【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于铆钉型电触头加工处理领域，具体涉及一种基于涡流抛光降低铆钉型电触头表面粗糙度的方法。
技术介绍
1、铆钉电触头材料应用于各种继电器、断路器、接触器、温控器，是影响开关电气触头系统工作可靠性的重要因素。
2、现有铆钉电触头制备工艺一般包含制打、研磨、去油、退火、酸洗、抛光等工序，本专利技术人通过深入分析研究发现，铆钉电触头在制打完成后经过常规的抛光方式处理后触点表面较为粗糙，从而会影响接触电阻不稳定而接触电阻的不稳定会直接导致产品的温升波动较大，因此如何降低触头表面接触电阻，并使触点拥有稳定的接触电阻是目前各触头产家关注及攻关的重点。
3、申请号为cn115781535a的中国专利技术专利公开了一种用于降低铆钉电触头表面粗糙度的磨料制备方法，但常规抛光后的铆钉型电触头依然无法满足客户需求。因此，研究如何优化降低铆钉型电触头表面粗糙度的方法，对提高铆钉型电触头产品质量具有十分重要的现实意义。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是为了克服现有技术存在的缺点和不足，从而提供一种基于涡流抛光降低铆钉型电触头表面粗糙度的方法。
2、为实现上述目的，本专利技术提供一种基于涡流抛光降低铆钉型电触头表面粗糙度的方法，包括如下步骤：将抛光液、待处理的铆钉型电触头、抛光磨料和涡流介质加入到涡流抛光机的抛光桶中，通过涡流介质的涡流状态作为抛光的主要动力使得铆钉型电触头与抛光磨料随着水的涡流运动产生相互的摩擦运动对待处理的铆钉型电触头进行抛光。
4、优选的，所述缓蚀剂为甲基苯骈三氮唑。
5、优选的，所述表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠。
6、优选的，所述有机酸为柠檬酸。
7、优选的，所述抛光磨料包括以下组分，以质量分数计：
8、氧化铝60-150份，
9、氧化锆80-100份，
10、氧化钇30-80份，
11、氧化铬10-30份。
12、优选的，所述涡流介质为水。
13、优选的，所述涡流抛光机的参数为：时间10-20 min，频率300r/min-500r/min。
14、本专利技术有益效果是：
15、（1）本专利技术创新地将涡流抛光用于降低铆钉型电触头表面的粗糙度，通过水的涡流状态作为抛光的主要动力使得铆钉型电触头与抛光磨料随着水的涡流运动产生相互的摩擦运动，从而达到降低铆钉型电触头表面粗糙度的功效；
16、（2）基于可调电机，根据工作的需要随时调整电机的速度，带动工作容器内的节盘作水平的旋转，进而带动工作容器内的研磨物和水产生涡流式转动，从而达到降低铆钉型电触头表面粗糙度的功效；
17、（3）本专利技术方法对抛光磨料配方进行了进一步的改进，与涡流抛光结合后，极大地降低了铆钉电触头的表面粗糙度，相较于传统的抛光方式，具有非常突出的表面处理效果，可以极大提高铆钉电触头表面光滑程度，从而减少铜粉、异物附着，使其抛光后铆钉电触头表面形貌一致，进而使其在接触时更贴合，进而改善铆钉电触头的接触电阻。
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1.一种基于涡流抛光降低铆钉型电触头表面粗糙度的方法，其特征在于，包括如下步骤：将抛光液、待处理的铆钉型电触头、抛光磨料和涡流介质加入到涡流抛光机的抛光桶中，通过涡流介质的涡流状态作为抛光的主要动力使得铆钉型电触头与抛光磨料随着水的涡流运动产生相互的摩擦运动对待处理的铆钉型电触头进行抛光。
2.根据权利要求1所述的一种基于涡流抛光降低铆钉型电触头表面粗糙度的方法，其特征在于，所述抛光液包括以下组分：缓蚀剂10g~15g，表面活性剂10g~20g，有机酸50ml-60ml。
3.根据权利要求2所述的一种基于涡流抛光降低铆钉型电触头表面粗糙度的方法，其特征在于，所述缓蚀剂为甲基苯骈三氮唑。
4.根据权利要求2所述的一种基于涡流抛光降低铆钉型电触头表面粗糙度的方法，其特征在于：所述表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠。
5.根据权利要求2所述的一种基于涡流抛光降低铆钉型电触头表面粗糙度的方法，其特征在于：所述有机酸为柠檬酸。
6.根据权利要求1所述的一种基于涡流抛光降低铆钉型电触头表面粗糙度的方法，其特征在于：所述抛光磨料包括以下组分
7.根据权利要求1所述的一种基于涡流抛光降低铆钉型电触头表面粗糙度的方法，其特征在于：所述涡流介质为水。
8.根据权利要求1-7任一项所述的一种基于涡流抛光降低铆钉型电触头表面粗糙度的方法，其特征在于，所述涡流抛光机的参数为：时间10-20 min，频率300r/min-500r/min。
...【技术特征摘要】
1.一种基于涡流抛光降低铆钉型电触头表面粗糙度的方法，其特征在于，包括如下步骤：将抛光液、待处理的铆钉型电触头、抛光磨料和涡流介质加入到涡流抛光机的抛光桶中，通过涡流介质的涡流状态作为抛光的主要动力使得铆钉型电触头与抛光磨料随着水的涡流运动产生相互的摩擦运动对待处理的铆钉型电触头进行抛光。
2.根据权利要求1所述的一种基于涡流抛光降低铆钉型电触头表面粗糙度的方法，其特征在于，所述抛光液包括以下组分：缓蚀剂10g~15g，表面活性剂10g~20g，有机酸50ml-60ml。
3.根据权利要求2所述的一种基于涡流抛光降低铆钉型电触头表面粗糙度的方法，其特征在于，所述缓蚀剂为甲基苯骈三氮唑。
4.根据权利要求2所述的一种基于涡...
【专利技术属性】
技术研发人员：颜凝，马四平，叶俊凯，缪循晓，万鑫鹏，黄文明，
申请(专利权)人：浙江福达合金材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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