【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学元件，具体涉及产生平顶高斯分布光场的光学组件设计方法及光学组件。
技术介绍
1、先进深紫外曝光为了获得更好的曝光效果，需要照明系统输出高质量光场，其强度分布为x向平顶分布，y向高斯分布。
2、传统微柱面阵列仅能产生平顶光场，不具备产生高斯光场能力，若引入额外的随机散射片用于产生高斯光场，则会提高成本且额外占用系统空间。
3、另一方面传统微柱面镜内部聚焦位置的高功率密度有可能超过材料损伤阈值，造成光学元器件的损坏。
4、为了获得x向均匀的平顶光场，cn102375238b专利技术《均匀照明的微柱面镜阵列及其设计方法》，提供了一种用于紫外曝光照明系统产生y和x方向的均匀光强分布的微柱面镜阵列。cn102375238b的专利技术专利由母线方向沿x向和y向分布的两片双面微柱面镜阵列组成，存在问题是：光束在第二片微柱面镜阵列中聚焦产生x向极窄的焦斑，该处能量密度极高，可能会损坏镜片材料。其次，该方案为了实现较好的匀光效果和远心性能，需要将两片微镜阵列靠得足够近，这对实际生产过程中的装配环节提出...
【技术保护点】
1.一种产生平顶高斯分布光场的光学组件设计方法，其特征在于，所述光学组件包括第一光学基底、第二光学基底和第三光学基底，所述光学组件设计方法包括步骤：
2.如权利要求1所述的光学组件设计方法，其特征在于，所述设计第一光学基底入光表面，具体包括：设计第一光学基底入光表面的微结构，通过所述微结构降低第二光学基底中聚焦位置处的能量密度。
3.如权利要求2所述的光学组件设计方法，其特征在于，所述设计第一光学基底入光表面的微结构，具体包括：
4.如权利要求1所述的光学组件设计方法，其特征在于，设计所述第一光学基底出光表面和第二光学基底入光表面，...
【技术特征摘要】
1.一种产生平顶高斯分布光场的光学组件设计方法，其特征在于，所述光学组件包括第一光学基底、第二光学基底和第三光学基底，所述光学组件设计方法包括步骤：
2.如权利要求1所述的光学组件设计方法，其特征在于，所述设计第一光学基底入光表面，具体包括：设计第一光学基底入光表面的微结构，通过所述微结构降低第二光学基底中聚焦位置处的能量密度。
3.如权利要求2所述的光学组件设计方法，其特征在于，所述设计第一光学基底入光表面的微结构，具体包括：
4.如权利要求1所述的光学组件设计方法，其特征在于，设计所述第一光学基底出光表面和第二光学基底入光表面，具体包括：设计第一光学基底出光表面的微结构和第二光学基底入光表面的微结构，通过第一光学基底出光表面微结构和第二光学基底入光表面微结构的配合提供x方向的均匀化光场。
5.如权利要求4所述的光学组件设计方法，其特征在于，所述设计第一光学基底出光表面的微结构和第二光学基底入光表面的微结构，具体包括：
6.如权利要求1所述的光学组...
【专利技术属性】
技术研发人员：李润丰，张方，辛保云，
申请(专利权)人：上海镭望光学科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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