一种显影装置、显影方法及涂胶显影系统制造方法及图纸

本申请实施例提供一种显影装置、显影方法及涂胶显影系统。涉及半导体制造设备技术领域。主要提供一种克服关键尺寸不均匀的显影装置。该显影装置包括喷淋盘、控制器和多个显影液控制开关；喷淋盘内形成有显影液喷淋腔和去离子水喷淋腔，喷淋盘形成有与显影液喷淋腔连通的多个显影液喷淋孔，和与去离子水喷淋腔相连通的多个去离子水喷淋孔，每一个显影液喷淋孔的外围为去离子水喷淋孔，每一个去离子水的外围为显影液喷淋孔；多个显影液控制开关均与控制器电连接，多个显影液喷淋孔中的任一显影液喷淋孔处均设置有显影液控制开关，控制器用于调节显影液喷淋孔的喷淋流量和/或喷淋时间。也就是，可以通过分区域控制显影液，以使得关键尺寸均匀化。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

技术介绍

技术实现思路

【技术保护点】

PCT国内申请，权利要求书已公开。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

pct国内申请，权...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁文旭，黄海超，朱伟骅，刘燕翔，
申请(专利权)人：华为技术有限公司，
类型：发明
国别省市：