【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学元件清洗，具体涉及一种光学元件超声波清洗方法。
技术介绍
1、利用超声波清洗设备对光学元件进行超声波清洗，超声波清洗设备中的各槽体固有超声波频率存在差异，导致各槽体清洗能力有所区别。通过查询超声波清洗设备相关资料介绍，低频槽体清洗作业时穿透力下降但是清洗空化能力更好，高频槽清洗作业时穿透能力更好，但是空化效果较差。光学元件在清洗过程中，空化效应会对光学元件表面产生轰击，如果光学元件表面能量过于集中就会对光学元件造成损伤。
2、另外，针对曲率半径较大的透镜，由于超声波振动发生器位置固定在槽体左右两侧，在超声波清洗过程中透镜上各点位到振子距离不同，导致各位置接收到超声波能量具有差异。如果透镜弯曲度过大，中心位置可能造成表面损伤，继而导致产品降级。
技术实现思路
1、为了降低超声波能量对光学元件表面造成的化学腐蚀和物理损伤，本申请提供一种光学元件超声波清洗方法，根据光学元件的面型、材质及各清洗槽固有超声波频率的不同和ph值的差异，制定不同的清洗工艺参数，减少超声波能...
【技术保护点】
1.一种光学元件超声波清洗方法，其特征在于，利用超声波清洗设备对光学元件进行超声波清洗，所述超声波清洗设备包括装有药剂的第一清洗槽和第二清洗槽、装有纯水的第三清洗槽、第四清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽、第七清洗槽、第八清洗槽和第九清洗槽；其中，所述第一清洗槽和第二清洗槽对光学元件进行超声波清洗，所述第三清洗槽、第四清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽和第七清洗槽对光学元件进行超声波漂洗，所述第八清洗槽对光学元件进行超声波核能级过滤漂洗，所述第九清洗槽对光学元件进行脱水；所述超声波清洗方法包括步骤：
2.如权利要求1所述的光学元件超声波清洗方法，其特征在于，所述第...
【技术特征摘要】
1.一种光学元件超声波清洗方法，其特征在于，利用超声波清洗设备对光学元件进行超声波清洗，所述超声波清洗设备包括装有药剂的第一清洗槽和第二清洗槽、装有纯水的第三清洗槽、第四清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽、第七清洗槽、第八清洗槽和第九清洗槽；其中，所述第一清洗槽和第二清洗槽对光学元件进行超声波清洗，所述第三清洗槽、第四清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽和第七清洗槽对光学元件进行超声波漂洗，所述第八清洗槽对光学元件进行超声波核能级过滤漂洗，所述第九清洗槽对光学元件进行脱水；所述超声波清洗方法包括步骤：
2.如权利要求1所述的光学元件超声波清洗方法，其特征在于，所述第一清洗槽、第五清洗槽分别为低频率清洗槽，所述第二清洗槽、第六清洗槽分别为中频率清洗槽，所述第三清洗槽、第四清洗槽、第七清洗槽、第八清洗槽分别为高频率清洗槽。
3.如权利要求2所述的光学元件超声波清洗方法，其特征在于，所述待清洗光学元件为透镜，所述选择的清洗槽包括第二清洗槽、第三清洗槽、第四清洗槽、第五清洗槽、第六清洗槽、第七清洗槽、第八清洗槽和第九清洗槽。
4.如权利要求3所述的光学元件超声波清洗方法，其特征在于，所述待清...
【专利技术属性】
技术研发人员：孔穿石，何虎，汪美辰，高远，
申请(专利权)人：上海镭望光学科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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