的侧壁上，升降驱动部安装在连接板的第二端上；支撑板呈水平状态连接在升降驱动部的驱动端上，修整器安装在支撑板上，升降驱动部用于驱动支撑板升降，以带动修整器在避让低位和修整高位之间切换；修整器上升至修整高位时，向上伸出承载台；修整器下降至避让低位时，回到承载台的下方。
21、常态下，修整器保持在承载台的下方以避让干抛轮，使得干抛轮能够顺利地实施对晶圆的抛光操作。当需要实施对干抛轮的修整时，修整器向上伸出承载台，从而使得干抛轮下降时能抵接在修整器上。
22、在一些实施例中，支撑板内设置有冷却介质喷射组件，支撑板上设有冷却孔，冷却喷射组件被配置为在修整过程中经冷却孔将冷却介质喷射至干抛轮，以实施对干抛轮和修整器的冷却降温，冷却介质为冷却气体或冷却水。
23、通过在支撑板内设置冷却介质喷射组件，实现了在修整过程中对干抛轮和修整器的冷却降温，且能够及时清洗掉修整过程中产生的杂质。
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1.一种干式抛光装置，其特征在于，所述干式抛光装置包括底座、支架、滑动安装板、平移驱动部、旋转支撑部、承载台、抛光轴及干抛轮，其中：
2.如权利要求1所述的干式抛光装置，其特征在于，所述底座上设置有滑轨，所述滑动安装板经滑块滑动连接在所述滑轨上。
3.如权利要求1所述的干式抛光装置，其特征在于，所述平移驱动部包括丝杆电机、联轴器、丝杆、丝杆座及丝杆螺母，其中：
4.如权利要求1所述的干式抛光装置，其特征在于，所述旋转支撑部包括轴座及旋转轴，其中，所述轴座固定安装在所述滑动安装板上，所述旋转轴安装在所述轴座上，所述承载台以水平状态连接在所述旋转轴的顶部，所述旋转轴旋转时带动所述承载台转动；
5.如权利要求1所述的干式抛光装置，其特征在于，所述承载台上设置有用于吸附固定晶圆的吸附孔。
6.如权利要求1所述的干式抛光装置，其特征在于，所述抛光轴包括轴承座、转动轴组件及驱动部，其中，所述轴承座连接在所述支架上，所述转动轴组件可转动地安装在所述轴承座上并与驱动部传动连接，所述干抛轮连接在所述转动轴组件的下端，所述驱动部用于驱动所述
7.如权利要求1所述的干式抛光装置，其特征在于，所述干式抛光装置还包括连接在承载台侧壁上的修整部，所述修整部用于修整所述干抛轮。
8.如权利要求7所述的干式抛光装置，其特征在于，所述修整部包括连接板、升降驱动部、支撑板及修整器，其中：
9.如权利要求8所述的干式抛光装置，其特征在于，所述撑板内设置有冷却介质喷射组件，所述支撑板上设有冷却孔，所述冷却喷射组件被配置为在修整过程中经所述冷却孔将冷却介质喷射至所述干抛轮，以实施对所述干抛轮和所述修整器的冷却降温，所述冷却介质为冷却气体或冷却水。
...【技术特征摘要】
1.一种干式抛光装置，其特征在于，所述干式抛光装置包括底座、支架、滑动安装板、平移驱动部、旋转支撑部、承载台、抛光轴及干抛轮，其中：
2.如权利要求1所述的干式抛光装置，其特征在于，所述底座上设置有滑轨，所述滑动安装板经滑块滑动连接在所述滑轨上。
3.如权利要求1所述的干式抛光装置，其特征在于，所述平移驱动部包括丝杆电机、联轴器、丝杆、丝杆座及丝杆螺母，其中：
4.如权利要求1所述的干式抛光装置，其特征在于，所述旋转支撑部包括轴座及旋转轴，其中，所述轴座固定安装在所述滑动安装板上，所述旋转轴安装在所述轴座上，所述承载台以水平状态连接在所述旋转轴的顶部，所述旋转轴旋转时带动所述承载台转动；
5.如权利要求1所述的干式抛光装置，其特征在于，所述承载台上设置有用于吸附固定晶圆的吸附孔。
6.如权利要求1所述的干式抛光装置，其特征在于，...
【专利技术属性】
技术研发人员：李远航，贺东葛，衣忠波，
申请(专利权)人：北京中电科电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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