一种低反射率低透过率LOW-E镀膜玻璃及中空玻璃制造技术

本技术公开一种低反射率低透过率LOW‑E镀膜玻璃及中空玻璃，其中，该低反射率低透过率LOW‑E镀膜玻璃，包括玻璃基片，还包括从内向外依次层叠在所述玻璃基片表面上的第一电介质层、第一阻挡层、第一功能层、第二功能层、第二阻挡层和第二电介质层。本技术技术方案通过采用上述膜层结构，得到的LOW‑E镀膜玻璃减少了金色单银low‑e幕墙玻璃对周围的光污染，可见光室外反射率20‑30％，辐射率在0.08‑0.09，有良好的节能性能。本技术还具有优良的抗机械性能，可满足大批量化生产，在美观和节能上均表现良好。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及镀膜玻璃，具体为一种低反射率低透过率low-e镀膜玻璃及中空玻璃。

技术介绍

1、玻璃由于其良好的热学性能被广泛的应用。其中金色幕墙玻璃在整个幕墙颜色选色中也占有一席之地。金色幕墙普遍是高反低透，一般用于酒店或者地表等需要宣传的建筑上。普通的低辐射镀膜玻璃已经不能满足许多地区对玻璃节能方面的需求，特别是为了减少光污染，按照最新的国家标准，现在所有的墙窗玻璃反射率必须控制在30％以下。

2、现有技术的镀膜玻璃大多为高反射率低透过率。镀膜玻璃的反射和透过往往成反比，也就是说反射高时透过低，反射低时透过高。

技术实现思路

1、本技术的主要目的是提供一种低反射率低透过率low-e镀膜玻璃，旨在解决现有技术中的镀膜玻璃高反射率低透过率的技术问题。

2、为实现上述目的，本技术提出的低反射率低透过率low-e镀膜玻璃，包括玻璃基片，还包括从内向外依次层叠在所述玻璃基片表面上的第一电介质层、第一阻挡层、第一功能层、第二功能层、第二阻挡层和第二电介质层；所述第一功能层为银层与氮化银层的复合层。

3、可选地，所述第一电介质层和/或所述第二电介质层选自氮化硅层、氮化锆层、氧化锆层、氧化钛层、氧化锡层、氧化铋层或氧化锌层中的至少一种。

4、可选地，所述第一阻挡层和/或所述第二阻挡层选自镍铬合金层、铬层、不锈钢层、氮化镍铬合金层或氮化铬层中的至少一种。

5、可选地，所述第二功能层选自铜层、氮化铜层或铜层与氮化铜层的复合层中的至少一种。p>

6、可选地，所述第一电介质层包括第一氮化硅层和氧化锌层，第一氮化硅层的厚度为15nm-25nm，所述氧化锌层的厚度为8nm-10nm。

7、可选地，所述第二电介质层包括第二氮化硅层和氧化锆层，所述第二氮化硅层的厚度为8nm-15nm，所述氧化锆层的厚度为4nm-5nm。

8、可选地，所述第一电介质层的厚度为25nm-35nm；

9、和/或，所述第一阻挡层的厚度为3nm-6nm；

10、和/或，所述第一功能层的厚度为8nm-12nm；

11、和/或，所述第二功能层的厚度为4nm-8nm；

12、和/或，所述第二阻挡层的厚度为5nm-10nm；

13、和/或，所述第二电介质层的厚度为12nm-20nm。

14、可选地，该低反射率低透过率low-e镀膜玻璃的可见光透过率为20-30％，可见光反射率为20-30％，辐射率为0.08-0.09，颜色坐标参数如下：y的范围为20-30，l*的范围为50-60，a*的范围为(+5)-(+7)，b*的范围为(+15)-(+20)。

15、本技术还提出一种中空玻璃，具有所述的低反射率低透过率low-e镀膜玻璃。

16、本技术技术方案通过采用的膜层结构，得到的low-e镀膜玻璃减少了金色单银low-e幕墙玻璃对周围的光污染，可见光透过率为20-30％，可见光反射率为20-30％，辐射率为0.08-0.09，颜色坐标参数如下：y的范围为20-30，l*的范围为50-60，a*的范围为(+5)-(+7)，b*的范围为(+15)-(+20)，有良好的节能性能。本技术还具有优良的抗机械性能，可满足大批量化生产，在美观和节能上均表现良好。

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【技术保护点】

1.一种低反射率低透过率LOW-E镀膜玻璃，包括玻璃基片，其特征在于，还包括从内向外依次层叠在所述玻璃基片表面上的第一电介质层、第一阻挡层、第一功能层、第二功能层、第二阻挡层和第二电介质层；所述第一功能层为银层与氮化银层的复合层。

2.如权利要求1所述的低反射率低透过率LOW-E镀膜玻璃，其特征在于，所述第一电介质层和/或所述第二电介质层选自氮化硅层、氮化锆层、氧化锆层、氧化钛层、氧化锡层、氧化铋层或氧化锌层中的至少一种。

3.如权利要求1所述的低反射率低透过率LOW-E镀膜玻璃，其特征在于，所述第一阻挡层和/或所述第二阻挡层选自镍铬合金层、铬层、不锈钢层、氮化镍铬合金层或氮化铬层中的至少一种。

4.如权利要求1所述的低反射率低透过率LOW-E镀膜玻璃，其特征在于，所述第二功能层选自铜层、氮化铜层或铜层与氮化铜层的复合层中的至少一种。

5.如权利要求1所述的低反射率低透过率LOW-E镀膜玻璃，其特征在于，所述第一电介质层包括第一氮化硅层和氧化锌层，第一氮化硅层的厚度为15nm-25nm，所述氧化锌层的厚度为8nm-10nm。

6.如权利要求1所述的低反射率低透过率LOW-E镀膜玻璃，其特征在于，所述第二电介质层包括第二氮化硅层和氧化锆层，所述第二氮化硅层的厚度为8nm-15nm，所述氧化锆层的厚度为4nm-5nm。

7.如权利要求1至6中任一项所述的低反射率低透过率LOW-E镀膜玻璃，其特征在于，所述第一电介质层的厚度为25nm-35nm；

8.如权利要求1至6中任一项所述的低反射率低透过率LOW-E镀膜玻璃，其特征在于，该低反射率低透过率LOW-E镀膜玻璃的可见光透过率为20-30％，可见光反射率为20-30％，辐射率为0.08-0.09，颜色坐标参数如下：Y的范围为20-30，L*的范围为50-60，a*的范围为(+5)-(+7)，b*的范围为(+15)-(+20)。

9.一种中空玻璃，其特征在于，具有如权利要求1至8任一项所述的低反射率低透过率LOW-E镀膜玻璃。

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【技术特征摘要】

1.一种低反射率低透过率low-e镀膜玻璃，包括玻璃基片，其特征在于，还包括从内向外依次层叠在所述玻璃基片表面上的第一电介质层、第一阻挡层、第一功能层、第二功能层、第二阻挡层和第二电介质层；所述第一功能层为银层与氮化银层的复合层。

2.如权利要求1所述的低反射率低透过率low-e镀膜玻璃，其特征在于，所述第一电介质层和/或所述第二电介质层选自氮化硅层、氮化锆层、氧化锆层、氧化钛层、氧化锡层、氧化铋层或氧化锌层中的至少一种。

3.如权利要求1所述的低反射率低透过率low-e镀膜玻璃，其特征在于，所述第一阻挡层和/或所述第二阻挡层选自镍铬合金层、铬层、不锈钢层、氮化镍铬合金层或氮化铬层中的至少一种。

4.如权利要求1所述的低反射率低透过率low-e镀膜玻璃，其特征在于，所述第二功能层选自铜层、氮化铜层或铜层与氮化铜层的复合层中的至少一种。

5.如权利要求1所述的低反射率低透过率low-e镀膜玻璃，其特征在于，所述第一电介质层包括第一氮化硅层和...

【专利技术属性】
技术研发人员：史建国，
申请(专利权)人：天津旗滨节能玻璃有限公司，
类型：新型
国别省市：